현상 처리 장치, 현상 처리 방법 및 컴퓨터 기억 매체 document_id 1020120047927

[청구항 1] 기판 상으로 현상액을 공급하여 소정의 패턴을 노광한 기판 상의 레지스트막 을 현상하는 현상 처리 장치로서, 기판을 보지(保持)하는 기판 보지부와, 현상액을 토출하는 현상액 토출구가 형성되고, 기판의 직경보다 짧은 복수의 공급 노즐을 기판의 일단측으로부터 기판의 타단측을 향해 기판의 직경 이상의 길이에 걸쳐 간극없이 나란히 형성된 집합 노즐과, 상기 집합 노즐의 길이 방향과 직교하는 방향으로, 상기 각 공급 노즐을 개별로 수평 이동시키는 구동 기구를 가지고, 상기 구동 기구는 변속 기능을 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 현상 처리 장치 [청구항 2] 제 1 항에 있어서,상기 공급 노즐에는 린스액을 기판에 토출하는 린스액 토출구가 더 형성되고, 상기 현상액 토출구는, 상기 공급 노즐에서 상기 린스액 토출구보다 상기 공급 노즐의 기판에 대한 진행 방향의 앞측에 위치하고, 상기 현상액 토출구로부터 토출된 현상액은, 상기 공급 노즐이 기판에 대하여 상대적으로 이동함으로써린스액치환되는것을특징으로 하는현상 처리 장치. [청구항 3] 제 2 항에 있어서,공급 노즐에서의, 상기 린스액 토출구보다 상기 각 공급 노즐의 상기 기판에 대한 진행 방향의 후방측에는, 상기 현상액 및 상기 린스액을 흡인하는 흡인구형성되어있는것을특징으로 하는현상 처리 장치. [청구항 4] 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 기판의 표면으로 공급된 현상액이 소정 시간 경과 후에 린스액으로 치환된 상태가 되도록, 상기 각 공급 노즐의 이동 속도, 상기 각 공급 노즐로부터의 현상액과 린스액의 공급량 및 상기 흡인구로부터의상기현상액및상기린스액의흡인량조정되고있는것을특징으로 하는현상 처리 장치. [청구항 5] 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 구동 기구는 상기 각 공급 노즐을 수평 이동시키는샤프트있는것을특징으로 하는현상 처리 장치. [청구항 6] 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,공급 노즐을, 상기 각 공급 노즐의 진행 방향과 직교하는 방향으로 이동시키는 다른구동기구더가지는것을특징으로 하는현상 처리 장치. [청구항 7] 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,공급 노즐의 진행 방향과 직교하는 방향의 길이는, 기판 상의 패턴 중 복수의 샷을 덮는길이인것을특징으로 하는현상 처리 장치. [청구항 8] 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,공급 노즐의 진행 방향과 직교하는 방향의 길이는, 기판 상의 패턴 중 하나의 샷에 대응하는길이인것을특징으로 하는현상 처리 장치.