기판 처리 시스템, 기판 처리 방법 및 컴퓨터 기억 매체 document_id 1020110124975

[청구항 2] 제1항에 있어서,상기 위치 조절 장치는, 상기 적재대에 보유 지지된 기판의 중심 위치를 검출하는 위치 검출부와,상기 적재대를 이동시키는 이동 기구를 구비하고,상기 위치 검출부에 의한 기판의 중심 위치의 검출 결과에 기초하여, 상기 이동 기구는, 상기 적재대를 연직축 주위로 회전시켜,수평방향의일방향이동시키는것을특징으로 하는,기판 처리 시스템. [청구항 3] 제1항 또는 제2항에 있어서,상기 보유 지지부는, 당해 보유 지지부와 기판 사이의 마찰력에 의해기판을보유지지하는것을특징으로 하는,기판 처리 시스템. [청구항 4] 제1항 또는 제2항에 있어서,상기 보유 지지부의 선단부에는, 진공 펌프에 접속되는 흡인구가 형성되고,상기 보유 지지부는, 상기 흡인구로부터의 흡인에 의해기판을보유지지하는것을특징으로 하는,기판 처리 시스템. [청구항 5] 제1항 또는 제2항에 있어서,상기 복수의 처리 장치는, 상기 위치 조절 장치에 의해 중심 위치가 조절된 기판 상에 도포액을 도포하는도포처리장치포함하는것을특징으로 하는,기판 처리 시스템. [청구항 6] 제5항에 있어서,상기 도포액은,폴리이미드용액인것을특징으로 하는,기판 처리 시스템. [청구항 7] 제5항에 있어서,상기 도포 처리 장치를 포함하는 처리 장치가 연직 방향으로 다단으로 적층된 처리 블록과,상기 위치 조절 장치와 다른 처리 장치가 연직 방향으로 다단으로 적층된 다른 처리 블록과,상기 다른 처리 블록의 상기 위치 조절 장치와 상기 다른 처리 장치에 대해 기판을 반송하는 다른 기판 반송 장치를 갖고,상기 다른 기판 반송 장치는, 기판의 직경보다 큰 곡률 반경으로 기판의 주연부를 따라 만곡하는 다른 아암부와, 상기 다른 아암부로부터 내측으로 돌출되어, 기판의 이면을 보유 지지하는 다른보유지지부구비한것을특징으로 하는,기판 처리 시스템. [청구항 8] 제7항에 있어서,보유 지지부는, 당해 다른 보유 지지부와 기판 사이의 마찰력에 의해기판을보유지지하는것을특징으로 하는,기판 처리 시스템. [청구항 9] 제7항에 있어서,보유 지지부의 선단부에는, 진공 펌프에 접속되는 흡인구가 형성되고,상기 다른 보유 지지부는, 상기 흡인구로부터의 흡인에 의해기판을보유지지하는것을특징으로 하는,기판 처리 시스템. [청구항 10] 제5항에 있어서,상기 복수의 처리 장치는,기판의 온도를 조절하는 온도 조절 장치와,상기 도포 처리 장치에 의해 상기 도포액이 도포된 기판을 열처리하여, 당해 기판 상에 도포막을 형성하는 열처리 장치와,상기 열처리 장치에 의해 형성된 기판의 주연부 상의 상기 도포막을 세정 제거하는 주연부 세정 장치를 포함하고,상기 기판 반송 장치는, 상기 온도 조절 장치, 상기 열처리 장치 및 상기 주연부 세정 장치에 대해기판반송하는것을특징으로 하는,기판 처리 시스템.