문맥 (context)
[청구항 1]
제 1 전극 및 제 2 전극;
상기 제 1 전극과 상기 제 2 전극 사이의 강유전체막;
상기 강유전체막과 상기 제 1 전극 및 상기 제 2 전극 중 어느 하나의 전극 사이에 배치되는 이중층을 포함하며,
상기 이중층은 상기 강유전체막과 접하는 알루미늄 산화막 및 상기 어느 하나의 전극과 접하는 티타늄 산화막을 포함하는 가변 저항체
[청구항 2]
제 1 항에 있어서,상기 강유전체막은페로브스카이트계무기산화물포함하는것을특징으로 하는가변 저항체.
[청구항 3]
제 2 항에 있어서,상기 페로브스카이트계 무기 산화물nan은포함하는것을특징으로 하는가변 저항체.
[청구항 4]
제 1 항에 있어서,상기 알루미늄 산화막은 화학양론적 al2o3막포함하는것을특징으로 하는가변 저항체.
[청구항 5]
제 1 항에 있어서,상기 타이타늄 산화막은 산소 결핍의 tiox막포함하는것을특징으로 하는가변 저항체.
[청구항 6]
제 1 항에 있어서,상기 제 1 전극은 상기 강유전체막과 쇼트키 장벽을 형성하는금속재료선택되는것을특징으로 하는가변 저항체.
[청구항 7]
제 1 항에 있어서,상기 제 1 전극의 상기 금속 재료는 백금(pt), 텅스텐(w), 금(au), 백금(pt), 파라듐(pd), 로듐(rh) 이리듐(ir), 루테늄(ru), 탄탈륨(ta), 몰리브덴(mo), 크롬(cr), 바나듐(v), 티타늄(ti), 알루미늄(al), 구리(cu), 은(ag), 니켈(ni), 이들 금속의 도전성 질화물, 이들 금속의 도전성 산화물 중 어느하나또는이들의조합포함하는것을특징으로 하는가변 저항체.
[청구항 8]
제 1 항에 있어서,상기 제 2 전극은 상기 티타늄 산화막과 오믹 콘택을 형성하는금속재료선택되는것을특징으로 하는가변 저항체.
[청구항 9]
제 1 항에 있어서,상기 제 2 전극의 상기 금속 재료는 백금(pt), 텅스텐(w), 금(au), 백금(pt), 파라듐(pd), 로듐(rh) 이리듐(ir), 루테늄(ru), 탄탈륨(ta), 몰리브덴(mo), 크롬(cr), 바나듐(v), 티타늄(ti), 알루미늄(al), 구리(cu), 은(ag), 니켈(ni), 이들 금속의 도전성 질화물, 이들 금속의 도전성 산화물 중 어느하나또는이들의조합포함하는것을특징으로 하는가변 저항체.
[청구항 10]
제 1 항에 있어서,상기 티타늄 산화막의 두께는 상기 알루미늄 산화막의 두께보다 더 큰 것특징으로 하는가변 저항체.
[청구항 11]
제 1 항에 있어서,상기 티타늄 산화막의 두께는 5 nm내지인것을특징으로 하는가변 저항체.
[청구항 12]
제 1 항에 있어서,상기 티타늄 산화막의 두께는 18 nm내지인것을특징으로 하는가변 저항체.
[청구항 13]
제 1 항에 있어서,상기 알루미늄 산화막의 두께는 2 nm내지인것을특징으로 하는가변 저항체.
[청구항 14]
제 1 항에 있어서,상기 알루미늄 산화막의 두께는 2 nm내지인것을특징으로 하는가변 저항체.
[청구항 15]
제 1 전극 및 제 2 전극;
상기 제 1 전극과 상기 제 2 전극 사이에 배치되고 상기 제 1 전극과 쇼트키 장벽을 형성하는 강유전체막
상기 강유전체막과 상기 제 2 전극 사이에 배치되고, 상기 강유전체막과 접하여 전자 트랩층을 제공하며, 상기 제 2 전극과 오믹 콘택을 형성하는 하나 이상의 금속 산화막을 포함하는 가변 저항체
[청구항 16]
제 15 항에 있어서,상기 강유전체막은포함하는것을특징으로 하는가변 저항체.
[청구항 17]
제 15 항에 있어서,상기 금속 산화막은 알루미늄이 도핑된티타늄산화막인것을특징으로 하는가변 저항체.
[청구항 18]
제 17 항에 있어서,상기 티타늄 산화막은 산소 결핍의 tiox막포함하는것을특징으로 하는가변 저항체.
[청구항 19]
제 17 항에 있어서,상기 알루미늄은 상기 강유전체막과 상기 티타늄 산화막 사이에 형성된알루미늄 산화막제공되는것을특징으로 하는가변 저항체.
[청구항 20]
제 15 항에 있어서,상기 금속 산화막의 두께는 18 nm내지인것을특징으로 하는가변 저항체.
[청구항 21]
기판 상에 배치되는 복수의 메모리 셀들의 어레이를 포함하는 비휘발성 메모리 소자로서,
상기 복수의 메모리 셀들의 각각은,
제 1 배선층; 적어도 하나 이상의 스위칭 소자 및 상기 스위칭 소자에 연결되는 제 1 항 기재의 상기 가변 저항체를 포함하며, 일 단이 상기 제 1 배선에 전기적으로 연결되는 메모리 셀
및 상기 제 1 배선과 교차하는 방향으로 배열되고, 상기 메모리 셀의 타단과 전기적으로 연결되는 제 2 배선층을 포함하는 비휘발성 메모리 소자
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
청구항 1에 따른 가변 저항체에서 이중층을 구성하는 두 산화막 중, 강유전체막과 접하는 산화막과 어느 하나의 전극과 접하는 산화막은 각각 무엇인가?
추론 과정 (compact_reasoning)
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1과제 해석
task_interpretation청구항 1의 이중층 구성 요소 중 강유전체막과 접하는 산화막과 전극과 접하는 산화막이 각각 무엇인지 식별해야 한다.
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2정보 추출
information_extraction청구항 1에서 이중층의 구성과 각 산화막의 접촉 대상을 추출한다.
- 상기 이중층은 상기 강유전체막과 접하는 알루미늄 산화막 및 상기 어느 하나의 전극과 접하는 티타늄 산화막을 포함하는 가변 저항체
-
3근거 선택
evidence_selection강유전체막과 접하는 산화막은 '알루미늄 산화막'이며, 전극과 접하는 산화막은 '티타늄 산화막'임을 명시한 구절을 선택한다.
- 상기 이중층은 상기 강유전체막과 접하는 알루미늄 산화막 및 상기 어느 하나의 전극과 접하는 티타늄 산화막을 포함하는 가변 저항체
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4논리 통합
logical_integration추출된 정보를 바탕으로 강유전체막 접촉 산화막은 알루미늄 산화막, 전극 접촉 산화막은 티타늄 산화막임을 연결한다.
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5결론 도출
conclusion_formulation질문에 대한 직접적인 답변을 구성한다.
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6답변 생성
answer_generation최종 답변을 생성한다.
최종 답변 (final_answer)
강유전체막과 접하는 산화막은 알루미늄 산화막이고, 어느 하나의 전극과 접하는 산화막은 티타늄 산화막이다.
핵심 해석 (core_interpretation)
가변 저항체의 이중층 구조에서 강유전체막과 전극 사이에 각각 알루미늄 산화막과 티타늄 산화막을 배치하여 층을 구성함을 나타낸다.