저항발열 조성물, 및 이를 이용한 발열 복합체 및 그 제조방법, 가열장치 및 정착장치 document_id 1020120019166

[청구항 2] 제1항에 있어서,상기 실리콘에멀젼 입자는 양이온성 계면활성제, 음이온성 계면활성제, 비이온성 계면활성제 및 양쪽성 계면활성제 중 적어도 하나의 실리콘 유화용 계면활성제로 표면처리된 것인저항발열 조성물. [청구항 3] 제2항에 있어서,상기 실리콘에멀젼 입자는, 라우릴 설페이트를 포함하는 알킬 설페이트, 아크릴레이트 및 c10-30의 알킬 아크릴레이트 크로스폴리머(crosspolymer)를 포함하는 중합체, (탄소수 6 내지 20의 알킬) 벤젠설폰산 및 염, 모노알킬 폴리옥시에틸렌 에테르의 설페이트 에스테르, 지방산의 설폰화 글리세릴 에스테르, 설폰화된 1가 알콜 에스테르의 염, 아미노 설폰산의 아미드, 지방산 니트릴의 설폰화 생성물, 나프탈렌 설폰산과 포름알데히드의 축합 생성물, 알칼리금속 알킬 설페이트 및 에스테르 설페이트, 알킬 포스페이트, 사르코시네이트 및 설폰화 올레핀 중 적어도 하나를 포함하는 음이온성 계면활성제로 표면처리된 것인저항발열 조성물. [청구항 4] 제1항에 있어서,상기 실리콘에멀젼 입자의 평균 입경이 0.01 내지인저항발열 조성물. [청구항 6] 제1항에 있어서,상기 탄소나노튜브는 양이온성 계면활성제, 음이온성 계면활성제, 비이온성 계면활성제 및 양쪽성 계면활성제 중 적어도 하나의 탄소나노튜브 분산용 계면활성제로 표면처리된 것인저항발열 조성물. [청구항 7] 제1항에 있어서,상기 탄소나노튜브는 탄소나노튜브 분산용 계면활성제로 1차 표면처리되고, 상기 탄소나노튜브 분산용 계면활성제와 반대 전하를 띠는 고분자전해질(polyelectrolyte)로 2차 표면처리된 것인저항발열 조성물. [청구항 8] 제7항에 있어서,상기 탄소나노튜브는 탄소나노튜브 분산용의 음이온성 계면활성제로 1차 표면처리되고, 양이온성 고분자 전해질로 2차 표면처리된 것인저항발열 조성물. [청구항 9] 제8항에 있어서,상기 탄소나노튜브 분산용의 음이온성 계면활성제는 소듐 도데실 설페이트, 알킬벤젠 설포네이트, 알파 올레핀 설포네이트, 파라핀 설포네이트, 알킬 에스테르 설포네이트, 알킬 설페이트, 알킬 알콕시 설페이트, 알킬 설포네이트, 알킬 알콕시 카르복실레이트, 알킬 알콕시화 설페이트, 모노알킬(에테르) 포스페이트, 디알킬(에테르) 포스페이트, 사르코지네이트, 설포숙시네이트, 이세티오네이트, 타우레이트, 암모늄 라우릴 설페이트, 암모늄 라우레트 설페이트, 트리에틸아민 라우릴 설페이트, 트리에틸아민 라우레트 설페이트, 트리에탄올아민 라우릴 설페이트, 트리에탄올아민 라우레트 설페이트, 모노에탄올아민 라우릴 설페이트, 모노에탄올아민 라우레트 설페이트, 디에탄올아민 라우릴 설페이트, 디에탄올아민 라우레트 설페이트, 라우르산 모노글리세라이드 소듐 설페이트, 소듐 라우릴 설페이트, 소듐 라우레트 설페이트, 포타슘 라우릴 설페이트, 포타슘 라우레트 설페이트, 소듐 라우릴 포스페이트, 소듐 트리데실 포스페이트, 소듐 베헤닐 포스페이트, 소듐 라우레트-2 포스페이트, 소듐 세테트-3 포스페이트, 소듐 트리데세트-4 포스페이트, 소듐 디라우릴 포스페이트, 소듐 디트리데실 포스페이트, 소듐 디트리데세트-6 포스페이트, 소듐 라우로일 사르코지네이트, 라우로일 사르코진, 코코일 사르코진, 암모늄 코실 설페이트, 소듐 코실 설페이트, 소듐 트리데세트 설페이트, 소듐 트리데실 설페이트, 암모늄 트리데세트 설페이트, 암모늄 트리데실 설페이트, 소듐 코코일 이세티오네이트, 디소듐 라우레트 설포숙시네이트, 소듐 메틸 올레오일 타우레이트, 소듐 라우레트 카르복실레이트, 소듐 트리데세트 카르복실레이트, 소듐 라우릴 설페이트, 포타슘 코실 설페이트, 포타슘 라우릴 설페이트, 모노에탄올아민 코실 설페이트, 소듐 트리데실 벤젠 설포네이트, 소듐 도데실 벤젠 설포네이트, 및 소듐 도데실 설페이트 중 적어도 하나포함하는저항발열 조성물. [청구항 10] 제8항에 있어서,이온성 고분자전해질은 폴리알릴아민하이드로클로라이드 (pah : polyallylamine hydrochloride), 폴리에틸렌이민 (pei : polyethylenimine), 폴리디알릴디메틸암모늄클로라이드 (polydiallyldimethylammonium chloride), 폴리메타크릴록시에틸트리알킬암모늄 할라이드 (polymethacryloxyethyltrialkylammonium halide), 폴리아릴아민클로라이드 (polyarylamine chloride), 폴리아크릴아미드 (polyacrylamide), 아미노에틸레이티드 폴리아크릴아미드 (aminoethylated polyacrylamide), 폴리비닐아민(polyvinylamine), 호프만감성-폴리아크릴아미드 (hofman-degradated polyacrylamide), 폴리에틸렌아민 (polyethyleneamine), 양이온화 녹말 (cationized starch), 키토산 (chitosan) 및 이들의 조합 중 적어도 하나포함하는저항발열 조성물. [청구항 11] 제1항에 있어서,상기 실리콘에멀젼 입자 및 상기 탄소나노튜브가 중량비로 100:0.1 내지 100:100 범위포함되는저항발열 조성물. [청구항 12] 제1항에 있어서,상기 수성 매질은 물, 또는 물과 상온에서 물과 혼화성인 유기 용매와의혼합물인저항발열 조성물. [청구항 13] 제1항에 있어서,상기 수성 매질의 함량은, 상기 실리콘 에멀젼 입자 100 중량부에 대하여 5 내지 50,000 중량부의범위인저항발열 조성물. [청구항 15] 제14항에 있어서,상기 발열 복합체는면상발열체인발열 복합체. [청구항 23] 제1항 내지 제4항 및 제6항 내지 제13항 중 어느 한 항에 따른 저항발열 조성물의 경화물을 포함하는 발열 복합체층; 과 상기 발열 복합체층에 전기를 공급하는 전극을 포함하는 정착용 가열장치 [청구항 24] 제23항에 있어서,상기 발열 복합체를 지지하는 지지체더 포함하는정착용 가열장치. [청구항 25] 제23항에 있어서,상기 발열 복합체층의 외면에 배치되는 이형층더 포함하는정착용 가열장치. [청구항 26] 제23항에 따른 정착용 가열장치; 및 상기 가열장치에 대향하여 배치되는 가압장치 를 포함하는 인쇄장치용 정착장치 [청구항 27] 제26항에 있어서,상기 인쇄장치는 레이저프린터인인쇄장치용 정착장치.