플라즈마 프로세싱 장치와, 전기적 스큐들을 조정하기 위한 라이너 어셈블리 document_id 1020127027857

[청구항 1] 플라즈마 프로세싱 장치에서 이용하기 위한 라이너 어셈블리로서, 상기 플라즈마 프로세싱 장치의 측벽의 내부에서 슬립하기 위한 치수(dimension)로 된 외부 벽을 가지는 원통형 본체를 포함하고, 상기 본체는 상기 본체를 통해 형성된 복수의 슬롯들을 가지고, 원형 배열(polar array)로 배열되며, 상기 슬롯들의 적어도 하나는 기판이 상기 라이너를 통과하게 하도록 구성되는, 라이너 어셈블리 [청구항 2] 청구항 1에 있어서,상기 복수의 슬롯들은 동일한 크기가지는,라이너 어셈블리. [청구항 3] 청구항 1에 있어서,상기 복수의 슬롯들은 등거리이격되는,라이너 어셈블리. [청구항 4] 청구항 1에 있어서,상기 복수의 슬롯들은 90도로 이격된 4개의 슬롯들인,라이너 어셈블리. [청구항 5] 청구항 1에 있어서,상기 원통형 본체는,상기 외부 벽에 결합되는 저부; 및상기 저부에 결합되고 상기 프로세싱 장치의 기판 지지체 상부에서 슬립하기 위한 치수로 된 내부 벽더 포함하는,라이너 어셈블리. [청구항 6] 청구항 1에 있어서,상기 원통형 본체는,상기 원통형 본체의 내부에 형성된 냉각제 통로더 포함하는,라이너 어셈블리. [청구항 7] 측벽 및 저부 벽을 가지는 챔버 본체로서, 상기 챔버의 측벽 및 상기 저부 벽은 플라즈마를 함유하기 위한 프로세싱 용적을 정의하고, 상기 측벽은 상기 측벽을 통해 형성된 슬릿 밸브 터널을 가지는 상기 챔버 본체 상기 챔버 본체 상에 배치된 덮개 어셈블리; 및 상기 프로세싱 용적 내부에 배치되고 복수의 슬롯들을 포함하는 라이너 어셈블리로서, 상기 복수의 슬롯들은 상기 슬릿 밸브 터널과 정렬된 제 1 슬롯 및 적어도 제 2 슬릿을 포함하고, 상기 제 1 및 제 2 슬롯들은 라이너 어셈블리를 통한 축 대칭적인 rf 복귀 전류 경로를 생성하도록 배열되는 상기 라이너 어셈블리를 포함하는, 플라즈마 프로세싱 장치 [청구항 8] 청구항 7에 있어서,상기제 1 및 제 2 슬롯들은 동일한 크기가지는,플라즈마 프로세싱 장치. [청구항 9] 청구항 8에 있어서,상기 복수의 슬롯들은 등거리이격되는,플라즈마 프로세싱 장치. [청구항 10] 청구항 8에 있어서,상기 복수의 슬롯들은,상기 라이너 어셈블리를 통해 형성된 제 3 슬롯을 더 포함하고, 상기 제 1, 제 2 및 제 3 슬롯들은 120도이격되는,플라즈마 프로세싱 장치. [청구항 11] 청구항 8에 있어서,상기 복수의 슬롯들은,상기 라이너 어셈블리를 통해 형성된 제 3 슬롯; 및상기 라이너 어셈블리를 통해 형성된 제 4 슬롯을 더 포함하고, 상기 제 1, 제 2, 제 3 및 제 4 슬롯들은 90도이격되는,플라즈마 프로세싱 장치. [청구항 12] 청구항 7에 있어서,상기 라이너 어셈블리는,상기 챔버 본체의 상기 측벽의 내부에서 슬립하기 위한 치수로 된 외부 벽; 및상기 외부 벽에 결합되는 저부더 포함하는,플라즈마 프로세싱 장치. [청구항 13] 청구항 12에 있어서,상기 라이너 어셈블리는,상기 저부에 결합되고 상기 기판 지지체 상부에서 슬립하기 위한 치수로 된 내부 벽더 포함하는,플라즈마 프로세싱 장치. [청구항 14] 청구항 7에 있어서,상기 라이너 어셈블리는,상기 라이너 어셈블리의 내부에 형성된 냉각제 통로더 포함하는,플라즈마 프로세싱 장치.