박막 증착 장치, 플라즈마 발생 장치, 및 박막 증착 방법 document_id 1020120002289

[청구항 1] 진공 용기를 포함하는 박막 증착 장치에 있어서, 복수의 접지 전극; 상기 접지 전극 사이에 배치되고 상기 접지 전극에 대향하게 배치된 전원 전극 제1 가스 공급라인을 통하여 상기 접지 전극과 상기 전원 전극 사이에 공급된 제1 가스를 이용하여 플라즈마를 형성하는 플라즈마 영역 제2 가스 공급라인을 통하고 상기 접지 전극을 관통하여 공급된 제2 가스를 이용하여 상기 플라즈마 와 상호 작용하는 반응 영역; 및 상기 반응 영역에 배치된 기판 홀더를 포함하고, 상기 기판 홀더 상에 배치된 기판에 박막이 형성되는 것을 특징으로 하는 박막 증착 장치 [청구항 2] 제1 항에 있어서,상기 제1 가스 공급 라인을 통하여 제공받은 제1 가스를 상기 플라즈마 영역에 분배하는 적어도 하나의 제1 가스 확산 공간; 및상기 제2 가스 공급 라인을 통하여 제공받은 제2 가스를 상기 반응 영역에 분배하는적어도하나의제2가스확산공간더포함하는것을특징으로 하는박막 증착 장치. [청구항 3] 제1 항에 있어서,전원으로부터 공급된 전력을 상기 전원 전극에 전력을 분배하는 전력 분배부를 더 포함하고,상기 전력 분배부는상기진공용기의내부배치된것을특징으로 하는박막 증착 장치. [청구항 4] 제1 항에 있어서,상기 제1 가스는 수소(h2) 가스 및 산소(o2) 가스 중에서 적어도 하나를 포함하고,상기 제2 가스는 실란(silane; sih4), 디실란(disilane; si2h6), 트리실란(trisilane; si3h8), teos(tetraethylorthosilicate), dcs(dichlorosilane), hcd(hexachlorosilane), tridmas(tri-dimethylaminosilane) 및 tsa(trisilylamine) 중에서적어도하나포함하는것을특징으로 하는박막 증착 장치. [청구항 5] 제1 항에 있어서,상기 제1 가스 공급 라인에 연결된 제1 가스 확산 공간 및 상기 제2 가스 공급라인에 연결된 제2 가스 확산 공간을 포함하는가스분배판더포함하는것을특징으로 하는박막 증착 장치. [청구항 6] 제5 항에 있어서,전원으로부터 공급된 전력을 상기 전원 전극에 전력을 분배하는 전력 분배부를 더 포함하고,상기 전력 분배부는:상기 제2 가스 확산 공간 상에 배치되고 외부 rf 전원으로부터 전력을 공급받아 분배하는 제1 배선;상기 제2 가스 확산 공간 하부에 배치되고 상기 제1 배선으로부터 전력을 공급받아 재분배하는 제2 배선; 및상기 제2 가스 확산 공간을 관통하여 상기 제1 배선과 제2 배선을 전기적으로 연결하는콘택플러그들포함하는것을특징으로 하는박막 증착 장치. [청구항 7] 제6 항에 있어서,상기 제1 배선, 상기 제2 배선, 및 상기 콘택 플러그들은동축 케이블구조가지는것을특징으로 하는박막 증착 장치. [청구항 8] 제1 항에 있어서,상기 전원 전극nan은제1방향나란히연장되는것을특징으로 하는박막 증착 장치. [청구항 9] 제5 항에 있어서,상기 가스 분배판은:상부 가스 분배판;및상기 상부 가스 분배판 하부에 배치되는 하부 가스 분배판을 포함하고,상기 상부 가스 분배판의 하부면 또는 상기 하부 가스 분배판의 상부면에 형성된 함몰부는 상기 제2 가스 확산 공간을 형성하고,상기 제1 확산 공간은 상기 하부 가스 분배판과 상기 접지 전극 사이에 배치되고,상기 제1 확산 공간은 제1 방향으로 연장되는 상기 접지 전극을 가로지르는제2방향연장되는것을특징으로 하는박막 증착 장치. [청구항 10] 제9 항에 있어서,상기 전원 전극을 가로지르는 제2 방향으로 연장되고 상기 하부 가스 분배판의 상부면에 형성된 함몰부; 및상기 함몰부 상에 배치되어 제2 가스 확산 공간을 형성하는덮개판포함하는것을특징으로 하는박막 증착 장치. [청구항 11] 제5 항에 있어서,상기 접지 전극은 상기 가스 분배판의 하부면에서 돌출되도록 형성되거나 상기 가스 분배판의 하부면장착되는것을특징으로 하는박막 증착 장치. [청구항 12] 제5 항에 있어서,상기 전원 전극과 상기 가스 분배판 사이에 개재되어 상기 전원 전극과 나란히 연장되는절연체들더포함하는것을특징으로 하는박막 증착 장치. [청구항 13] 제5 항에 있어서,상기 제1 가스 확산 공간에 연결되어 상기 가스 분배판의 하부로 가스를 분사하는 복수의 제1 노즐들; 및 상기 제2 가스 확산 공간에 연결되어 상기 가스 분배판의 하부로 가스를 분사하는복수의제2노즐들더포함하는것을특징으로 하는박막 증착 장치. [청구항 14] 제1 항에 있어서,전원으로부터 공급된 전력을 상기 전원 전극에 전력을 분배하는 전력 분배부를 더 포함하고,상기 전력 분배부는 상기 진공 용기의 외부에 배치되고,상기 전력 분배부는동축 케이블구조의동일거리분배구조인것을특징으로 하는박막 증착 장치. [청구항 15] 진공 용기 상판에 나란히 설치된 복수의 접지 전극 상기 접지 전극 사이에 배치된 전원 전극 상기 복수의 접지 전극과 상기 전원 전극은 교대로 형성되고, 상기 전원 전극과 상기 접지 전극 사이에 제1 가스를 공급하는 제1 노즐; 및 상기 제1 노즐과 교대로 형성되고, 상기 제1 가스와 다른 제2 가스가 상기 접지 전극을 관통하여 분사하는 제2 노즐을 포함하는 것을 특징으로 하는 박막 증착 장치 [청구항 16] 제15 항에 있어서,상기 진공 용기 상판에는 제1 가스 공급 라인에 연결된 제1 가스 확산 공간 및 제2 가스 공급라인에 연결된 제2 가스 확산 공간을 포함하여 상기 제1 가스와 상기 제2 가스를 공급하는가스분배판더포함하는것을특징으로 하는박막 증착 장치. [청구항 17] 제 15 항에 있어서,상기 전원 전극에 공급되는 외부 rf 전력에 의하여 플라즈마를 형성하고, 상기 전원 전극에 전력을 공급하는전력 분배부더포함하는것을특징으로 하는박막 증착 장치. [청구항 18] 기판이 배치되는 평면을 정의하는 제1 방향과 제2 방향 중에서 기판의 평면과 대응되게 설치된 복수의 접지 전극 서로 이웃한 접지 전극 사이에 배치되고 상기 접지 전극에 대향하게 배치된 전원 전극; 및 rf 전원으로부터 전력을 제공받아 상기 전원 전극에 전력을 분배하는 전력 분배부를 포함하고, 상기 제1 방향 및 상기 제2 방향에 수직한 제3 방향으로 이격되어 상기 전원 전극을 마주보도록 배치된 상기 기판에서 먼 쪽에 제1 가스를 공급하는 제1 노즐이 배치되고, 상기 기판에서 가까운 쪽에 제2 가스를 공급하는 제2 노즐이 배치되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치 [청구항 19] 제18 항에 있어서,상기 제1 가스는 상기 전원 전극과 상기 접지 전극 사이에 플라즈마를 형성하고,상기 플라즈마 및 상기 플라즈마에 의하여 형성된 라다칼은 상기 제2 가스와 반응하여 상기 기판에박막형성하는것을특징으로 하는플라즈마 발생 장치. [청구항 20] 제19 항에 있어서,상기 제2 가스는상기전원전극직접분사되지않는것을특징으로 하는플라즈마 발생 장치. [청구항 21] 진공 용기의 상판의 하단에 배치된 복수의 전원 전극 상기 전원 전극의 양 측면에 배치된 접지 전극 상기 진공 용기의 상판을 기준으로 상기 상판의 하단에 위치하고 제1 가스를 분사하는 제1 노즐; 및 상기 상판의 하단에서 돌출되어 형성된 상기 접지 전극을 관통하여 제2 가스를 분사하는 제2 노즐을 포함하고, 상기 제1 가스의 분사 위치와 상기 제2 가스의 분사 위치는 서로 다른 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생 장치 [청구항 22] 제21 항에 있어서,상기 제1 노즐과 상기 기판 사이의 거리는 상기 제2 노즐과 상기 기판 사이의 거리보다 큰 것특징으로 하는플라즈마 발생 장치.