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상압 플라즈마장치 document_id 1020110016906

출원번호
1020110016906
분류
전기(H섹션)
문맥 (context)
[청구항 1] 반응가스가 주입되도록 주입구가 형성된 하우징 상기 하우징의 내부에서 복수층 및 복수열로 구비되는 고전압전극 상기 고전압전극을 개별적으로 감싸는 유전체 고전압을 발생시켜 상기 고전압전극에 인가하는 고전압발생부 상기 유전체의 양측에 인접하게 배치되는 접지전극; 및 복수층 및 복수열로로 구비되는 상기 고전압전극의 각 층 및 각 열에 위치한 각 고전압전극에 고전압이 선택적으로 인가되도록 제어하여 플라즈마의 밀도를 제어하는 제어부; 및 반응에 의해 생성되는 플라즈마의 밀도를 측정하여 제어부에 전달하는 센싱부 를 포함하는 상압 플라즈마장치 [청구항 6] 제1항에 있어서,상기 유전체에는 상기 고전압전극이복수개삽입되는것을특징으로 하는상압 플라즈마장치. [청구항 7] 제1항에 있어서,상기 접지전극은 상기 유전체의 양측에수직설치되는것을특징으로 하는상압 플라즈마장치. [청구항 8] 제7항에 있어서,상기 접지전극은 상기 유전체의 최상층 상부 또는 최하층 하부에 수평으로 연장되는연장부더형성되는것을특징으로 하는상압 플라즈마장치. [청구항 9] 제1항에 있어서,상기 유전체는 원형단면을 갖고, 소정길이를 갖는봉형태인것을특징으로 하는상압 플라즈마장치. [청구항 10] 제9항에 있어서,상기 유전체는 상기 고전압전극이 삽입되도록삽입홀형성되는것을특징으로 하는상압 플라즈마장치. [청구항 11] 제9항에 있어서,상기 접지전극에는 원형 단면을 갖는 상기 유전체와 동일한 곡률을 갖는반원형태의홈부가형성되는것을특징으로 하는상압 플라즈마장치.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
상압 플라즈마장치에서 플라즈마의 밀도를 제어하기 위해 제어부가 수행하는 역할은 무엇인가?
추론 과정 (compact_reasoning)
  1. 1과제 해석task_interpretation

    상압 플라즈마장치 내에서 제어부가 플라즈마 밀도를 제어하기 위해 수행하는 구체적인 역할을 파악해야 한다.

  2. 2정보 추출information_extraction

    청구항 1에서 제어부의 구성과 기능에 관한 설명을 추출한다.

    • 복수층 및 복수열로로 구비되는 상기 고전압전극의 각 층 및 각 열에 위치한 각 고전압전극에 고전압이 선택적으로 인가되도록 제어하여 플라즈마의 밀도를 제어하는 제어부
  3. 3근거 선택evidence_selection

    제어부의 역할과 직접적으로 관련된 구절을 선택한다.

    • 상기 고전압전극의 각 층 및 각 열에 위치한 각 고전압전극에 고전압이 선택적으로 인가되도록 제어하여 플라즈마의 밀도를 제어하는 제어부
  4. 4논리 통합logical_integration

    제어부가 고전압전극의 각 층과 열에 고전압을 선택적으로 인가함으로써 플라즈마 밀도를 제어한다는 인과관계를 연결한다.

    • 상기 고전압전극의 각 층 및 각 열에 위치한 각 고전압전극에 고전압이 선택적으로 인가되도록 제어하여 플라즈마의 밀도를 제어하는 제어부
  5. 5결론 도출conclusion_formulation

    제어부의 역할은 고전압전극의 각 층 및 각 열에 위치한 각 고전압전극에 고전압이 선택적으로 인가되도록 제어하는 것이다.

    • 상기 고전압전극의 각 층 및 각 열에 위치한 각 고전압전극에 고전압이 선택적으로 인가되도록 제어하여 플라즈마의 밀도를 제어하는 제어부
  6. 6답변 생성answer_generation

    추출된 정보를 바탕으로 질문에 대한 최종 답변을 작성한다.

    • 상기 고전압전극의 각 층 및 각 열에 위치한 각 고전압전극에 고전압이 선택적으로 인가되도록 제어하여 플라즈마의 밀도를 제어하는 제어부
최종 답변 (final_answer)
복수층 및 복수열로 구비되는 고전압전극의 각 층 및 각 열에 위치한 각 고전압전극에 고전압이 선택적으로 인가되도록 제어하여 플라즈마의 밀도를 제어한다.
핵심 해석 (core_interpretation)
본 발명은 고전압전극의 각 층과 열에 고전압을 선택적으로 인가하는 제어부를 통해 상압 플라즈마의 밀도를 정밀하게 조절하는 기술에 관한 것이다.