기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 document_id 1020140088408

[청구항 1] 기판을 수평 자세로 유지하는 기판 유지 수단과, 상기 기판 유지 수단에 의해 유지된 상기 기판의 상면에 액체를 공급하여 액막을 형성하는 액막 형성 수단과, 상기 기판 유지 수단에 유지된 상기 기판의 상면에 대향하는 대향 위치와 상기 기판의 상면으로부터 측방으로 퇴피한 퇴피 위치의 사이를 이동하며, 상기 액막을 구성하는 상기 액체의 응고점보다도 저온의 냉각 가스를 상기 액막에 대하여 토출하는 냉각 가스 토출 노즐과, 상기 기판 유지 수단에 유지된 상기 기판의 상면에 대향하는 대향 위치와 상기 기판의 상면으로부터 측방으로 퇴피한 퇴피 위치의 사이를 이동하며, 상기 액막이 동결된 동결막에 대하여 해동액을 토출하는 해동액 토출 노즐과, 가열된 상기 해동액을, 배관을 통하여 상기 해동액 토출 노즐에 공급하는 해동액 공급 수단과, 상기 냉각 가스 토출 노즐의 퇴피 위치에 있어서 상기 냉각 가스 토출 노즐로부터 토출되는 상기 냉각 가스와, 상기 해동액 토출 노즐의 퇴피 위치에 있어서 상기 해동액 토출 노즐로부터 토출되는 상기 해동액을 받아들여, 공통의 유로에 유통시키는 수입(受入) 수단을 구비하는 기판 처리 장치 [청구항 2] 청구항 1에 있어서,동액 토출 노즐은, 퇴피 위치에 있어서 상기 배관 내의 상기 해동액을 상기 수입 수단에 대하여 토출한 후, 상기 기판 상면과의 대향 위치로 이동하여, 상기 기판에 대하여 상기 해동액토출하는,기판 처리 장치. [청구항 3] 청구항 1에 있어서,상기 냉각 가스 토출 노즐은, 퇴피 위치에 있어서 상기 수입 수단에 대하여 소정 유량의 상기 냉각 가스토출하는,기판 처리 장치. [청구항 4] 청구항 1에 있어서,상기 냉각 가스 토출 노즐과 상기해동액 토출 노즐을 유지하여 일체적으로 이동시키는 노즐 유지 수단구비하는기판 처리 장치. [청구항 5] 청구항 1에 있어서,상기 수입 수단은, 상면에 상기 유로와 연통하는 개구가 형성되어 상기 개구에 유입하는 유체를 상기 유로에 안내하는 유체 수용부를 가지고, 상기 냉각 가스 토출 노즐의 퇴피 위치와, 상기 해동액 토출 노즐의 퇴피 위치가 모두 상기 개구의 상방위치인,기판 처리 장치. [청구항 6] 기판을 수평 자세로 유지하는 기판 유지 수단과, 냉각 액체 공급 수단으로부터 배관을 통하여 공급되는, 냉각된 액체인 냉각 액체를 토출구로부터 토출하는 냉각 액체 토출 노즐과, 상기 토출구가 상기 냉각 액체를 상기 기판 유지 수단에 유지된 상기 기판에 공급하지 않고 토출하는 예비 토출 상태와, 상기 토출구가 상기 기판 유지 수단에 유지된 상기 기판에 상기 냉각 액체를 토출하여 상기 기판 상에 상기 냉각 액체의 액막을 형성하는 액막 형성 상태의 사이에서, 상기 토출구에 의한 상기 냉각 액체의 토출 상태를 전환하는 전환 수단과, 상기 냉각 액체의 응고점보다도 저온의 냉각 가스를 상기 액막을 향해서 토출하는 냉각 가스 토출 노즐과, 상기 액막이 동결된 동결막을 상기 기판 상으로부터 제거하는 제거 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치 [청구항 7] 청구항 6에 있어서,상기 예비 토출 상태에서 상기 토출구로부터 토출되는 상기 냉각 액체의 유량은, 상기 액막 형성 상태에서 상기 토출구토출되는상기 냉각 액체의 유량보다도 적은, 기판 처리 장치. [청구항 8] 청구항 6에 있어서,상기 냉각 가스 노즐을, 상기 기판의 상면에 대향하는 대향 위치와, 상기 기판의 상방으로부터 측방으로 퇴피한 퇴피 위치의 사이에서 이동시키는 구동 수단을 더 구비하고,상기 구동 수단은, 상기 액막 형성 상태에 있어서의 상기 토출구로부터의 상기 냉각 액체의 토출 종료시에는 상기 냉각 가스 토출 노즐을 상기 대향 위치위치시키는,기판 처리 장치. [청구항 9] 청구항 8에 있어서,상기 냉각 가스 토출 노즐이 상기 퇴피 위치로부터 상기 대향 위치로 이동하는 동안, 상기 냉각 가스 토출 노즐은 상기 냉각 가스토출하는,기판 처리 장치. [청구항 10] 청구항 6에 있어서,상기 냉각 가스 토출 노즐이 상기 기판 상의 상기 액막을 향해서 상기 냉각 가스를 토출하고 있는 동안, 상기 냉각 액체 토출 노즐은상기기판의상방측방으로벗어난위치에 있는,기판 처리 장치. [청구항 11] 청구항 6에 있어서,상기 냉각 액체 토출 노즐이, 상기 기판 유지 수단에 의해 유지되는 상기 기판의 상방으로부터 측방으로 벗어난 위치고정되어 있는,기판 처리 장치. [청구항 12] 청구항 11에 있어서,상기 기판 유지 수단에 유지되는 상기 기판의 주위를 둘러싸 내부 공간에 상기 기판을 수용하고, 상기 내부 공간과 연통하는 개구가 상기 기판의 상방에 형성된 액체 비산 방지 부재를 더 구비하고,상기 냉각 액체 토출 노즐은 상기 개구의 상방으로부터 측방으로 벗어난 위치고정되어 있는,기판 처리 장치. [청구항 13] 청구항 6에 있어서,상기 냉각 액체 토출 노즐의 하방에 설치되고, 상기 예비 토출 상태에 있어서 상기 토출구로부터 토출되는 상기 냉각 액체를 수용하는 수용 부재와,상기 수용 부재가 수용한 상기 냉각 액체를 상기 수용 부재로부터 배출하는 배출 수단더 구비하는기판 처리 장치.