플라즈마를 생성하지 않고 플라즈마 프로세싱 시스템 레디니스를 판정 document_id 1020117031584

[청구항 2] 제 1 항에 있어서,상기 테스트 프로그램은,상기 수학적 모델에 적어도 제 1 캐패시턴스, 제 2 캐패시턴스, 및 인덕턴스를 포함시키기 위한 코드;상기 제 1 캐패시턴스를 상기 플라즈마 프로세싱 챔버와 연관시키기 위한 코드; 상기 제 2 캐패시턴스를 트랜스미션 로드 (transmission rod) 와 연관시키기 위한 코드로서, 상기 트랜스미션 로드는 상기 플라즈마 프로세싱 챔버와 전력 생성기 사이에 커플링되는, 상기 제 2 캐패시턴스를 트랜스미션 로드와 연관시키기 위한 코드; 및상기 인덕턴스를 상기 트랜스미션 로드와 연관시키기 위한 코드를 더 포함하고,상기 전기적 모델 파라미터 값들의 세트는 상기 제 1 캐패시턴스의 값, 상기 제 2 캐패시턴스의 값, 및 상기 인덕턴스의 값포함하는,테스트 시스템. [청구항 3] 제 2 항에 있어서,상기 테스트 프로그램은,상기 제 1 캐패시턴스의 값이 상기 베이스라인 모델 파라미터 값 정보의 세트에 정의된 미리결정된 캐패시턴스 값 범위 밖에 있는 경우, 상기 플라즈마 프로세싱 챔버는 플라즈마 처리할 준비가 되어 있지 않다고 판정하기 위한 코드;상기 제 1 캐패시턴스의 값이 상기 미리결정된 캐패시턴스 값 범위 밖에 있는 경우, 상기 플라즈마 프로세싱 챔버에 문제가 있는 것으로서 나타내기 위한 코드; 및상기 제 2 캐패시턴스의 값 및 상기 인덕턴스의 값 중 적어도 하나가 상기 베이스라인 모델 파라미터 값 정보의 세트에 정의된 적어도 하나의 미리결정된 파라미터 값 범위 밖에 있는 경우, 상기 트랜스미션 로드에 문제가 있는 것으로서 나타내기 위한 코드더 포함하는,테스트 시스템. [청구항 4] 제 1 항에 있어서,상기 테스트 프로그램은,상기 수학적 모델에 적어도 캐패시턴스, 저항, 및 인덕턴스를 포함시키기 위한 코드;상기 캐패시턴스를 상기 플라즈마 프로세싱 챔버와 연관시키기 위한 코드;상기 저항을 커플링 메커니즘과 연관시키기 위한 코드로서, 상기 커플링 메커니즘은 상기 플라즈마 프로세싱 챔버와 전력 생성기 사이에 커플링되는, 상기 저항을 커플링 메커니즘과 연관시키기 위한 코드; 및상기 인덕턴스를 상기 커플링 메커니즘과 연관시키기 위한 코드를 더 포함하고,상기 전기적 모델 파라미터 값들의 세트는 상기 캐패시턴스의 값, 상기 저항의 값, 및 상기 인덕턴스의 값포함하는,테스트 시스템. [청구항 5] 제 4 항에 있어서,상기 테스트 프로그램은,상기 캐패시턴스의 값이 상기 베이스라인 모델 파라미터 값 정보의 세트에 정의된 미리결정된 캐패시턴스 값 범위 밖에 있는 경우, 상기 플라즈마 프로세싱 챔버는 플라즈마 처리할 준비가 되어 있지 않다고 판정하기 위한 코드;상기 캐패시턴스의 값이 상기 미리결정된 캐패시턴스 값 범위 밖에 있는 경우, 상기 플라즈마 프로세싱 챔버에 문제가 있는 것으로서 나타내기 위한 코드; 및상기 저항의 값 및 상기 인덕턴스의 값 중 적어도 하나가 상기 베이스라인 모델 파라미터 값 정보의 세트에 정의된 적어도 하나의 미리결정된 파라미터 값 범위 밖에 있는 경우, 상기 커플링 메커니즘에 문제가 있는 것으로서 나타내기 위한 코드더 포함하는,테스트 시스템. [청구항 6] 제 1 항에 있어서,상기 테스트 프로그램은,적어도 제 1 주파수를 갖는 제 1 전류 및 제 2 주파수를 갖는 제 2 전류가 상기 플라즈마 프로세싱 챔버에 이용 가능한지 여부를 판정하기 위한 코드;적어도 상기 제 1 주파수를 갖는 상기 제 1 전류 및 상기 제 2 주파수를 갖는 상기 제 2 전류가 상기 플라즈마 프로세싱 챔버에 이용 가능한 경우, 상기 플라즈마 프로세싱 챔버를 동작시키기 위한 다중 단계 레시피를 생성하기 위한 코드로서, 상기 다중 단계 레시피는 적어도 제 1 동작 단계 및 제 2 동작 단계를 포함하고, 상기 제 1 동작 단계는 상기 제 1 주파수와 연관되고, 상기 제 2 동작 단계는 상기 제 2 주파수와 연관되는, 상기 플라즈마 프로세싱 챔버를 동작시키기 위한 다중 단계 레시피를 생성하기 위한 코드; 적어도 상기 제 1 동작 단계 및 상기 제 2 동작 단계로부터 샘플 데이터의 세트를 수집하기 위한 코드;상기 샘플 데이터의 세트 및 상기 수학적 모델을 이용하여 피팅 (fit) 된 파라미터 값들의 세트를 계산하기 위한 코드; 및상기 베이스라인 모델 파라미터 값 정보에 상기 피팅된 파라미터 값들의 세트를 포함시키기 위한 코드더 포함하는,테스트 시스템. [청구항 7] 제 6 항에 있어서,상기 테스트 프로그램은,단지 하나의 단일 주파수가 상기 플라즈마 프로세싱 챔버에 이용 가능한 경우, 상기 플라즈마 프로세싱 챔버를 동작시키기 위한 단일 단계 레시피를 생성하기 위한 코드로서, 상기 단일 단계 레시피는 상기 단일 주파수와 연관된 최대 하나의 단일 동작 단계를 포함하는, 상기 플라즈마 프로세싱 챔버를 동작시키기 위한 단일 단계 레시피를 생성하기 위한 코드;상기 단일 동작 단계로부터 샘플 데이터의 제 2 세트를 수집하기 위한 코드;상기 샘플 데이터의 제 2 세트 및 상기 수학적 모델을 이용하여 피팅된 파라미터 값들의 제 2 세트를 계산하기 위한 코드; 및상기 베이스라인 모델 파라미터 값 정보에 상기 피팅된 파라미터 값들의 제 2 세트를 포함시키기 위한 코드더 포함하는,테스트 시스템. [청구항 9] 제 8 항에 있어서,상기 테스트 프로그램은,상기 수학적 모델에 적어도 제 1 캐패시턴스, 제 2 캐패시턴스, 및 인덕턴스를 포함시키기 위한 코드;상기 제 1 캐패시턴스를 상기 플라즈마 프로세싱 챔버와 연관시키기 위한 코드;상기 제 2 캐패시턴스를 트랜스미션 로드 (transmission rod) 와 연관시키기 위한 코드로서, 상기 트랜스미션 로드는 상기 플라즈마 프로세싱 챔버와 전력 생성기 사이에 커플링되는, 상기 제 2 캐패시턴스를 트랜스미션 로드와 연관시키기 위한 코드; 및상기 인덕턴스를 상기 트랜스미션 로드와 연관시키기 위한 코드를 더 포함하고,상기 전기적 모델 파라미터 값들의 세트는 상기 제 1 캐패시턴스의 값, 상기 제 2 캐패시턴스의 값, 및 상기 인덕턴스의 값포함하는,플라즈마 프로세싱 시스템. [청구항 10] 제 9 항에 있어서,상기 테스트 프로그램은,상기 제 1 캐패시턴스의 값이 상기 베이스라인 모델 파라미터 값 정보의 세트에 정의된 미리결정된 캐패시턴스 값 범위 밖에 있는 경우, 상기 플라즈마 프로세싱 시스템은 플라즈마 처리할 준비가 되어 있지 않다고 판정하기 위한 코드;상기 제 1 캐패시턴스의 값이 상기 미리결정된 캐패시턴스 값 범위 밖에 있는 경우, 상기 플라즈마 프로세싱 챔버에 문제가 있는 것으로서 나타내기 위한 코드; 및상기 제 2 캐패시턴스의 값 및 상기 인덕턴스의 값 중 적어도 하나가 상기 베이스라인 모델 파라미터 값 정보의 세트에 정의된 적어도 하나의 미리결정된 파라미터 값 범위 밖에 있는 경우, 상기 트랜스미션 로드에 문제가 있는 것으로서 나타내기 위한 코드더 포함하는,플라즈마 프로세싱 시스템. [청구항 11] 제 8 항에 있어서,상기 테스트 프로그램은,상기 수학적 모델에 적어도 캐패시턴스, 저항, 및 인덕턴스를 포함시키기 위한 코드;상기 캐패시턴스를 상기 플라즈마 프로세싱 챔버와 연관시키기 위한 코드;상기 저항을 커플링 메커니즘과 연관시키기 위한 코드로서, 상기 커플링 메커니즘은 상기 플라즈마 프로세싱 챔버와 전력 생성기 사이에 커플링되는, 상기 저항을 커플링 메커니즘과 연관시키기 위한 코드; 및상기 인덕턴스를 상기 커플링 메커니즘과 연관시키기 위한 코드를 더 포함하고,상기 전기적 모델 파라미터 값들의 세트는 상기 캐패시턴스의 값, 상기 저항의 값, 및 상기 인덕턴스의 값포함하는,플라즈마 프로세싱 시스템. [청구항 12] 제 11 항에 있어서,상기 테스트 프로그램은,상기 캐패시턴스의 값이 상기 베이스라인 모델 파라미터 값 정보의 세트에 정의된 미리결정된 캐패시턴스 값 범위 밖에 있는 경우, 상기 플라즈마 프로세싱 시스템은 플라즈마 처리할 준비가 되어 있지 않다고 판정하기 위한 코드;상기 캐패시턴스의 값이 상기 미리결정된 캐패시턴스 값 범위 밖에 있는 경우, 상기 플라즈마 프로세싱 챔버에 문제가 있는 것으로서 나타내기 위한 코드; 및상기 저항의 값 및 상기 인덕턴스의 값 중 적어도 하나가 상기 베이스라인 모델 파라미터 값 정보의 세트에 정의된 적어도 하나의 미리결정된 파라미터 값 범위 밖에 있는 경우, 상기 커플링 메커니즘에 문제가 있는 것으로서 나타내기 위한 코드더 포함하는,플라즈마 프로세싱 시스템. [청구항 13] 제 8 항에 있어서,상기 테스트 프로그램은,적어도 제 1 주파수를 갖는 제 1 전류 및 제 2 주파수를 갖는 제 2 전류가 상기 플라즈마 프로세싱 챔버에 이용 가능한지 여부를 판정하기 위한 코드;적어도 상기 제 1 주파수를 갖는 상기 제 1 전류 및 상기 제 2 주파수를 갖는 상기 제 2 전류가 상기 플라즈마 프로세싱 챔버에 이용 가능한 경우, 상기 플라즈마 프로세싱 챔버를 동작시키기 위한 다중 단계 레시피를 생성하기 위한 코드로서, 상기 다중 단계 레시피는 적어도 제 1 동작 단계 및 제 2 동작 단계를 포함하고, 상기 제 1 동작 단계는 상기 제 1 주파수와 연관되고, 상기 제 2 동작 단계는 상기 제 2 주파수와 연관되는, 상기 플라즈마 프로세싱 챔버를 동작시키기 위한 다중 단계 레시피를 생성하기 위한 코드;적어도 상기 제 1 동작 단계 및 상기 제 2 동작 단계로부터 샘플 데이터의 세트를 수집하기 위한 코드;상기 샘플 데이터의 세트 및 상기 수학적 모델을 이용하여 피팅 (fit) 된 파라미터 값들의 세트를 계산하기 위한 코드; 및상기 베이스라인 모델 파라미터 값 정보에 상기 피팅된 파라미터 값들의 세트를 포함하기 위한 코드더 포함하는,플라즈마 프로세싱 시스템. [청구항 14] 제 8 항에 있어서,상기 플라즈마 프로세싱 챔버에 적어도 전류를 제공하기 위한 전력 생성기;상기 전류를 전송하기 위해 상기 전력 생성기와 상기 플라즈마 프로세싱 챔버 사이에 배치된 트랜스미션 로드;상기 플라즈마 프로세싱 챔버와 상기 트랜스미션 로드를 커플링하기 위해 상기 트랜스미션 로드와 상기 플라즈마 프로세싱 챔버 사이에 배치된 커플링 메커니즘;상기 플라즈마 프로세싱 시스템의 동작에 관련된 전기적 특성들의 제 1 세트를 측정하기 위해 상기 전력 생성기와 상기 트랜스미션 로드 사이에 커플링된 전압-전류 센서; 및상기 플라즈마 프로세싱 시스템의 동작과 관련된 전기적 특성들의 제 2 세트를 측정하기 위해 상기 커플링 메커니즘과 상기 플라즈마 프로세싱 챔버 사이에 커플링된 전압 센서를 더 포함하고,상기 적어도 하나의 센서는 상기 전압-전류 센서 및 상기 전압 센서포함하는,플라즈마 프로세싱 시스템.