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실리콘 산화막의 형성 방법 및 실리콘 산화막의 형성 장치 document_id 1020140034025

출원번호
1020140034025
분류
전기(H섹션)
문맥 (context)
[청구항 10] 보트 내에 수용된 피처리체 를 수용하는 반응실과, 상기 반응실 내를 소정의 온도로 가열하는 가열 수단과, 상기 반응실 내에 성막용 가스를 공급하는 성막용 가스 공급 수단과, 상기 반응실 내에 수증기를 포함하는 가스를 공급하는 가스 공급 수단과, 장치의 각 부를 제어하는 제어 수단을 구비하고, 상기 제어 수단은, 상기 보트 내에 상기 피처리체를 수용 및 회수하는 스탠바이 공정과, 상기 보트 내에 수용된 상기 피처리체를 상기 반응실 내에 수용하는 로드 공정과, 상기 성막용 가스 공급 수단을 제어하여, 상기 반응실 내에 수용된 상기 피처리체에 실리콘 산화막을 형성하는 실리콘 산화막 형성 공정과, 상기 실리콘 산화막이 형성된 상기 피처리체를 상기 반응실 밖으로 반송하는 언로드 공정 을 포함하는 세트를 1회 이상 행하고, 상기 언로드 공정과, 상기 스탠바이 공정과, 상기 로드 공정 중 적어도 하나의 공정에서, 상기 가열 수단을 제어하여 상기 반응실 내를 가열한 상태에서, 상기 가스 공급 수단을 제어하여 상기 반응실 내에 수증기를 포함하는 가스를 공급하는, 실리콘 산화막의 형성 장치
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
실리콘 산화막 형성 장치의 제어 수단이 수행하는 공정 중, 가열 수단을 통해 반응실을 가열한 상태에서 가스 공급 수단을 통해 수증기를 포함하는 가스를 공급하는 공정들은 무엇인가?
추론 과정 (compact_reasoning)
  1. 1과제 해석task_interpretation

    가열 수단으로 반응실을 가열한 상태에서 가스 공급 수단을 통해 수증기를 포함하는 가스를 공급하는 공정이 무엇인지 식별해야 한다.

  2. 2정보 추출information_extraction

    청구항에서 가열과 수증기 가스 공급이 동시에 이루어지는 조건과 해당 공정들의 목록을 추출한다.

    • 상기 언로드 공정과, 상기 스탠바이 공정과, 상기 로드 공정 중 적어도 하나의 공정에서, 상기 가열 수단을 제어하여 상기 반응실 내를 가열한 상태에서, 상기 가스 공급 수단을 제어하여 상기 반응실 내에 수증기를 포함하는 가스를 공급하는
  3. 3근거 선택evidence_selection

    가열 및 가스 공급 조건에 부합하는 구체적인 공정 명칭인 '언로드 공정', '스탠바이 공정', '로드 공정'을 선택한다.

    • 상기 언로드 공정과, 상기 스탠바이 공정과, 상기 로드 공정 중 적어도 하나의 공정
  4. 4논리 통합logical_integration

    제어 수단이 수행하는 공정 세트 중, 가열과 수증기 공급이 결합되어 수행되는 공정은 언로드, 스탠바이, 로드 공정임을 논리적으로 연결한다.

  5. 5결론 도출conclusion_formulation

    질문에서 요구하는 공정들을 리스트 형태로 정리한다.

  6. 6답변 생성answer_generation

    최종 답변으로 언로드 공정, 스탠바이 공정, 로드 공정을 제시한다.

최종 답변 (final_answer)
언로드 공정, 스탠바이 공정, 로드 공정
핵심 해석 (core_interpretation)
실리콘 산화막 형성 장치에서 반응실을 가열한 상태로 수증기를 포함하는 가스를 공급하는 공정은 언로드, 스탠바이, 로드 공정 중 적어도 하나를 포함한다.