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금속 세선을 포함하는 투명 기판 및 그 제조 방법 document_id 1020140027237

출원번호
1020140027237
분류
전기(H섹션)
문맥 (context)
[청구항 18] 제17항에 있어서,상기 홈부는 최대 폭이 0.1㎛ 내지 3㎛이고, 상기 홈부의 최대 깊이가 홈부의 최대 폭의 0.2배 내지2배인투명 기판. [청구항 19] 제17항에 있어서,상기 홈부의 측면은 수직 방향을 기준으로 0도 내지 15도의 경사각갖는 것인투명 기판. [청구항 20] 제17항에 있어서,상기 홈부는 측면의 상부 모서리의 곡율 반경이 홈부 최대 깊이의 0.3배이하인투명 기판. [청구항 21] 제17항에 있어서,상기 홈부는 바닥면 면적의 총합이 수지 패턴층 전체 단면적의 0.1% 내지이하인투명 기판. [청구항 22] 제17항에 있어서,상기 수지 패턴층은 활성 에너지선 경화형 수지, 열 경화성 수지, 전도성 고분자 수지 또는 이들의 조합포함하는투명 기판. [청구항 23] 제17항에 있어서,상기 전도성층은 평균 높이가 0.01㎛ 내지인투명 기판. [청구항 24] 제17항에 있어서,상기 전도성층의 선폭이 0.1㎛ 내지인투명 기판. [청구항 25] 제17항에 있어서,상기 홈부의 측면에 부착된 전도성층의 두께가 전도성층의 평균 높이이하인투명 기판. [청구항 26] 제17항에 있어서,상기 전도성층은 구리, 은, 알루미늄, 니켈, 크롬, 백금 또는 이들의 합금을 포함하는 금속층포함하는 것인투명 기판. [청구항 27] 제26항에 있어서,상기 전도성층은 상기 금속층의 하부에 접착력 조절층을 추가포함하는 것인투명 기판. [청구항 28] 제27항에 있어서,상기 접착력 조절층은 그 두께가 0.005 내지인투명 기판. [청구항 29] 제27항에 있어서,상기 접착력 조절층은 실리콘 옥사이드, 금속 산화물, 몰리브덴, 주석, 탄소, 크롬, 니켈 및 코발트로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상포함하는 것인투명 기판. [청구항 30] 제26항에 있어서,상기 전도성층은 상기 금속층의 상부 및 하부 적어도 하나에 흑화층을 추가포함하는 것인투명 기판. [청구항 31] 제30항에 있어서,상기 흑화층은 그 두께가 0.005 내지인투명 기판. [청구항 32] 제30항에 있어서,상기 흑화층은 실리콘 옥사이드, 금속 산화물, 몰리브덴, 주석, 탄소, 크롬, 니켈 및 코발트로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상포함하는 것인투명 기판. [청구항 33] 제17항에 있어서,홈부의 일 측면의 수직 방향에 대한 경사 각도의 절대값을 θ1, 홈부의 다른 측면의 수직 방향에 대한 경사 각도의 절대값을 θ2이라 할 때, tanθ1 + tan θ2=0 이고, 상기 전도성층의 수직 단면이 하기 식 1 및 식 2를 만족하는 것인 투명 기판.[식 1]0 ≤ s1d2/(s0hd-s02) ≤ 0.3[식 2]0 ≤ s2d2/(s0hd-s02) ≤ 0.3상기 [식 1] 및 [식 2]에서,h는 홈부의 최대 깊이, d는 홈부의 최대 폭, s0는 전도성층의 평균 높이를 h, 홈부 중심점으로부터 1.2h의 높이에 있는 점을 지나는 수평선을 기준선이라 할 때, 상기 기준선 아래 영역에 존재하는 전도성층의 단면적, s1은 상기 기준선 윗 영역에 존재하는 전도성층 중 홈부의 일 측면에 부착되어 있는 전도성층의 단면적, s2는 상기 기준선 윗 영역에 존재하는 전도성층 중 홈부의 다른 측면부착되어 있는전도성층의 단면적임. [청구항 34] 제17항에 있어서,홈부의 일 측면의 수직 방향에 대한 경사 각도의 절대값을 θ1, 홈부의 다른 측면의 수직 방향에 대한 경사 각도의 절대값을 θ2이라 할 때, tanθ1 + tan θ2 003e# 0 이고, 상기 전도성층의 수직 단면이 하기 식 3 및 식 4를 만족하는 것인 투명 기판.[식 3]0 ≤ s1(tanθ1 + tan θ2)cosθ1/[{2d-h(tanθ1 + tan θ2)}t0-2s0] ≤ 0.3[식 4]0 ≤ s2(tanθ1 + tan θ2)cosθ2/[{2d-h(tanθ1 + tan θ2)}t0-2s0] ≤ 0.3상기 [식 3] 및 [식 4]에서,t0는 하기 [식 5]로 정의되는 값이고, [식 5]t0=[h(tanθ1 + tan θ2)-d+{(d-h(tanθ1 + tan θ2))2+2s0(tanθ1 + tan θ2)}0.5]/ (tanθ1 + tan θ2)h는 홈부의 최대 깊이, d는 홈부의 최대 폭, s0는 전도성층의 평균 높이를 h, 홈부 중심점으로부터 1.2h의 높이에 있는 점을 지나는 수평선을 기준선이라 할 때, 상기 기준선 아래 영역에 존재하는 전도성층의 단면적, s1은 상기 기준선 윗 영역에 존재하는 전도성층 중 홈부의 일 측면에 부착되어 있는 전도성층의 단면적, s2는 상기 기준선 윗 영역에 존재하는 전도성층 중 홈부의 다른 측면부착되어 있는전도성층의 단면적임. [청구항 35] 제17항에 있어서,상기 전도성층의 상부에 평탄화층을 추가포함하는투명 기판. [청구항 36] 제35항에 있어서,상기 평탄화층은 수지 패턴층 형성물질과의 굴절율 차이가 0.3 이하인 물질형성되는 것인투명 기판. [청구항 37] 제17항에 있어서,상기 투명 기판은 개구율이 95% 내지인투명 기판. [청구항 38] 제17항에 있어서,상기 투명 기판의 면저항이 0.01ω/□ 내지인투명 기판.
지시문 (instruction)
주어진 특허 청구항을 읽고 발명의 구성요소와 구성을 파악하여 질문에 답하라. 요구되는 내용을 항목별 목록으로 제시하라.
질문 (question)
제17항을 인용하는 투명 기판에서, 전도성층이 금속층을 포함할 경우 해당 금속층의 하부에 추가될 수 있는 접착력 조절층의 구성 성분은 무엇인가?
추론 과정 (compact_reasoning)
  1. 1과제 해석task_interpretation

    제17항을 인용하는 투명 기판에서 금속층 하부에 추가되는 접착력 조절층의 구성 성분을 찾는 것이다.

  2. 2정보 추출information_extraction

    청구항 26항에서 전도성층이 금속층을 포함함을 확인하고, 청구항 27항에서 금속층 하부에 접착력 조절층이 추가됨을 확인한다.

    • 상기 전도성층은 구리, 은, 알루미늄, 니켈, 크롬, 백금 또는 이들의 합금을 포함하는 금속층 포함하는 것인 투명 기판; 상기 전도성층은 상기 금속층의 하부에 접착력 조절층을 추가 포함하는 것인 투명 기판
  3. 3근거 선택evidence_selection

    접착력 조절층의 구체적인 성분이 명시된 청구항 29항을 선택한다.

    • 상기 접착력 조절층은 실리콘 옥사이드, 금속 산화물, 몰리브덴, 주석, 탄소, 크롬, 니켈 및 코발트로 이루어진 군으로부터 선택된 1종 이상포함하는 것인투명 기판
  4. 4논리 통합logical_integration

    청구항 26항(금속층 포함) -> 청구항 27항(금속층 하부 접착력 조절층) -> 청구항 29항(접착력 조절층의 성분)의 계층적 구조를 연결한다.

  5. 5결론 도출conclusion_formulation

    접착력 조절층의 성분은 실리콘 옥사이드, 금속 산화물, 몰리브덴, 주석, 탄소, 크롬, 니켈 및 코발트이다.

    • 실리콘 옥사이드, 금속 산화물, 몰리브덴, 주석, 탄소, 크롬, 니켈 및 코발트
  6. 6답변 생성answer_generation

    질문에 따라 리스트 형식으로 성분을 나열하여 답변을 생성한다.

최종 답변 (final_answer)
실리콘 옥사이드, 금속 산화물, 몰리브덴, 주석, 탄소, 크롬, 니켈, 코발트
핵심 해석 (core_interpretation)
금속층을 포함하는 전도성층의 접착력을 향상시키기 위해 금속층 하부에 특정 금속 및 산화물 성분으로 구성된 접착력 조절층을 배치하는 기술적 구성에 관한 것이다.