기판 지지 장치와 이것을 이용한 열처리 장치 document_id 1020130002868

[청구항 2] 제1항에 있어서,상기 지지핀은,상기 지지대에 결합되는 지지브라켓부; 및상기 지지브라켓부에서 돌출 형성되어 상기 피가열물을 지지하는 지지핀부;를포함하는것을특징으로 하는기판 지지 장치. [청구항 3] 제2항에 있어서,상기 지지핀은,상기 지지대에서회동또는승강가능한것을특징으로 하는기판 지지 장치. [청구항 4] 제3항에 있어서,상기 지지부재는,상기 지지대와 상기 지지핀을 상호 탄성 지지하는 탄성부재;를더포함하는것을특징으로 하는기판 지지 장치. [청구항 11] 제10항에 있어서,상기 히터는,가열영역과, 상기 가열영역의 양단부에 연장 형성되는 더미영역으로 구획되고, 상기 가열영역에서 열이 발산되는 가열유닛;연결영역과, 상기 연결영역의 양단부에 연장 형성되는 보상영역으로 구획되고, 상기 보상영역에서 열이 발산되는 보상유닛; 및상기 가열유닛과 상기 보상유닛이 고정되는 고정유닛;을포함하는것을특징으로 하는열처리 장치. [청구항 12] 제11항에 있어서,상기 가열영역과 상기 보상영역에는, 상기 열을 반사시키는반사부가형성되는것을특징으로 하는열처리 장치. [청구항 13] 제10항에 있어서,상기 히터와, 상기 바디부재와, 상기 지지부재를 수용하여 상기 피가열물이 열처리되는 공간을 제공하는 챔버;를더포함하는것을특징으로 하는열처리 장치. [청구항 14] 제13항에 있어서,발산되는 열의 간섭을 억제 또는 방지하고, 상기 히터에 전원을 인가하도록 상기 챔버에 수용되어 상기 히터에 전기적으로 연결되는 고온용 케이블;를더포함하는것을특징으로 하는열처리 장치. [청구항 15] 제13항에 있어서,상기 챔버는,상기 피가열물이 열처리되는 공간이 형성되는 하우징; 및상기 공간이 개폐되도록 상기 하우징에 탈부착 가능하게 결합되는 개폐도어;를포함하는것을특징으로 하는열처리 장치. [청구항 16] 제15항에 있어서,상기 공간의 개폐에 따라 상기 바디부재를 상기 하우징에 슬라이드 이동 가능하게 결합시키는 슬라이딩부재;를더포함하는것을특징으로 하는열처리 장치. [청구항 17] 제13항에 있어서,상기 피가열물의 열처리를 위한 공정가스를 상기 챔버의 내부에 주입하는가스공급유닛더포함하는것을특징으로 하는열처리 장치. [청구항 18] 제17항에 있어서,상기 가스공급유닛은,상기 공정가스를 공급하는 가스공급부;상기 챔버의 내부에 상호 이격되어 상기 공정가스가 상기 챔버 내부에 토출되는 복수의 토출부; 및상기 가스공급부와 상기 토출부를 연결하여 복수의 상기 토출부에 상기 공정가스를 분배하는 분배부;를포함하는것을특징으로 하는열처리 장치. [청구항 19] 제18항에 있어서,상기 토출부는,상기 피가열물을 향해 상기 공정가스가 토출되는 토출슬릿이 개구된 중공의 토출관부; 및상기 분배부와 연통되어 상기 공정가스의 이동 경로를 형성하고, 상기 토출관부에 삽입 지지되어 상기 공정가스가 토출되는 더미슬릿이 개구된 중공의 더미관부;를포함하는것을특징으로 하는열처리 장치. [청구항 20] 제18항에 있어서,상기 가스공급유닛은,상기 토출부를 상기 챔버의 측면에 고정시키는 토출브라켓부;를더포함하는것을특징으로 하는열처리 장치. [청구항 21] 제20항에 있어서,상기 가스공급유닛은,상기 토출부가 회동 가능하도록 상기 토출부와 상기 토출브라켓부를 연결하는 각도조절부;를더포함하는것을특징으로 하는열처리 장치. [청구항 22] 제21항에 있어서,상기 각도조절부는,상기 토출부가 회동되는 경로를 형성하는 조절가이드부; 및상기 조절가이드부에 결합되어 상기 조절가이드부를 따라 이동되는 조절돌부;를포함하는것을특징으로 하는열처리 장치. [청구항 23] 제18항에 있어서,상기 가스공급유닛은,상기 토출부와 대향되도록 배치되어 상기 챔버 내부에 공급된 상기 공정가스가 배출되는 배기부;를더포함하는것을특징으로 하는열처리 장치.