문맥 (context)
[청구항 1]
다수의 신호라인이 배열된 기판
상기 기판 상에 형성되고, 게이트전극, 소스전극 및 드레인전극을 포함하는 트랜지스터; 및
상기 트랜지스터의 상기 소스전극 또는 상기 드레인전극에 연결된 제1전극에 대응되도록 형성된 제2전극을 포함하되,
상기 다수의 신호라인, 상기 게이트전극, 상기 소스전극, 상기 드레인전극 및 상기 제2전극 중 적어도 하나는,
접착력을 갖는 고분자물질에 금속 나노와이어 구조체가 삽입되어 있는 도전체인 것을 특징으로 하는 플렉서블 표시장치
[청구항 2]
제 1항에 있어서,상기 금속 나노와이어 구조체는 다수의 금속 나노와이어가 서로 교차하여연결된것을특징으로 하는플렉서블 표시장치.
[청구항 3]
제 1항에 있어서,상기 금속 나노와이어 구조체는 은나노와이어구조체인것을특징으로 하는플렉서블 표시장치.
[청구항 4]
제 1항에 있어서,상기 다수의 신호라인은 상기 기판 상에 형성되고, 상기 다수의 신호라인의 고분자물질은 상기 기판과 동일한물질로이루어진것을특징으로 하는플렉서블 표시장치.
[청구항 5]
제 1항에 있어서,상기 게이트전극, 상기 소스전극 및 상기 드레인전극은 상기 기판 상에 위치하는 절연막 상에 형성되고, 상기 게이트전극, 상기 소스전극 및 상기 드레인전극의 고분자물질은 상기 절연막과 동일한물질로이루어진것을특징으로 하는플렉서블 표시장치.
[청구항 6]
제 1항에 있어서,상기 고분자물질nan은폴리이미드계열물질인것을특징으로 하는플렉서블 표시장치.
[청구항 7]
제 1항에 있어서,상기 도전체는 감광성물질을 더 포함하되, 상기 감광성물질은 포토 아크릴(photo acryl)계열물질인것을특징으로 하는플렉서블 표시장치.
[청구항 10]
제 8항에 있어서,상기 고분자물질을 형성하는 단계에서, 상기 고분자 물질에 감광성 물질을 혼합시켜 형성하고, 상기 고분자 물질과 상기 감광성 물질이 혼합되어 형성된 경우, 상기 도전체를 형성하는 단계 이후에, 마스크를 사용하여 노광(exposure) 처리 및 현상(development) 처리를 하여 상기 도전체를 패터닝하는단계를추가포함하는것을특징으로 하는플렉서블 표시장치.
[청구항 11]
기판; 및
상기 기판 상에 위치하며, 접착력을 갖는 고분자물질에 금속 나노와이어 구조체가 삽입되어 있는 도전체를 포함하는 플렉서블 표시장치
[청구항 12]
제11항에 있어서,상기 도전체는, 상기 기판 상에 형성된 트랜지스터의 소스전극, 드레인전극 및 게이트전극과, 상기 기판 상에 형성된 신호 라인과및공통 전극중적어도하나인것을특징으로 하는플렉서블 표시장치.
[청구항 13]
제11항에 있어서,상기 고분자물질은 상기 기판과 동일한물질로이루어진것을특징으로 하는플렉서블 표시장치.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
플렉서블 표시장치에서 도전체를 형성할 때, 고분자물질에 감광성 물질을 혼합하여 사용하는 경우 도전체를 패터닝하기 위해 수행되는 공정 단계는 무엇인가?
추론 과정 (compact_reasoning)
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1과제 해석
task_interpretation고분자물질에 감광성 물질을 혼합하여 도전체를 형성할 때, 도전체를 패터닝하기 위해 수행되는 공정 단계를 찾는 것이다.
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2정보 추출
information_extraction청구항 10에서 고분자 물질과 감광성 물질이 혼합되어 형성된 경우의 패터닝 공정에 관한 내용을 추출한다.
- 상기 고분자 물질과 상기 감광성 물질이 혼합되어 형성된 경우, 상기 도전체를 형성하는 단계 이후에, 마스크를 사용하여 노광(exposure) 처리 및 현상(development) 처리를 하여 상기 도전체를 패터닝하는단계를추가포함하는것을특징으로 하는
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3근거 선택
evidence_selection패터닝을 위해 수행되는 구체적인 공정인 '마스크를 사용하여 노광(exposure) 처리 및 현상(development) 처리' 구절을 선택한다.
- 마스크를 사용하여 노광(exposure) 처리 및 현상(development) 처리를 하여 상기 도전체를 패터닝하는단계
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4논리 통합
logical_integration혼합된 물질로 도전체를 형성한 후, 패터닝을 위해 마스크를 이용한 노광 및 현상 공정이 추가됨을 확인한다.
- 상기 고분자 물질과 상기 감광성 물질이 혼합되어 형성된 경우, 상기 도전체를 형성하는 단계 이후에, 마스크를 사용하여 노광(exposure) 처리 및 현상(development) 처리를 하여 상기 도전체를 패터닝하는단계를추가포함하는것을특징으로 하는
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5결론 도출
conclusion_formulation질문에서 요구하는 패터닝 공정 단계는 마스크를 사용한 노광 처리 및 현상 처리이다.
- 마스크를 사용하여 노광(exposure) 처리 및 현상(development) 처리를 하여 상기 도전체를 패터닝하는단계
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6답변 생성
answer_generation추출된 공정 단계를 바탕으로 최종 답변을 작성한다.
- 마스크를 사용하여 노광(exposure) 처리 및 현상(development) 처리를 하여 상기 도전체를 패터닝하는단계
최종 답변 (final_answer)
마스크를 사용하여 노광(exposure) 처리 및 현상(development) 처리를 하여 상기 도전체를 패터닝하는 단계
핵심 해석 (core_interpretation)
고분자물질과 감광성 물질이 혼합된 도전체를 사용할 경우, 마스크를 이용한 노광 및 현상 공정을 통해 도전체의 패턴을 형성할 수 있다.