클램핑된 샤워헤드 전극 어셈블리 document_id 1020117000367

[청구항 1] 샤워헤드 전극 어셈블리의 외부 전극으로서, 상기 외부 전극은 내부 전극을 둘러싸고, 상기 샤워헤드 전극은 용량성 커플링된 플라즈마 프로세싱 챔버의 상부 전극을 포함하며, 상기 외부전극은, 환상 플레이트로서, 상기 환상 플레이트의 하부면에 플라즈마 노출면과 상기 환상 플레이트의 상부면에 탑재면을 가지며, 상기 상부면은 상부 내부 단차와 상부 외부 단차 사이에 평면 환상면을 포함하고, 상기 플라즈마 노출면은 내부 경사면 및 외부 경사면을 포함하는, 상기 환상 플레이트 상기 평면 환상면 내의 원주방향으로 이격된 복수 개의 포켓들로서, 상기 포켓들 내부에 상기 외부 전극을 상기 샤워헤드 전극 어셈블리의 백킹 플레이트에 클램핑하도록 적응된 로킹 핀들을 수용하도록 구성된, 상기 복수 개의 포켓들; 및 상기 상부면 상의 정렬 핀 보어들로서, 상기 정렬 핀 보어들은 상기 백킹 플레이트 내로 연장하는 정렬 핀들과 정렬되도록 구성되고, 상기 상부 외부 단차는 가드 링의 외부면이 상기 외부 전극의 외부면과 동일면이 되도록 상기 샤워헤드 전극 어셈블리의 상기 가드 링을 지지하도록 구성되는, 상기 정렬 핀 보어들을 포함하는, 샤워헤드 전극 어셈블리의 외부 전극 [청구항 3] 제 1 항에 있어서,부면의 평면 환상면 내의 가스 홀들을 더 포함하고, 상기 가스 홀들은 상기 챔버의 진공 압력 측정치들을 제공하도록 적응되고, 상기 평면 환상면은 상기 내부 경사면과 상기 외부 경사면 사이에서 연장되고, 상기 외부 경사면은 상기 평면 환상면과 30도보다 작은 각도를 형성하며, 상기 내부 경사면은 상기 평면 환상면과 30도보다 큰 각도형성하는,샤워헤드 전극 어셈블리의 외부 전극. [청구항 4] 용량성 커플링된 플라즈마 프로세싱 챔버의 샤워헤드 전극 어셈블리로서, 상기 플라즈마 프로세싱 챔버의 온도 제어된 최상부 벽에 의해 지지되는 열 제어 플레이트로서, 상기 열 제어 플레이트는 플라즈마 프로세싱 챔버에서 프로세싱될 웨이퍼보다 큰 직경을 갖고, 상기 열 제어 플레이트의 하부면에 적어도 하나의 가스 플레넘을 포함하는, 상기 열 제어 플레이트 상기 열 제어 플레이트에 의해 지지되는 백킹 플레이트로서, 상기 백킹 플레이트는 상기 열 제어 플레이트보다 작은 직경, 수직으로 관통하여 연장되고 적어도 하나의 가스 플레넘과 연통하는 가스 통로들, 및 상기 백킹 플레이트의 외주부 내로 수평으로 연장하는 보어 내의 회전가능한 캠 록들을 갖는, 상기 백킹 플레이트 상기 백킹 플레이트를 둘러싸는 가드 링으로서, 상기 가드 링은 상기 가드 링을 통과하는 적어도 하나의 수평으로 연장하는 액세스 보어를 포함하고, 상기 가드 링은 상기 액세스 보어를 적어도 하나의 상기 캠 록과 정렬하기 위해 상기 백킹 플레이트 주위로 회전가능한, 상기 가드 링 내부 전극으로서, 상기 내부 전극은 상기 내부 전극을 수직으로 관통하여 연장하여 상기 백킹 플레이트 내의 상기 가스 통로들과 유체 소통하는 가스 통로들을 갖고, 상기 내부 전극의 외주부는 내부 및 외부 단차들을 포함하고, 상기 외부 단차는 상기 내부 단차와 상기 백킹 플레이트를 대향하는 상기 내부 전극의 표면 사이에 위치하는, 상기 내부 전극 상기 내부 전극의 상기 외부 단차 위에 놓인 내부 플랜지를 갖는 클램프 링으로서, 상기 내부 전극의 상기 외부 단차와 상기 내부 플랜지 사이에 선택적 압축 링을 갖고, 상기 클램프 링은 수직으로 연장하는 단차부가 형성된 개구들을 포함하고, 상기 단차부가 형성된 개구들은 상기 백킹 플레이트의 나사산이 있는 홀들과 정렬되며, 상기 단차부가 형성된 개구들 내의 패스너들은 상기 클램프 링을 상기 백킹 플레이트에 부착시키는, 상기 클램프 링; 및 상기 내부 전극을 둘러싸고 상기 캠 록과 맞물리고 수직으로 연장하는 로킹 핀들을 포함하는 외부 전극으로서, 상기 외부 전극은 상기 가드 링을 지지하고 상기 로킹 핀들을 상기 캠 록들로부터 릴리징함으로써 제거할 수 있는, 상기 외부 전극을 포함하는, 샤워헤드 전극 어셈블리 [청구항 5] 제 4 항에 있어서,상기 백킹 플레이트는 상기 외부 전극 내의 상기 로킹 핀들과 정렬된 수직으로 연장하는 보어들 및 축 방향으로 연장하는 보어들과 연통하는 수평으로 연장하는 보어들을 포함하고, 상기 캠 록들은 상기 수평으로 연장하는 보어들 내에 탑재된 회전가능한 캠샤프트들을 포함하고, 상기 로킹 핀들은 상기 로킹 핀들의 자유 단들에서 확장된 헤드들을 갖는 샤프트들 및 소켓들 내에 위치한 상기 로킹 핀들의 베이스들을 포함하고, 상기 캠샤프트들은 상기 외부 전극을 상기 백킹 플레이트에 기계적으로 클램핑하도록 상기 로킹 핀들의 상기 헤드들과 맞물리도록 적응된 캠 표면포함하는,샤워헤드 전극 어셈블리. [청구항 6] 제 5 항에 있어서,상기 로킹 핀들은 상기 백킹 플레이트와 상기 외부 전극의 차별적인 열 팽창을 수용하도록 상기 소켓들 내에서 수직으로및수평이동할수있는,샤워헤드 전극 어셈블리. [청구항 7] 제 4 항에 있어서,상기 클램프 링은 상기 클램프 링의 열 팽창을 수용하기 위한 열 팽창 영역들포함하는,샤워헤드 전극 어셈블리. [청구항 8] 제 4 항에 있어서,상기 내부 전극은 단결정 실리콘의 플레이트이고 상기 백킹 플레이트는 알루미늄 합금플레이트인,샤워헤드 전극 어셈블리. [청구항 9] 제 4 항에 있어서,상기 백킹 플레이트의 하부면에 탑재된 잭스크류들을 더 포함하고, 상기 잭스크류들은 상기 내부 전극을 분해하는 동안에 상기 내부 전극을 상기 백킹 플레이트로부터 분리하도록 상기 잭스크류들 상에서 상기 내부 전극의 상부면에 대해 상기 플랜지들을 움직이기 위해 회전가능한,샤워헤드 전극 어셈블리. [청구항 10] 제 4 항에 있어서,상기 열 제어 플레이트는 상기 백킹 플레이트 내의 상기 가스 통로들과 연통하는 가스 플레넘들을 규정하는, 상기 열 제어 플레이트의 하부면의 환상 돌출부들을 포함하고, 적어도 2 개의 열 인터페이스 링들이 상기 내부 전극과 상기 백킹 플레이트사이에 있는,샤워헤드 전극 어셈블리. [청구항 11] 제 10 항에 있어서,상기 백킹 플레이트와 상기 샤워헤드 전극 사이의 가스 시일을 더 포함하고, 상기 가스 시일은 상기 가스 통로들 및 가장 바깥쪽의 열 인터페이스 링의 외부위치하는,샤워헤드 전극 어셈블리.