문맥 (context)
[청구항 1]
기판의 플라즈마 프로세싱 동안 플라즈마 프로세싱 챔버 내에 플라즈마 를 한정하기 위해 구성된 이동식 플라즈마 한정 구조체로서,
상기 플라즈마 를 둘러싸도록 구성된 이동식 플라즈마-대면 (plasma-facing) 구조체; 및
상기 이동식 플라즈마-대면 구조체의 외부에 배치되고, 상기 이동식 플라즈마-대면 구조체와 함께 단일 유닛으로서, 상기 기판의 핸들링을 용이하게 하기 위해 전개되고 후퇴하도록 구성된 이동식 도전성 구조체를 포함하며,
상기 이동식 도전성 구조체는 상기 플라즈마 프로세싱 동안 무선 주파수 (rf) 접지되고, 상기 이동식 플라즈마-대면 구조체는 상기 플라즈마 프로세싱 동안 상기 플라즈마와 상기 이동식 도전성 구조체 사이에 배치되어 상기 플라즈마로부터의 rf 전류가 상기 플라즈마 프로세싱 동안 상기 이동식 플라즈마-대면 구조체를 통해 상기 이동식 도전성 구조체로 흐르도록 하고,
상기 이동식 플라즈마-대면 구조체는 원통형의 구조체이며, 상기 플라즈마에 의한 에칭에 내성이 있는 물질로 형성되는, 이동식 플라즈마 한정 구조체
[청구항 3]
제 1 항에 있어서,상기 이동식 플라즈마-대면 구조체는 석영형성되는,이동식 플라즈마 한정 구조체.
[청구항 4]
제 1 항에 있어서,상기 이동식 플라즈마-대면구조체도핑된형성되는,이동식 플라즈마 한정 구조체.
[청구항 5]
제 1 항에 있어서,상기 이동식 플라즈마-대면 구조체는 상기 플라즈마 프로세싱 동안 상기 이동식 도전성 구조체가 상기 플라즈마로 노출되는 것을차폐하도록구성되는,이동식 플라즈마 한정 구조체.
[청구항 6]
제 1 항에 있어서,상기 플라즈마 프로세싱 동안 배기 가스의 제거를 용이하게 하기 위해 상기 이동식 플라즈마-대면 구조체 및 상기 이동식 도전성 구조체 모두 내에 적어도 하나의 슬롯형성되는,이동식 플라즈마 한정 구조체.
[청구항 7]
제 6 항에 있어서,상기 이동식 플라즈마-대면 구조체는 원통형의 구조체이고, 상기 적어도 하나의 슬롯은상기원통형구조체의축따라배치되는,이동식 플라즈마 한정 구조체.
[청구항 8]
제 1 항에 있어서,수있는 rf 컨택트를 더 포함하며, 상기 끊어질 수 있는 rf 컨택트는 상기 이동식 도전성 구조체가 전개될 때 상기 접지로의 경로가 상기 끊어질 수 있는 rf 컨택트를 통해형성되도록배치되는,이동식 플라즈마 한정 구조체.
[청구항 9]
플라즈마 프로세싱 챔버를 구비한 플라즈마 프로세싱 시스템으로서,
상기 플라즈마 프로세싱 챔버 내의 기판의 플라즈마 프로세싱 동안 생성되는 플라즈마 를 둘러싸도록 구성된 이동식 플라즈마-대면 구조체
상기 이동식 플라즈마-대면 구조체의 외부에 배치되고, 상기 이동식 플라즈마-대면 구조체와 함께 단일 유닛으로서, 상기 기판의 핸들링을 용이하게 하기 위해 전개되고 후퇴하도록 구성된 이동식 도전성 구조체로서, 상기 이동식 도전성 구조체는 상기 플라즈마 프로세싱 동안 무선 주파수 (rf) 접지되고, 상기 이동식 플라즈마-대면 구조체는 상기 플라즈마 프로세싱 동안 상기 플라즈마 및 상기 이동식 도전성 구조체 사이에 배치되어 상기 플라즈마로부터의 rf 전류가 상기 플라즈마 프로세싱 동안 상기 이동식 플라즈마-대면 구조체를 통해 상기 이동식 도전성 구조체로 흐르도록 하는, 상기 이동식 도전성 구조체; 및
상기 이동식 도전성 구조체에 결합되고, 상기 이동식 도전성 구조체가 상기 rf 전류에 접지로의 저 임피던스 경로를 제공하는 동안 전개되고 후퇴될 때 상기 이동식 도전성 구조체를 수용하는 도전성 스트랩 세트를 포함하고,
상기 이동식 플라즈마-대면 구조체는 원통형의 구조체이고, 상기 플라즈마에 의한 에칭에 내성이 있는 물질로 형성되는, 플라즈마 프로세싱 시스템
[청구항 11]
제 9 항에 있어서,상기 이동식 플라즈마-대면 구조체는 석영형성되는,플라즈마 프로세싱 시스템.
[청구항 12]
제 9 항에 있어서,상기 이동식 플라즈마-대면구조체도핑된형성되는,플라즈마 프로세싱 시스템.
[청구항 13]
제 9 항에 있어서,상기 이동식 플라즈마-대면 구조체는 상기 플라즈마 프로세싱 동안 상기 이동식 도전성 구조체가 상기 플라즈마로 노출되는 것을차폐하도록구성되는,플라즈마 프로세싱 시스템.
[청구항 14]
제 9 항에 있어서,상기 플라즈마 프로세싱 동안 배기 가스의 제거를 용이하게 하기 위해 상기 이동식 플라즈마-대면 구조체 및 상기 이동식 도전성 구조체 양쪽에 적어도 하나의 슬롯형성되는,플라즈마 프로세싱 시스템.
[청구항 15]
제 14 항에 있어서,상기 이동식 플라즈마-대면 구조체는 원통형의 구조체이고, 상기 적어도 하나의 슬롯은상기원통형구조체의축따라배치되는,플라즈마 프로세싱 시스템.
[청구항 16]
제 9 항에 있어서,수있는 rf 컨택트를 더 포함하며, 상기 끊어질 수 있는 rf 컨택트는 상기 이동식 도전성 구조체가 전개될 때 상기 접지로의 상기 저 임피던스 경로가 상기 끊어질 수 있는 rf 컨택트를 통해형성되도록배치되는,플라즈마 프로세싱 시스템.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
이동식 플라즈마 한정 구조체에서 플라즈마로부터 발생하는 rf 전류가 이동식 도전성 구조체로 흐르도록 하기 위해 이동식 플라즈마-대면 구조체가 수행하는 역할과 그 배치 관계는 무엇인가?
추론 과정 (compact_reasoning)
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1과제 해석
task_interpretation이동식 플라즈마-대면 구조체가 rf 전류를 이동식 도전성 구조체로 흐르게 하는 역할과 두 구조체 간의 배치 관계를 파악해야 한다.
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2정보 추출
information_extraction청구항 1에서 플라즈마-대면 구조체는 플라즈마와 이동식 도전성 구조체 사이에 배치되며, rf 전류가 이를 통해 흐르도록 한다는 내용을 추출한다.
- 상기 이동식 플라즈마-대면 구조체는 상기 플라즈마 프로세싱 동안 상기 플라즈마와 상기 이동식 도전성 구조체 사이에 배치되어 상기 플라즈마로부터의 rf 전류가 상기 플라즈마 프로세싱 동안 상기 이동식 플라즈마-대면 구조체를 통해 상기 이동식 도전성 구조체로 흐르도록 하고
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3근거 선택
evidence_selection역할과 배치 관계를 명시한 핵심 구절을 선택한다.
- 상기 이동식 플라즈마-대면 구조체는 상기 플라즈마 프로세싱 동안 상기 플라즈마와 상기 이동식 도전성 구조체 사이에 배치되어 상기 플라즈마로부터의 rf 전류가 상기 플라즈마 프로세싱 동안 상기 이동식 플라즈마-대면 구조체를 통해 상기 이동식 도전성 구조체로 흐르도록 하고
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4논리 통합
logical_integration배치 관계(플라즈마와 도전성 구조체 사이)를 바탕으로, rf 전류가 플라즈마-대면 구조체를 매개로 하여 도전성 구조체로 전달되는 기능적 역할을 연결한다.
- 상기 이동식 플라즈마-대면 구조체는 상기 플라즈마 프로세싱 동안 상기 플라즈마와 상기 이동식 도전성 구조체 사이에 배치되어
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5결론 도출
conclusion_formulation플라즈마-대면 구조체는 플라즈마와 이동식 도전성 구조체 사이에 위치하며, 플라즈마로부터 발생하는 rf 전류가 자신을 통해 이동식 도전성 구조체로 흐르도록 하는 역할을 수행한다.
- 상기 이동식 플라즈마-대면 구조체는 상기 플라즈마 프로세싱 동안 상기 플라즈마와 상기 이동식 도전성 구조체 사이에 배치되어 상기 플라즈마로부터의 rf 전류가 상기 플라즈마 프로세싱 동안 상기 이동식 플라즈마-대면 구조체를 통해 상기 이동식 도전성 구조체로 흐르도록 하고
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6답변 생성
answer_generation질문에 대해 역할과 배치 관계를 포함하여 최종 답변을 작성한다.
- 상기 이동식 플라즈마-대면 구조체는 상기 플라즈마 프로세싱 동안 상기 플라즈마와 상기 이동식 도전성 구조체 사이에 배치되어 상기 플라즈마로부터의 rf 전류가 상기 플라즈마 프로세싱 동안 상기 이동식 플라즈마-대면 구조체를 통해 상기 이동식 도전성 구조체로 흐르도록 하고
최종 답변 (final_answer)
이동식 플라즈마-대면 구조체는 플라즈마 프로세싱 동안 상기 플라즈마와 상기 이동식 도전성 구조체 사이에 배치되며, 플라즈마로부터 발생하는 rf 전류가 상기 이동식 플라즈마-대면 구조체를 통해 상기 이동식 도전성 구조체로 흐르도록 하는 역할을 수행한다.
핵심 해석 (core_interpretation)
이동식 플라즈마-대면 구조체는 플라즈마와 도전성 구조체 사이에서 rf 전류의 전달 경로 역할을 수행하며, 동시에 플라즈마로부터 도전성 구조체를 보호하는 배치 관계를 가진다.