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탄성중합체성 폴리실록산 보호 층을 갖는 내습성 태양광발전 디바이스 document_id 1020127020637

출원번호
1020127020637
분류
전기(H섹션)
문맥 (context)
[청구항 1] 광 입사면 및 배면을 갖는 태양광발전 디바이스로서, 상기 디바이스는 a) 구리, 인듐 및/또는 갈륨 중 적어도 하나를 포함하는 칼코게나이드-함유 태양광발전 층(photovoltaic layer) b) 상기 태양광발전 층과 상기 광 입사면 사이에 개재된 투명한 전도성 층(이때 상기 투명한 전도성 층은 태양광발전 층에 전기적으로 커플링된다) c) 상기 투명한 전도성 층에 전기적으로 커플링되고 상기 투명한 전도성 층의 적어도 일부분들 위에 놓인 전자 수집용 그리드(electronic collection grid) d) 광 입사면을 갖는 탄성중합체성 구조물로서, 상기 탄성중합체성 구조물은 상기 전자 수집용 그리드 및 상기 투명한 전도성 층의 적어도 일부분들 위에, 상기 탄성중합체성 구조물의 광 입사면이 상기 전도체의 주요 부분으로부터 멀리 떨어지도록 하는 방식으로 놓이고, 상기 탄성중합체성 구조물은 wvtr(water vapor transmission rate: 수증기 투과율)이 적어도 0.1g/㎡-day인 탄성중합체성 실록산 중합체를 포함하는, 탄성중합체성 구조물; 및 e) 상기 탄성중합체성 구조물 위에 놓인 임의의 보호 장벽 을 또한 포함하는, 광 입사면 및 배면을 갖는 태양광발전 디바이스 [청구항 2] 제1항에 있어서,상기 탄성중합체성 구조물이, 약 0.5 내지 약 500g/㎡-day 범위갖는,디바이스. [청구항 3] 제1항 또는 제2항에 있어서,상기 탄성중합체성 구조물이, 약 0.5 내지 약 150g/㎡-day 범위갖는,디바이스. [청구항 4] 제1항 내지 제3항 중의 어느 한 항에 있어서,상기 탄성중합체성 구조물이, 동일 반응계 내에서, 하나 이상의 실록산 전구체를 포함하는 성분들로부터 형성되는 실록산 중합체포함하는,디바이스. [청구항 5] 제1항 내지 제4항 중의 어느 한 항에 있어서,상기 탄성중합체성 구조물이, 동일 반응계 내에서, si-알케닐 관능기를 갖는 제1 실록산 전구체 및 수소화규소 관능기를 갖는 제2 전구체를 포함하는 성분들로부터 형성되는 실록산 중합체포함하는,디바이스. [청구항 6] 제1항 내지 제5항 중의 어느 한 항에 있어서,상기 탄성중합체성 구조물이, 동일 반응계 내에서, 알콕시 관능성 실록산 전구체로부터 형성되는 실록산 중합체포함하는,디바이스. [청구항 7] 제6항에 있어서,상기 실록산 중합체가, 동일 반응계 내에서, 실온 가황 기술을 사용하여 적어도 상기 알콕시 관능성 실록산 전구체형성되는,디바이스. [청구항 8] 제1항 내지 제7항 중의 어느 한 항에 있어서,상기 전자 수집용 그리드가 ag, ni, cu 또는 al 또는 이들의 배합물포함하는,디바이스. [청구항 9] 제1항 내지 제8항 중의 어느 한 항에 있어서,상기 탄성중합체성 구조물의 상기 광 입사면이 약 0.5 내지 약 50mil 범위의 깊이만큼상기전기 전도체로부터떨어져있는,디바이스. [청구항 10] 제1항 내지 제9항 중의 어느 한 항에 있어서,상기 디바이스가 상기 보호 장벽을 포함하며, 상기 보호 장벽은 무기 유전성 조성물포함하는,디바이스. [청구항 11] 제1항 내지 제10항 중의 어느 한 항에 있어서,상기 디바이스가 상기 보호 장벽을 포함하며, 상기 보호 장벽은 규소 및 알루미늄 중 적어도 하나의 산화물, 질화물, 탄화물 또는 이들의 배합물포함하는,디바이스. [청구항 12] 제1항 내지 제11항 중의 어느 한 항에 있어서,상기 디바이스가 보호 장벽을 포함하며, 상기 보호 장벽은 기판 위에 지지된 적어도 하나의 다이애드(dyad)를 포함하는 다중 층 구조를 가지며, 이때 각각의 다이애드는 무기 조성물 층 및 유기 조성물 층을 독립적포함하는,디바이스. [청구항 13] 제12항에 있어서,상기 무기 조성물이 무기 유전성 조성물포함하는,디바이스. [청구항 14] 제13항에 있어서,상기 무기 유전성 조성물이 규소, 티탄 및/또는 알루미늄의 산화물, 탄화물 및/또는 질화물선택되는,디바이스. [청구항 15] 제12항에 있어서,상기 보호 장벽이 다수의 상기 다이애드포함하는,디바이스. [청구항 16] 제12항에 있어서,상기 다이애드 기판이 중합체 필름포함하는,디바이스. [청구항 17] 제16항에 있어서,상기 중합체 필름이 폴리에스테르포함하는,디바이스.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
태양광발전 디바이스의 탄성중합체성 구조물을 형성하는 실록산 중합체가 동일 반응계 내에서 si-알케닐 관능기를 갖는 제1 실록산 전구체와 수소화규소 관능기를 갖는 제2 전구체를 포함하여 형성될 때, 이 구조물의 광 입사면은 전기 전도체로부터 어느 정도의 깊이만큼 떨어져 있어야 하는가?
추론 과정 (compact_reasoning)
  1. 1과제 해석task_interpretation

    탄성중합체성 구조물을 형성하는 실록산 중합체의 구성 조건이 주어졌을 때, 해당 구조물의 광 입사면이 전기 전도체로부터 떨어져 있는 깊이를 찾는 것이다.

  2. 2정보 추출information_extraction

    질문에서 언급된 'si-알케닐 관능기를 갖는 제1 실록산 전구체와 수소화규소 관능기를 갖는 제2 전구체를 포함'하는 조건은 청구항 5항에 해당한다.

    • si-알케닐 관능기를 갖는 제1 실록산 전구체 및 수소화규소 관능기를 갖는 제2 전구체를 포함하는 성분들로부터 형성되는 실록산 중합체
  3. 3근거 선택evidence_selection

    청구항 5항은 청구항 1항을 인용하며, 청구항 9항은 청구항 1항 내지 8항 중 어느 한 항을 인용하여 광 입사면의 깊이를 명시하고 있다.

    • 상기 탄성중합체성 구조물의 상기 광 입사면이 약 0.5 내지 약 50mil 범위의 깊이만큼상기전기 전도체로부터떨어져있는
  4. 4논리 통합logical_integration

    청구항 5항의 조건(전구체 구성)을 만족하는 디바이스는 청구항 1항을 포함하는 디바이스이므로, 청구항 9항에 기술된 깊이 조건이 적용된다.

  5. 5결론 도출conclusion_formulation

    따라서 해당 구조물의 광 입사면은 전기 전도체로부터 약 0.5 내지 약 50mil 범위의 깊이만큼 떨어져 있어야 한다.

    • 약 0.5 내지 약 50mil 범위의 깊이만큼상기전기 전도체로부터떨어져있는
  6. 6답변 생성answer_generation

    추출된 수치 범위를 바탕으로 최종 답변을 작성한다.

    • 약 0.5 내지 약 50mil 범위의 깊이
최종 답변 (final_answer)
약 0.5 내지 약 50mil 범위의 깊이
핵심 해석 (core_interpretation)
특정 전구체 조합으로 형성된 실록산 중합체 기반의 탄성중합체성 구조물이 태양광발전 디바이스에서 전기 전도체로부터 일정 깊이(0.5~50mil)를 유지하며 배치되어야 함을 규정하고 있다.