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플라즈마 제트 생성 방법 및 플라즈마 소스 document_id 1020117028210

출원번호
1020117028210
분류
전기(H섹션)
문맥 (context)
[청구항 3] 제 2 항에 있어서,여기 면은 적어도 일부 영역에서 플라즈마 챔버에 대해 오목하게형성되는것을특징으로 하는플라즈마 소스. [청구항 4] 제 2 항 또는 제 3 항에 있어서,여기 면은 적어도 일부 영역에서 플라즈마 챔버에 대해형성되는것을특징으로 하는플라즈마 소스. [청구항 5] 제 2 항 내지 제 4 항 중의 어느 한 항에 있어서,여기 면의 적어도 일부는평판형형성되는것을특징으로 하는플라즈마 소스. [청구항 6] 제 2 항 내지 제 5 항 중의 어느 한 항에 있어서,추출 전극의 적어도 일부는평면적형성되는것을특징으로 하는플라즈마 소스. [청구항 7] 제 2 항 내지 제 6 항 중의 어느 한 항에 있어서,자기 장치는 바람직하게는 중공 전극을 구비한원형또는직사각형마그네트론형성되는것을특징으로 하는플라즈마 소스. [청구항 8] 제 2 항 내지 제 7 항 중의 어느 한 항에 있어서,여기 전극은 베이스 영역과 측벽들을 구비한 단지 모양으로 형성되고, 적어도 그 측벽들이플라즈마챔버돌출하는것을특징으로 하는플라즈마 소스. [청구항 9] 제 2 항 내지 제 8 항 중의 어느 한 항에 있어서,여기 전극에 부속된 스크린 명을 갖는암실스크린마련되는것을특징으로 하는플라즈마 소스. [청구항 10] 제 2 항 내지 제 9 항 중의 어느 한 항에 있어서,여기 면의 일부 영역은 여기 전극의 벽의 내측 면에 배치되거나 그 내측 면을 형성하고, 벽의 외측 면은 적어도 부분 영역에서 암실 스크린의 스크린 면에 의해둘러싸이는것을특징으로 하는플라즈마 소스. [청구항 11] 제 9 항 또는 제 10 항에 있어서,추출 전극의 면적의 크기 및 한편으로 플라즈마와 접촉하는 플라즈마 전극 면의 크기와 다른 한편으로 여기 면의 크기는 플라즈마가 시간 평균하여 추출 전극에 비해 더 높고 플라즈마 양이온들을 가속하는전위선택되는것을특징으로 하는플라즈마 소스. [청구항 12] 제 9 항 또는 제 10 항에 있어서,플라즈마 용기의 벽의 적어도 일부는 암실 스크린의 부분들 및/또는 여기 전극의 부분들에 의해형성되는것을특징으로 하는플라즈마 소스. [청구항 13] 제 2 항 내지 제 12 항 중의 어느 한 항에 있어서,자기장을 변경하기 위한장치마련되는것을특징으로 하는플라즈마 소스. [청구항 14] 제 13 항에 있어서,여기 면에 대해 적어도 하나의 자기 n극 또는 자기 s극의 위치를 변경할 수 있는자기장변경장치마련되는것을특징으로 하는플라즈마 소스. [청구항 15] 제 13 항 또는 제 14 항에 있어서,적어도 하나의 자기n극 또는 자기 s극의 자기장 세기를 변경할 수 있는장치마련되는것을특징으로 하는플라즈마 소스.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
플라즈마 소스에서 암실 스크린과 여기 전극의 벽면은 서로 어떠한 배치 관계를 가지며, 벽의 외측 면은 무엇에 의해 둘러싸여 있는가?
추론 과정 (compact_reasoning)
  1. 1과제 해석task_interpretation

    암실 스크린과 여기 전극의 벽면 사이의 배치 관계 및 벽의 외측 면이 무엇에 의해 둘러싸여 있는지 파악해야 한다.

  2. 2정보 추출information_extraction

    청구항 10에서 여기 면의 일부 영역이 여기 전극의 벽의 내측 면에 배치되거나 형성된다는 점과 벽의 외측 면에 대한 설명을 추출한다.

    • 여기 면의 일부 영역은 여기 전극의 벽의 내측 면에 배치되거나 그 내측 면을 형성하고, 벽의 외측 면은 적어도 부분 영역에서 암실 스크린의 스크린 면에 의해둘러싸이는것을특징으로 하는
  3. 3근거 선택evidence_selection

    배치 관계와 둘러싸인 대상을 명시한 청구항 10의 구절을 핵심 근거로 선택한다.

    • 여기 면의 일부 영역은 여기 전극의 벽의 내측 면에 배치되거나 그 내측 면을 형성하고, 벽의 외측 면은 적어도 부분 영역에서 암실 스크린의 스크린 면에 의해둘러싸이는것을특징으로 하는
  4. 4논리 통합logical_integration

    여기 면의 일부가 여기 전극 벽의 내측 면에 배치/형성된다는 점과 벽의 외측 면은 암실 스크린의 스크린 면에 의해 둘러싸인다는 정보를 결합한다.

    • 여기 면의 일부 영역은 여기 전극의 벽의 내측 면에 배치되거나 그 내측 면을 형성하고, 벽의 외측 면은 적어도 부분 영역에서 암실 스크린의 스크린 면에 의해둘러싸이는것을특징으로 하는
  5. 5결론 도출conclusion_formulation

    질문에 따라 배치 관계(여기 면의 일부가 벽의 내측 면에 배치되거나 내측 면을 형성)와 둘러싸인 대상(암실 스크린의 스크린 면)을 정리한다.

    • 여기 면의 일부 영역은 여기 전극의 벽의 내측 면에 배치되거나 그 내측 면을 형성하고, 벽의 외측 면은 적어도 부분 영역에서 암실 스크린의 스크린 면에 의해둘러싸이는것을특징으로 하는
  6. 6답변 생성answer_generation

    추출된 정보를 바탕으로 질문에 대한 직접적인 답변을 작성한다.

    • 여기 면의 일부 영역은 여기 전극의 벽의 내측 면에 배치되거나 그 내측 면을 형성하고, 벽의 외측 면은 적어도 부분 영역에서 암실 스크린의 스크린 면에 의해둘러싸이는것을특징으로 하는
최종 답변 (final_answer)
여기 면의 일부 영역은 여기 전극의 벽의 내측 면에 배치되거나 그 내측 면을 형성하며, 벽의 외측 면은 적어도 부분 영역에서 암실 스크린의 스크린 면에 의해 둘러싸여 있다.
핵심 해석 (core_interpretation)
플라즈마 소스에서 여기 전극의 구조적 배치와 암실 스크린의 스크린 면이 결합하여 여기 전극의 벽면을 감싸는 구성을 통해 플라즈마 환경을 형성함을 나타낸다.