재료 공급 장치용 필터 document_id 1020137032828

[청구항 1] 타겟 위치로 타겟 재료를 공급하는 장치로서, 상기 타겟 재료와 비타겟(non-target) 입자를 포함하는 타겟 혼합물을 유지하는 용기 상기 타겟 혼합물이 통과되는 제 1 필터 상기 타겟 혼합물이 통과되는 제 2 필터; 및 상기 제 1 및 제 2 필터를 통과한 타겟 혼합물을 수용하여 상기 타겟 혼합물을 상기 타겟 위치로 공급하는 공급 시스템 을 포함하고, 상기 제 2 필터는 일 세트의 관통 홀을 포함하고 상기 타겟 혼합물에 노출된 표면적을 가지며, 상기 노출된 표면적은 상기 제 2 필터의 횡단 크기(transverse extent)와 등가인 횡단 크기를 가진 소결 필터의 노출된 표면적 보다 적어도 1 백배 작은 것을 특징으로 하는 타겟 재료를 공급하는 장치 [청구항 2] 제 1 항에 있어서,상기 제 2 필터는 상기 제 1 필터를 통과한 상기 타겟 혼합물을 수용하는 것을 특징으로 하는 타겟 재료공급하는장치. [청구항 3] 제 1 항에 있어서,상기 세트의 관통 홀은 균일한 크기의 단면폭을 가지는 것을 특징으로 하는 타겟 재료공급하는장치. [청구항 4] 제 3 항에 있어서,상기 제 2 필터는 상기 세트의 균일한 크기의 관통 홀의 횡단 크기와는 상이한 횡단 크기를 가지는 또 다른 세트의 균일한 크기의 관통 홀을 포함하는 것을 특징으로 하는 타겟 재료공급하는장치. [청구항 5] 제 1 항에 있어서,상기 제 1 필터는 일 세트의 관통 홀을 포함하고 상기 타겟 혼합물에 노출된 표면적을 구비하며, 상기 노출된 표면적은 상기 제 2 필터의 횡단 크기와 등가인 횡단 크기를 가진 소결 필터의 노출된 표면적 보다 적어도 1 백배 작은 것을 특징으로 하는 타겟 재료공급하는장치. [청구항 6] 제 5 항에 있어서,상기 제 1 필터의 상기 세트의 관통 홀의 상기 단면폭은 상기 제 2 필터의 상기 세트의 관통 홀의 단면폭과는 상이한 것을 특징으로 하는 타겟 재료공급하는장치. [청구항 7] 제 1 항에 있어서,상기 제 2 필터는 상기 제 2 필터 전체의 압력 차를 견디기에 충분한 크기의 종 방향 두께를 가지는 것을 특징으로 하는 타겟 재료공급하는장치. [청구항 8] 제 1 항에 있어서,상기 제 2 필터의 상기 세트의 관통 홀의 각각의 홀은 10㎛ 미만의 단면폭을 가지는 것을 특징으로 하는 타겟 재료공급하는장치. [청구항 9] 제 1 항에 있어서,상기 제 2 필터의 상기 세트의 관통 홀의 각각의 홀의 단면폭은 상기 공급 시스템의 노즐의 오리피스의 단면폭보다 작은 것을 특징으로 하는 타겟 재료공급하는장치. [청구항 10] 제 1 항에 있어서,상기제 1 및 제 2 필터 중 적어도 하나는 텅스텐, 티타늄, 몰리브덴, 니켈, 탄탈륨, 또는 기타 금속, 석영, 유리, 또는 세라믹 재료로 적어도 일부가 이루어지는 것을 특징으로 하는 타겟 재료공급하는장치. [청구항 11] 제 1 항에 있어서,상기 제 2 필터내의 상기 세트의 관통 홀은 상기 비타겟 입자 중 적어도 일부를 차단하도록 크기조정되는 것을 특징으로 하는 타겟 재료공급하는장치. [청구항 12] 제 1 항에 있어서,재료는 유체 상태인 것을 특징으로 하는 타겟 재료공급하는장치. [청구항 13] 제 1 항에 있어서,상기 제 2 필터는 비소결, 비메쉬 필터인 것을 특징으로 하는 타겟 재료공급하는장치. [청구항 14] 타겟 재료와 비타겟 입자를 포함하는 타겟 혼합물을 유지하는 용기 제 1 재료로 만들어지고, 상기 타겟 혼합물이 통과되는 제 1 필터 상기 제 1 재료와 상이한 제 2 재료로 만들어지고, 상기 타겟 혼합물이 통과되는 제 2 필터 상기 제 1 및 제 2 필터를 통과한 타겟 혼합물을 수용하여 상기 타겟 혼합물을 타겟 위치로 공급하는 공급 시스템 상기 타겟 위치로 방사선을 공급하여 상기 타겟 혼합물과 충돌하도록 하는 방사선원; 및 상기 방사선에 의해 충돌된 상기 타겟 혼합물에 의해 생성된 극자외선 광을 캡처하여 지향시키는 집속 시스템 을 포함하는 것을 특징으로 하는 장치 [청구항 15] 제 14 항에 있어서,상기 제 2 필터는 상기 제 1 필터를 통과한 상기 타겟혼합물수용하는것을특징으로 하는장치. [청구항 16] 제 14 항에 있어서,상기 제 1 필터 세트의 상기 관통 홀의 단면폭nan은상기제2필터세트의상기관통홀의단면폭상이한것을특징으로 하는장치. [청구항 17] 타겟 재료 및 비타겟 입자를 포함하는 타겟 혼합물을 유지하는 용기에 제 1 단부에서 유체 연통하게 결합되고, 노즐의 오리피스에 제 2 단부에서 유체 연통하게 결합되는 복수의 관통 홀; 및 상기 용기의 상기 제 1 단부와 일 그룹의 관통 홀 사이에 각각의 구멍이 배치되어, 상기 구멍이 상기 용기의 제 1 단부를 상기 관통 홀의 그룹에 유체 연통하게 결합시키도록 하는 복수의 구멍 을 구비하는 필터를 포함하고, 각각은 구멍은 단면폭을 가지고, 상기 관통 홀의 그룹에서의 각각의 관통 홀은 상기 관통 홀이 유체 연통하게 결합된 구멍의 단면폭보다 작은 단면폭을 가지고, 상기 관통 홀은 상기 타겟 혼합물로부터 상기 비타겟 입자의 적어도 일부를 제거하도록 크기조정되는 것을 특징으로 하는 장치 [청구항 18] 제 17 항에 있어서,상기 관통 홀은 상기 관통 홀의 축 길이를 따라서 균일한단면폭가지는것을특징으로 하는장치. [청구항 19] 제 17 항에 있어서,상기 관통 홀은 캐필러리어레이인것을특징으로 하는장치. [청구항 20] 제 17 항에 있어서,상기 복수의 구멍은 상기 용기에 면하는제1표면과상기관통홀 세트사이형성되는것을특징으로 하는장치. [청구항 21] 제 17 항에 있어서,상기 복수의 관통 홀은 상기 노즐을 면하는제2표면과상기복수의구멍사이형성되는것을특징으로 하는장치. [청구항 22] 제 17 항에 있어서,위치로 방사선을 공급하는 방사선원; 및상기 타겟 혼합물 내의 타겟 재료가, 공급된 상기 방사선에 의해 조광될 때 플라즈마가 형성되도록 상기 타겟 혼합물을 상기 타겟 위치로 공급하는공급 시스템더포함하는것을특징으로 하는장치. [청구항 23] 타겟 재료 공급 장치에 사용하는 필터로서, 상기 필터는 제 1 편평면 및 대향하는 제 2 편평면을 가진 시트로서, 상기 제 1 편평면은 타겟 재료와 비타겟 입자를 포함하는 타겟 혼합물을 유지하는 용기와 유체 연통하는 상기 시트; 및 상기 제 2 편평면으로부터 뻗어있고, 상기 제 2 편평면에서 상기 노즐의 오리피스에 유체 연통하게 결합된 복수의 관통 홀 을 포함하고, 상기 시트는 상기 타겟 혼합물에 노출된 표면적을 가지고, 상기 노출된 표면적은 상기 시트의 횡단 크기와 등가인 횡단 크기를 가진 소결 필터의 노출된 표면적 보다 적어도 1 백배 작은 것을 특징으로 하는 필터 [청구항 24] 제 23 항에 있어서,상기 노출된 표면적은 상기 시트의 횡단 크기와 등가인 횡단 크기를 가지는 소결 필터의 노출된 표면적보다 적어도 1 만배 작은 것특징으로 하는필터. [청구항 25] 제 23 항에 있어서,상기 제 1 편평면으로부터 뻗어있는 복수의 구멍을 더 포함하고, 각각의 구멍은 관통 홀의 그룹을 상기 용기에 유체 연통하게결합시키는것을특징으로 하는필터. [청구항 26] 제 23 항에 있어서,상기 복수의 관통 홀 중 각각의 관통 홀의 단면폭은 상기 복수의 관통 홀 중 다른 관통 홀의 각각의 단면폭의 20%만 변하고, 상기 복수의 관통 홀의 각각의 홀의 단면폭은 상기 홀의 높이보다 작은 것특징으로 하는필터. [청구항 27] 제 26 항에 있어서,상기 복수의 홀의 개수와 단면폭은, 상기 타겟 혼합물이 상기 필터와 상기 노즐 사이의 체적을 채우고 상기 타겟 혼합물이 상기 노즐 오리피스를 통해 흘러나간 후에는, 상기 필터 전체의 압력강하가 무시할정도선택되는것을특징으로 하는필터.