플라즈마 처리 장치 document_id 1020110086444

[청구항 1] 처리 가스가 공급된 처리 용기 내에 유도 전계를 발생시켜, 처리 가스를 플라즈마화하여 처리 용기 내의 탑재대에 탑재된 피처리체에 대해 플라즈마 처리를 행하는 플라즈마 처리 장치에 있어서, 상기 탑재대와 처리 분위기를 사이에 두고 대향하도록 상기 처리 분위기의 외측에 마련되고, 각각 길이가 동일하며, 서로 횡으로 평행하게 나열되어 구성된 복수의 직선 형상의 안테나 부재를 포함하는 안테나와, 상기 안테나에 고주파 전력을 공급하기 위한 고주파 전원부와, 상기 안테나의 일단측을 상기 고주파 전원부에 접속하기 위한 전원측 도전로와, 상기 안테나의 타단측을 접지점에 접속하기 위한 접지측 도전로 를 구비하되, 상기 각각 길이가 동일한 복수의 직선 형상의 안테나 부재는 서로 인접하고 또한 서로 병렬 접속되어 이루어지는 세그먼트를 형성하고, 상기 세그먼트가 복수 배치되어 있는 것 을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치 [청구항 2] 제 1 항에 있어서,상기 세그먼트는 짝수개 배치되고,상기 전원측 도전로 및 상기 접지측 도전로는, 각 세그먼트의 사이에서 상기 고주파 경로의 물리적 길이가 동일하게 되도록, 서로 인접하는 세그먼트끼리를 결선(結線)하여 토너먼트(tournament)의 조합을 정하는 선도(線圖) 형상이면서계단형상배선되어있는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 3] 제 1 항에 있어서,세그먼트에서상기안테나 부재의배열간격동일한것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 4] 제 1 항에 있어서,상기 안테나는,복수의 안테나 부재가 서로 제 1 간격으로 배열된 복수의 밀(密)한 부분 영역과,이들 밀한 부분 영역끼리의 사이에 마련되고, 복수의 안테나 부재가 서로 상기 제 1 간격보다 큰 제 2 간격으로 배열된 소(疎)한부분영역구비하는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 5] 제 4 항에 있어서,상기 제 1 간격은 상기 세그먼트를 구성하는 안테나 부재의 간격이고,상기 제 2 간격은 서로 인접하는세그먼트끼리간격인것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 6] 제 1 항에 있어서,상기 세그먼트끼리의 간격nan은조정자유구성되어있는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 7] 제 6 항에 있어서,상기 세그먼트의 일단 및 타단측은 상기 세그먼트의 배열 방향으로 이동 자유로운이동부접속되어있는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치.