양극산화처리된 샤워헤드 document_id 1020117029814

[청구항 2] 제 1 항에 있어서,상기 외측부는 처리 과정중 서셉터를 대면하도록 구성된 제 1 표면, 상기 제 1 표면의 반대편의 제 2 표면, 및 상기 제 1 표면과 상기 제 2 표면을 연결하는 에지 표면을 가진 플랜지부를 더 포함하고, 상기 양극산화처리된 코팅은 상기 샤워헤드 본체의 상기 플랜지부 위에 배치되며,상기 양극산화처리된 코팅은 상기 에지 표면의 적어도 일부를 덮고,상기 양극산화처리된 코팅은 상기 샤워헤드 본체의 중앙으로부터 제 1 거리에 있는 제 1 위치로부터 연장하며,상기 양극산화처리된 코팅은 상기 샤워헤드 본체의 중앙으로부터 상기 제 1 거리보다 더 큰 제 2 거리에 있는 제 2 위치로부터 연장하고, 상기 양극산화처리된 코팅은 상기 제 1 위치 및 상기 제 2 위치 모두로부터 상기 에지 표면의 적어도 일부를 덮고 있는 상기 양극산화처리된 코팅연장하는,가스 분배 샤워헤드. [청구항 3] 제 1 항에 있어서,상기 샤워헤드 본체는 알루미늄을 포함하고, 상기 양극산화처리된 코팅은 al2o3, sio2, 폴리테트라플루오로에틸렌 및 그들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 재료를 포함하며, 상기 양극산화처리된 코팅은 약 50 마이크론 내지 약 63 마이크론 사이의 두께가진,가스 분배 샤워헤드. [청구항 4] 제 1 항에 있어서,상기 양극산화처리된 코팅은 al2o3, sio2, 폴리테트라플루오로에틸렌 및 그들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 재료를 포함하며, 상기 양극산화처리된 코팅은 약 50 마이크론 내지 약 63 마이크론 사이의 두께가진,가스 분배 샤워헤드. [청구항 5] 제 1 항에 있어서,상기 양극산화처리된 코팅이 상기 중앙부존재하지 않는,가스 분배 샤워헤드. [청구항 7] 제 6 항에 있어서,상기 셰도우 프레임은포함하는,플라즈마 처리 장치. [청구항 8] 제 6 항에 있어서,상기 양극산화처리된 코팅은 al2o3, sio2, 폴리테트라플루오로에틸렌 및 그들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 재료를 포함하며, 상기 샤워헤드는 알루미늄포함하는,플라즈마 처리 장치. [청구항 9] 제 6 항에 있어서,상기 양극산화처리된 코팅은 약 50 마이크론 내지 약 63 마이크론 사이의 두께가진,플라즈마 처리 장치. [청구항 10] 제 6 항에 있어서,트랩들은 제 1 축을 따라 대칭적으로 배치되고, 상기 제 1 축에 수직한 제 2 축을 따라 비대칭적배치된,플라즈마 처리 장치. [청구항 12] 제 11 항에 있어서,상기 가스 분배 샤워헤드와 상기 서셉터 사이에 배치된 샤워헤드를 더 포함하고, 셰도우 프레임이 세라믹 재료를 포함하며, 상기 셰도우 프레임포함하는,플라즈마 강화 화학기상증착 장치. [청구항 13] 제 11 항에 있어서,상기 양극산화처리된 코팅은 al2o3, sio2, 폴리테트라플루오로에틸렌 및 그들의 조합으로 이루어진 군으로부터 선택된 재료를 포함하며, 상기 샤워헤드는 알루미늄포함하는,플라즈마 강화 화학기상증착 장치. [청구항 14] 제 11 항에 있어서,상기 양극산화처리된 코팅은 약 50 마이크론 내지 약 63 마이크론 사이의 두께가진,플라즈마 강화 화학기상증착 장치. [청구항 15] 제 11 항에 있어서,트랩들은 제 1 축을 따라 대칭적으로 배치되고, 상기 제 1 축에 수직한 제 2 축을 따라 비대칭적배치된,플라즈마 강화 화학기상증착 장치.