문맥 (context)
[청구항 1]
웨이퍼-프로세싱 토대 (pedestal) 를 위한 고온 전극 연결 어셈블리로서, 상기 토대에 삽입된 스터드에 장착하기 위한 컵, 및 판 어댑터 부를 갖는 전극 막대 (rod)
외부 표면, 및 상기 전극 막대를 수용하기 위한 어퍼처 (aperture) 를 갖는 플로팅 판 (floating plate) 으로서, 상기 플로팅 판은 상기 전극 막대의 측면 움직임에 저항하기 위해 상기 토대의 내부 표면에 접촉하기 위한 것인, 상기 플로팅 판
상기 전극 막대를 마찰있게 맞물리도록 구성된 회전-방지 리테이너 (anti-rotation retainer) 링; 및
상기 플로팅 판의 상기 외부 표면으로부터 연장하는 회전-방지 포스트로서, 상기 회전-방지 포스트는, 상기 플로팅 판에 관하여 상기 전극 막대의 회전을 제한하도록 구성되는, 상기 회전-방지 포스트를 포함하는, 고온 전극 연결 어셈블리
[청구항 2]
제1항에 있어서,상기 스터드의 숄더(shoulder) 와 상기 컵 사이에 설치된 벨레빌 워셔더 포함하는,고온 전극 연결 어셈블리.
[청구항 3]
제2항에 있어서,상기 컵과 상기 스터드 사이의 상기 벨레빌 워셔는 실질적지는,고온 전극 연결 어셈블리.
[청구항 4]
제2항에 있어서,상기 플로팅 판은 상기 회전-방지 리테이너 링을 위치시키기 위한 하나 이상의 인덱스 마크들을 가지며, 제1 인덱스 마크는상기벨레빌워셔상의사전로드와연관되는,고온 전극 연결 어셈블리.
[청구항 5]
제2항에 있어서,상기 플로팅 판은 상기 회전-방지 리테이너 링을 위치시키기 위한 하나 이상의 인덱스 마크들을 가지며, 제1 인덱스 마크는 사전 로드로부터의 상기 벨레빌 워셔의 배출의 미리 정의된 수의 정도표시하는,고온 전극 연결 어셈블리.
[청구항 6]
제1항에 있어서,상기 전극 막대는팔라듐도금된스테인리스 스틸로 이루어진,고온 전극 연결 어셈블리.
[청구항 7]
제1항에 있어서,상기 전극 막대는로듐도금된스테인리스 스틸로 이루어진,고온 전극 연결 어셈블리.
[청구항 8]
제1항에 있어서,상기 회전-방지 리테이너 링은 종래의 외부 스냅링인,고온 전극 연결 어셈블리.
[청구항 9]
제1항에 있어서,어댑터 부는 상기 플로팅 판 외부로부터 상기 전극 막대를 회전시키기 위한 비틈 피처갖는,고온 전극 연결 어셈블리.
[청구항 10]
제1항에 있어서,어댑터 부는 주변 홈을 갖고, 상기 회전-방지 리테이너 링은 상기 주변 홈에서 상기 전극 막대를 마찰맞물리는,고온 전극 연결 어셈블리.
[청구항 11]
제1항에 있어서,상기 전극 막대는 상기 컵과 상기 판 어댑터 부 사이에 스템을 또한 갖고, 상기 스템 대 상기 컵의 외부 지름들의 비율은 2:1 내지1 사이인,고온 전극 연결 어셈블리.
[청구항 12]
제1항에 있어서,어댑터 부는 숄더를 갖고, 상기 플로팅 판은 상기 판 어댑터 부의 상기 숄더와 상기 회전-방지 리테이너 링 사이의 갭위치되는,고온 전극 연결 어셈블리.
[청구항 13]
제1항에 있어서,상기 플로팅 판 및 상기 토대의 상대적인 움직임을 위한 상기 토대의 내부 표면과 상기 플로팅 판 사이의 틈 (clearance) 을더 포함하는고온 전극 연결 어셈블리.
[청구항 14]
고온 전극 막대로서,
웨이퍼-프로세싱 토대에 삽입된 스터드 에 장착하기 위한 컵
판 어댑터 부;
상기 컵과 상기 판 어댑터 부 사이의 스템
상기 판 어댑터 부 내의 주변 홈으로서, 상기 주변 홈은 회전-방지 포스트와 접촉할 때 플로팅 판에 관하여 상기 전극 막대의 회전을 제한하도록 구성된 회전-방지 리테이너 링을 마찰있게 맞물리기 위한 것인, 상기 주변 홈; 및
상기 플로팅 판의 축방향 움직임을 제한하기 위한 상기 판 어댑터 부 내의 숄더를 포함하는, 고온 전극 막대
[청구항 15]
제14항에 있어서,상기 전극 막대는팔라듐도금된스테인리스 스틸로 이루어진,고온 전극 막대.
[청구항 16]
제14항에 있어서,상기 전극 막대는로듐도금된스테인리스 스틸로 이루어진,고온 전극 막대.
[청구항 17]
제14항에 있어서,어댑터 부는 상기 플로팅 판 외부에서 상기 전극 막대를 회전시키기 위한 상기 판 어댑터 부에서의 비틈 피처갖는,고온 전극 막대.
[청구항 18]
제14항에 있어서,상기 스템 대 상기 컵의 외부 지름들의 비율은 2:1 내지1 사이인,고온 전극 막대.
지시문 (instruction)
주어진 특허 청구항을 읽고 구성요소의 기능과 역할을 분석하여 질문에 답하라. 근거를 종합하여 자연스러운 문장으로 설명하라.
질문 (question)
고온 전극 연결 어셈블리에서 플로팅 판의 인덱스 마크가 벨레빌 워셔의 사전 로드(preload)와 관련하여 수행하는 역할은 무엇인가?
추론 과정 (compact_reasoning)
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1과제 해석
task_interpretation고온 전극 연결 어셈블리에서 플로팅 판의 인덱스 마크가 벨레빌 워셔의 사전 로드(preload)와 맺는 기능적 관계를 파악해야 한다.
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2정보 추출
information_extraction청구항 4와 5에서 플로팅 판의 인덱스 마크(제1 인덱스 마크)가 벨레빌 워셔의 사전 로드 및 배출 정도와 관련되어 있음을 추출한다.
- 제1 인덱스 마크는 상기 벨레빌 워셔 상의 사전 로드와 연관되는, 상기 플로팅 판은 상기 회전-방지 리테이너 링을 위치시키기 위한 하나 이상의 인덱스 마크들을 가지며, 제1 인덱스 마크는 사전 로드로부터의 상기 벨레빌 워셔의 배출의 미리 정의된 수의 정도 표시하는
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3근거 선택
evidence_selection인덱스 마크의 역할이 사전 로드와 연관되며, 구체적으로 사전 로드로부터의 배출 정도를 표시한다는 구절을 선택한다.
- 제1 인덱스 마크는 사전 로드로부터의 상기 벨레빌 워셔의 배출의 미리 정의된 수의 정도 표시하는
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4논리 통합
logical_integration인덱스 마크는 회전-방지 리테이너 링을 위치시키기 위한 용도로 사용되며, 그 중 제1 인덱스 마크는 벨레빌 워셔가 사전 로드 상태로부터 얼마나 배출되었는지를 나타내는 지표 역할을 한다.
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5결론 도출
conclusion_formulation플로팅 판의 인덱스 마크(제1 인덱스 마크)는 벨레빌 워셔의 사전 로드와 연관되어, 사전 로드로부터 벨레빌 워셔가 배출된 미리 정의된 수의 정도를 표시하는 역할을 수행한다.
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6답변 생성
answer_generation질문에 대해 인덱스 마크가 사전 로드로부터의 벨레빌 워셔 배출 정도를 표시한다는 점을 명시하여 답변을 생성한다.
최종 답변 (final_answer)
플로팅 판의 인덱스 마크(제1 인덱스 마크)는 벨레빌 워셔의 사전 로드와 연관되어, 사전 로드로부터 벨레빌 워셔가 배출된 미리 정의된 수의 정도를 표시하는 역할을 수행한다.
핵심 해석 (core_interpretation)
플로팅 판에 형성된 인덱스 마크를 통해 벨레빌 워셔의 사전 로드 상태 및 그로부터의 배출 정도를 시각적으로 확인하거나 제어할 수 있다.