플라즈마 발생장치 및 이를 포함하는 박막증착장치 document_id 1020120067832

[청구항 2] 제1항에 있어서,상기 캐비티의 내부 표면적과 상기 플라즈마 분사홀의 내부 표면적의 비nan가2내지인것을특징으로 하는,플라즈마 발생장치. [청구항 3] 제1항 또는 제2항에 있어서,상기 제1 전극 및 제2 전극 중에서 하나의 전극에 전원이 인가되고, 다른 하나의 전극은 플로팅(floating) 또는 접지된상태인것을특징으로 하는,플라즈마 발생장치. [청구항 4] 제3항에 있어서,상기 제1 전극이 캐소드(cathode)이고, 상기 제2 전극이 애노드(anode)이며, 상기 제1 전극에 전압이 인가되고, 상기 제2 전극은 플로팅 또는 접지된상태인것을특징으로 하는,플라즈마 발생장치. [청구항 5] 제4항에 있어서,상기 절연체가 상기 제1 전극 하부면에 대향하는 상기 제2 전극의 상부면 중 상기 플라즈마 분사홀을 제외한전체존재하는것을특징으로 하는,플라즈마 발생장치. [청구항 6] 제1항 또는 제2항에 있어서,상기 홈부의 형상이 원기둥 형상,육면체형상또는동심원기둥형상인것을특징으로 하는,플라즈마 발생장치. [청구항 7] 제1항 또는 제2항에 있어서,상기 플라즈마 분사홀의 단면이 원,사각형동심원인것을특징으로 하는,플라즈마 발생장치. [청구항 8] 제1항 또는 제2항에 있어서,상기 제2 전극의 형상이 부채꼴 형상,원기둥형상또는육면체형상인것을특징으로 하는,플라즈마 발생장치. [청구항 9] 제8항에 있어서,상기 제2 전극의 형상이 부채꼴 형상이고, 상기 홈부 및 상기 플라즈마 분사홀의 크기가 상기 부채꼴 형상의 곡선 반경이 큰쪽함께증가하는것을특징으로 하는,플라즈마 발생장치. [청구항 10] 제1항 또는 제2항에 있어서,상기 캐비티에 상기 방전가스를 주입하는 가스 주입부를 포함하고,상기 가스 주입부는 상기 제1 전극 상부에 배치된 가스 유로를 포함하고, 상기 가스 유로는상기가스주입홀연결되어있는것을특징으로 하는,플라즈마 발생장치. [청구항 11] 제3항에 있어서,상기 전원은 직류 전원,교류전원또는고주파전원인것을특징으로 하는,플라즈마 발생장치. [청구항 12] 제1항 또는 제2항에 있어서,상기 방전가스는아르곤헬륨인것을특징으로 하는,플라즈마 발생장치. [청구항 13] 반응챔버; 상기 반응챔버 내부에 배치되고 기판이 안착되는 기판탑재부 상기 반응챔버의 내부에 배치되고 제1항에 따르는 플라즈마 발생장치를 포함하는 가스 공급부; 및 상기 가스 공급부로부터 공급되는 가스를 상기 기판의 처리면에 공급하기 위해 상기 기판탑재부를 상기 가스 공급부에 대하여 상대적으로 이동시키는 기판이송부를 포함하는, 박막증착장치 [청구항 14] 제13항에 있어서,상기 기판이송부가 상기 기판탑재부의 하부 중심에 고정된 회전축 및 상기 회전축을 회전시키는 구동 모터를 포함하고, 상기 기판탑재부의 상기 가스 공급부에 대한 상대적 이동이곡선이동인것을특징으로 하는,박막증착장치. [청구항 15] 제13항에 있어서,상기 기판이송부가 복수 개의 축, 상기 축 각각에 연결되고 상기 기판탑재부가 결합되는 동력전달부재, 및 상기 축 중 하나 이상의 축을 회전시킴으로써 이에 연결된 동력전달부재를 순환 이동시키는 구동 모터를 포함하고, 상기 기판탑재부의 상기 가스 공급부에 대한 상대적 이동이직선이동및곡선이동포함하는것을특징으로 하는,박막증착장치. [청구항 16] 제14항 또는 제15항에 있어서,상기 기판탑재부의 상기 가스 공급부에 대한 상대적 이동이 곡선 이동인 구간에 배치된 상기 플라즈마 발생장치에 포함된 상기 제2 전극의 형상이 부채꼴 형상이고, 상기 홈부 및 상기 플라즈마 분사홀의 크기가 상기 부채꼴 형상의 곡선 반경이 큰쪽함께증가하는것을특징으로 하는,박막증착장치.