기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 document_id 1020130021111

[청구항 2] 청구항 1에 있어서,상기 약액 노즐과는 따로 설치되고, 상기 히터를 가지는 히터 헤드를 더 포함하고,상기 히터 이동 유닛은, 상기 히터 헤드를 이동시키는 히터 헤드 이동 유닛포함하는,기판 처리 장치. [청구항 3] 청구항 2에 있어서,상기 히터 헤드는, 상기 적외선 램프를 수용하는 바닥이 있는 용기 형상의 램프 하우징구비하는,기판 처리 장치. [청구항 4] 청구항 3에 있어서,상기 히터는, 상기 적외선 램프의 조사에 의해 가열되는 상기 램프 하우징의 저판부포함하는,기판 처리 장치. [청구항 5] 청구항 3에 있어서,상기 램프 하우징nan은석영이용하여형성되어 있는,기판 처리 장치. [청구항 6] 청구항 3에 있어서,상기 히터 헤드는, 상기 램프 하우징의 개구부를 폐색하는 뚜껑더 구비하고 있는,기판 처리 장치. [청구항 7] 청구항 6에 있어서,상기 뚜껑은,수지재료이용하여형성되어 있는,기판 처리 장치. [청구항 8] 청구항 1에 있어서,상기 히터는, 상기 기판의 주면과 상기 적외선 램프의 사이에 배치되고, 상기 적외선 램프의 조사에 의해 가열되는 대향 부재더 포함하는,기판 처리 장치. [청구항 9] 청구항 1에 있어서,상기 적외선 램프는, 상기 기판의 주면에 수직인 축선을 중심 축선으로 하는 환상있는,기판 처리 장치. [청구항 10] 청구항 1에 있어서,상기 약액은 레지스트박리액인,기판 처리 장치. [청구항 11] 청구항 1 내지 청구항 10 중 어느 한 항에 있어서,상기 기판 유지 유닛은, 기판을 수평 자세로 유지하기 위한 것이며, 상기 기판 처리 장치는, 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판을, 소정의 연직 축선 둘레로 회전시키기 위한 회전 유닛과,상기 약액 공급 유닛을 제어하여 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판의 주면에 상기 약액 노즐로부터의 약액을 공급함과 더불어, 상기 회전 유닛을 제어하여 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판을 제1 회전 속도로 회전시킴으로써, 상기 기판의 주면을 덮는 약액의 액막을 형성시키는 액막 형성 공정과, 상기 액막 형성 공정 후에, 상기 회전 유닛을 제어하여, 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판을 제1 회전 속도보다도 낮은 제2 회전 속도로 회전시킴으로써, 상기 기판의 주면 상에 형성된 약액의 액막을, 상기 기판의 주면 상에 유지하는 액막 유지 공정과, 상기 액막 유지 공정과 병행하여, 상기 히터 및 상기 히터 이동 유닛을 제어하고, 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판의 주면에 상기 히터를 대향 배치시킴과 더불어, 상기 기판의 주면에 유지되어 있는 약액의 액막을 상기 히터에 의해 가열하는 액막 가열 공정과, 상기 액막 유지 공정 및 상기 액막 가열 공정과 병행하여, 상기 히터를 상기 기판의 주면을 따라서 이동시키는 히터 이동 공정을 실행하는 제어 유닛더 포함하는,기판 처리 장치. [청구항 30] 청구항 29에 있어서,상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판의 주면을 따라서 상기 유지 헤드를 이동시키는 유지 헤드 이동 유닛을 더 포함하고, 상기 적외선 램프는, 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판보다도 소경가지는,기판 처리 장치. [청구항 31] 청구항 29에 있어서,상기 기판 유지 유닛을 수용하고, 상기 기판 유지 유닛에 유지된 기판의 주면과 대향하는 위치에 기판을 통과 가능한 사이즈의 개구를 가지는 컵을 더 포함하고, 상기 기체 토출구는 상기 개구 내에 배치되어, 상기 기체 토출구는 상기 컵의 개구단을 향해서 기체토출하는,기판 처리 장치. [청구항 32] 청구항 29에 있어서,관벽을 그 두께 방향으로 관통하는 토출 구멍을 가지고, 기체가 유통하는 기체 유통 배관과,상기 기체 유통 배관에 기체를 공급하는 기체 공급 유닛과,상기 기체 유통 배관을 유통하여 상기 토출 구멍으로부터 토출된 기체를, 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판의 주면을 따르는 기류로 정류하는 상정류판 및 하정류판을 더 포함하고, 상기 한쌍의 정류판에 의해서 정류된 기류가 상기 기체 토출구공급되는,기판 처리 장치. [청구항 33] 청구항 32에 있어서,상기 토출 구멍은, 상기 기체 유통 배관의 전체 둘레에 걸쳐 둘레 방향으로 간격을 두고 배치된 복수의 개별 토출 구멍있는,기판 처리 장치. [청구항 34] 청구항 32에 있어서,상기 토출 구멍은, 상기 기체 유통 배관의 둘레방향을 따른 환상형성되어 있는,기판 처리 장치. [청구항 35] 청구항 32에 있어서,상기 적외선 램프는, 상기 기체 유통 배관의 주위를 둘러싸는 환상을 이루고, 상기 기체 유통 배관의 관벽은, 상기 적외선 램프에 의한 적외선의 조사에 의해 가열됨으로써, 상기 기체 유통 배관을 유통하는 기체가열하는,기판 처리 장치. [청구항 36] 청구항 32에 있어서,상기 기체 유통 배관의 관벽은,석영이용하여형성되어 있는,기판 처리 장치. [청구항 37] 청구항 32에 있어서,상기 유지 헤드는, 상기 적외선 램프를 수용하는 램프 하우징을 구비하고,상기 기체 유통 배관의 관벽은, 상기 램프 하우징 및 상기 하정류판과 일체형성되어 있는,기판 처리 장치. [청구항 38] 청구항 32에 있어서,상기 하정류판은, 상기 기체 유통 배관지지되어 있는,기판 처리 장치. [청구항 39] 청구항 32에 있어서,인구를 가지고, 상기 기체 유통 배관 내에 삽입통과된 흡인 배관과,상기 흡인 배관 내를 흡인하는 흡인 유닛을 더 포함하고, 상기 기체 유통 배관 및 상기 흡인 배관은, 상기 기체 유통 배관 내에 상기 흡인 배관이 삽입통과됨으로써 이중 배관 구조를 형성하고 있고, 상기 흡인 배관의 선단은, 상기 하정류판을 관통하여 상기 흡인구형성하고 있는,기판 처리 장치. [청구항 40] 청구항 29 내지 청구항 39 중 어느 한 항에 있어서,상기 약액은 레지스트박리액인,기판 처리 장치. [청구항 42] 청구항 41에 있어서,상기 약액 유통 배관의 관벽은, 상기 적외선 램프에 의한 적외선의 조사에 의해 가열되어 고온으로 승온됨으로써, 상기 약액 유통 배관을 유통하는 약액가열하는,기판 처리 장치. [청구항 43] 청구항 41에 있어서,상기 약액 유통 배관은, 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판의 주면에 약액을 토출하는 약액 토출구있는,기판 처리 장치. [청구항 44] 청구항 43에 있어서,상기 약액 유통 배관의 주위를 둘러싸도록 설치되고, 상기 약액 유통 배관과의 사이에 기체가 유통하는 기체 유로를 구획하고, 선단부에 있어서 상기 약액 유통 배관과의 사이에 기체 토출구를 구획하도록 상기 약액 유통 배관에 고정된 외통을 더 포함하고, 상기 약액 토출구로부터 토출되는 약액과 상기 기체 토출구로부터 토출되는 기체가 혼합됨으로써 상기 약액의 액적형성되는,기판 처리 장치. [청구항 45] 청구항 41에 있어서,상기 유지 헤드는, 수평 방향을 따르는 상면 및 하면을 가지는 저판부를 가지고, 상기 적외선 램프를 수용하는 바닥이 있는 용기 형상의 램프 하우징을 구비하고,상기 약액 유통 배관은, 상기 램프 하우징의 내부에서, 상기 저판부의 상기 상면에 대향하는 개구를 가지고,상기 저판부는, 그 저판부를 상하 방향으로 관통하는 다수의 약액 토출구가지는,기판 처리 장치. [청구항 46] 청구항 41에 있어서,상기 약액 유통 배관의 관벽은,석영이용하여형성되어 있는,기판 처리 장치. [청구항 47] 청구항 41에 있어서,상기 유지 헤드는, 상기 적외선 램프를 수용하는 바닥이 있는 용기 형상의 램프 하우징구비하는,기판 처리 장치. [청구항 48] 청구항 47에 있어서,상기 히터는, 상기 적외선 램프로부터의 적외선의 조사에 의해 가열되는 상기 램프 하우징의 저판부포함하는,기판 처리 장치. [청구항 49] 청구항 47에 있어서,상기 램프 하우징nan은석영이용하여형성되어 있는,기판 처리 장치. [청구항 50] 청구항 47에 있어서,상기 약액 유통 배관의 관벽은, 상기 램프 하우징과 일체형성되어 있는,기판 처리 장치. [청구항 51] 청구항 41에 있어서,상기 히터는, 상기 기판의 주면과 상기 적외선 램프의 사이에 배치되고, 상기 적외선 램프의 조사에 의해 가열되는 대향 부재더 가지는,기판 처리 장치. [청구항 52] 청구항 41에 있어서,상기 약액은 레지스트박리액인,기판 처리 장치. [청구항 53] 청구항 41 내지 청구항 52 중 어느 한 항에 있어서,상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판을, 소정의 연직 축선 둘레로 회전시키기 위한 회전 유닛과,상기 약액 공급 유닛을 제어하여 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판의 주면에, 상기 약액 유통 배관으로부터의 약액을 공급함과 더불어, 상기 회전 유닛을 제어하여 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판을 제1 회전 속도로 회전시킴으로써, 그 기판의 주면을 덮는 약액의 액막을 형성시키는 액막 형성 공정과, 상기 액막 형성 공정 후에, 상기 회전 유닛을 제어하여, 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판을 제1 회전 속도보다도 낮은 제2 회전 속도로 회전시킴으로써, 상기 기판의 주면 상에 형성된 약액의 액막을, 그 기판의 주면 상에 유지하는 액막 유지 공정과, 상기 액막 유지 공정과 병행하여, 상기 히터 및 상기 유지 헤드 이동 유닛을 제어하여, 상기 기판 유지 유닛에 유지되어 있는 기판의 주면에 상기 히터를 대향 배치시켜, 상기 기판의 주면에 유지되어 있는 약액의 액막을 상기 히터에 의해 가열하는 액막 가열 공정과, 상기 액막 유지 공정 및 상기 액막 가열 공정과 병행하여, 상기 유지 헤드를, 상기 기판의 주면을 따라서 이동시키는 유지 헤드 이동 공정을 실행하는 제어 유닛을 더 포함하고, 상기 기판 유지 유닛은, 기판을 수평 자세유지하는,기판 처리 장치.