문맥 (context)
[청구항 1]
반도체 기판(15)의 열 처리를 위한 장치로서,
공정 챔버(1)의 바닥부를 형성하고 가열 장치(3)에 의해서 가열 가능한 서셉터(2) 및 기판 캐리어 소켓(substrate carrier socket)(4) 상에 지지된 운반체(6)를 포함하며, 상기 서셉터는 상기 공정 챔버(1) 쪽을 향하는 상부면(5)을 갖는 상기 기판 캐리어 소켓(4)을 구비하고, 상기 운반체는 링 개구(7)에 걸쳐있는 기판(15)의 가장자리(17)를 지지하기 위해, 상기 링 개구(7)를 둘러싸는 지지 숄더(supporting shoulder)(9)를 구비하며, 이때 상기 기판(15)은 상기 기판 캐리어 소켓(4)으로부터 상기 운반체(6)를 관통하는 열 전달에 의해 가열 가능하고, 그리고 상기 운반체(6)의 하부면과 상기 기판 캐리어 소켓(4)의 상부면(5) 사이의 제 1 연결부가 제 1 열 전달 배리어(heat transfer barrier)를 형성하는 상기 반도체 기판의 열처리를 위한 장치에 있어서,
상기 링 개구(7)를 기판(15)과 기판 캐리어 소켓(4) 사이에 놓인 플레이트(12)로 채우고, 이 경우 플레이트(12)의 하부면과 기판 캐리어 소켓(4)의 상부면(5) 사이의 제 2 연결부가 제 2 열 전달 배리어를 형성하며, 이때 상기 플레이트(12)의 열 전달 특성 및 상기 제 2 열 전달 배리어는, 공정 챔버 바닥부 쪽에서 가열시 기판 중앙 영역(16)에서 상기 기판(5)의 표면 온도가 기판 가장자리(17)의 표면 온도에 상응하도록, 상기 소켓(4) 상에 놓이고 지지 숄더(9)를 형성하는 상기 운반체(6)의 섹션의 열 전달 특성 및 제 1 열 전달 배리어에 조정된 것을 특징으로 하는,
반도체 기판의 열처리를 위한 장치
[청구항 2]
제 1 항에 있어서,플레이트(12)의 재료 두께가 기판(15)의 하부면(14)에 대한 기판 캐리어 소켓(4)의 상부면의 간격보다 약간 더 작은 것을 특징으로 하는,반도체 기판의 열처리위한장치.
[청구항 3]
제 1 항에 있어서,플레이트(12)가 운반체(6)와 함께 기판 캐리어 소켓(4)으로부터 분리 가능한 것을 특징으로 하는,반도체 기판의 열처리위한장치.
[청구항 4]
제 3 항에 있어서,플레이트(12)의 가장자리(24)가 운반체(6)의 개구 가장자리(8)를 약간 덮는 것을 특징으로 하는,반도체 기판의 열처리위한장치.
[청구항 5]
제 1 항에 있어서,기판 캐리어 소켓(4)의 링 층계(28) 상에 놓이고 상기 기판 캐리어 소켓(4)의 중앙 영역의 층계 측면(30)을 둘러싸는, 운송체(6)의 링 연장부(23)를 갖는 것을 특징으로 하는,반도체 기판의 열처리위한장치.
[청구항 6]
제 1 항에 있어서,플레이트(12)의 중앙 개구(21) 내로 관통하여 돌출하는 센터링 스터드(centering stud)(19)를 갖는 것을 특징으로 하는,반도체 기판의 열처리위한장치.
[청구항 7]
제 1 항에 있어서,기판 캐리어 소켓(4)은 서셉터(2)의 포켓(18) 내에 삽입되어 있는 원형 디스크 형태의 몸체이고, 상기 서셉터는 가열 장치(3)에 의해 아래에서 가열 가능한 것을 특징으로 하는,반도체 기판의 열처리위한장치.
[청구항 8]
제 1 항에 있어서,제 1 연결부는 운송 장치(6)의 하부면을 기판 캐리어 소켓(4)의 상부면(5) 상에 표면 배치함으로써 형성되고, 제 2 연결부는 플레이트(12)의 하부면(14)을 기판 캐리어 소켓(4)의 상부면(5)에 표면 배치함으로써 형성되는 것을 특징으로 하는,반도체 기판의 열처리위한장치.
[청구항 9]
제 1 항에 있어서,운송 장치(6) 및 플레이트(12)는 대체로 평평한, 기판 캐리어 소켓(4)의 표면상에 놓이는 것을 특징으로 하는,반도체 기판의 열처리위한장치.
[청구항 10]
제 1 항에 있어서,기판 캐리어 소켓(4)의 상부면의 그 밖에 평평한 표면은 국부적인 융기부(32)를 갖고, 상기 융기부는 운송체(6) 또는 플레이트(12)를 기판 캐리어 소켓(4)의 표면에 대하여 특히 0.1 내지 0.5㎜ 만큼 간격을 두도록 하는 것을 특징으로 하는,반도체 기판의 열처리위한장치.
[청구항 11]
제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,운송체(6)의 외부 가장자리 영역은 단부 이펙터(end effector)의 그래플러(grappler)에 의해 아래에서 파지 가능한 것을 특징으로 하는,반도체 기판의 열처리위한장치.
지시문 (instruction)
주어진 특허 청구항을 읽고 구성요소 사이의 연결 및 상호작용을 분석하여 질문에 답하라. 문맥에 제시된 표현을 중심으로 답하라.
질문 (question)
반도체 기판의 중앙 영역(16) 표면 온도가 가장자리(17) 표면 온도와 상응하도록 하기 위해, 플레이트(12)의 열 전달 특성 및 제 2 열 전달 배리어는 무엇에 조정되어야 하는가?
추론 과정 (compact_reasoning)
-
1과제 해석
task_interpretation기판 중앙 영역과 가장자리의 표면 온도를 일치시키기 위해 플레이트의 열 전달 특성 및 제 2 열 전달 배리어가 무엇에 맞춰 조정되어야 하는지 파악해야 한다.
-
2정보 추출
information_extraction청구항 1에서 플레이트(12)의 열 전달 특성 및 제 2 열 전달 배리어에 관한 기술적 조건을 추출한다.
- 상기 플레이트(12)의 열 전달 특성 및 상기 제 2 열 전달 배리어는, 공정 챔버 바닥부 쪽에서 가열시 기판 중앙 영역(16)에서 상기 기판(5)의 표면 온도가 기판 가장자리(17)의 표면 온도에 상응하도록, 상기 소켓(4) 상에 놓이고 지지 숄더(9)를 형성하는 상기 운반체(6)의 섹션의 열 전달 특성 및 제 1 열 전달 배리어에 조정된 것을 특징으로 하는
-
3근거 선택
evidence_selection조정의 대상이 되는 구체적인 구성 요소인 '운반체(6)의 섹션의 열 전달 특성 및 제 1 열 전달 배리어'를 선택한다.
- 상기 운반체(6)의 섹션의 열 전달 특성 및 제 1 열 전달 배리어에 조정된
-
4논리 통합
logical_integration기판의 온도 균일성을 확보하기 위해 플레이트 측의 열 전달 특성을 운반체 측의 열 전달 특성 및 제 1 열 전달 배리어에 맞춰 조정한다는 인과 관계를 확인한다.
- 상기 플레이트(12)의 열 전달 특성 및 상기 제 2 열 전달 배리어는 ... 상기 운반체(6)의 섹션의 열 전달 특성 및 제 1 열 전달 배리어에 조정된
-
5결론 도출
conclusion_formulation질문에 대한 직접적인 답변으로, 조정 대상은 운반체(6)의 섹션의 열 전달 특성 및 제 1 열 전달 배리어이다.
- 상기 운반체(6)의 섹션의 열 전달 특성 및 제 1 열 전달 배리어에 조정된
-
6답변 생성
answer_generation추출된 정보를 바탕으로 최종 답변을 작성한다.
- 상기 운반체(6)의 섹션의 열 전달 특성 및 제 1 열 전달 배리어
최종 답변 (final_answer)
상기 소켓(4) 상에 놓이고 지지 숄더(9)를 형성하는 상기 운반체(6)의 섹션의 열 전달 특성 및 제 1 열 전달 배리어
핵심 해석 (core_interpretation)
반도체 기판의 온도 균일성을 유지하기 위해, 플레이트의 열 전달 특성과 제 2 열 전달 배리어를 운반체 섹션의 열 전달 특성 및 제 1 열 전달 배리어에 맞춰 조정함으로써 중앙과 가장자리의 온도를 상응하게 만드는 기술이다.