문맥 (context)
[청구항 1]
가스 공급원으로 공정 가스를 반응 튜브 내로 도입하기 위한 가스 도입관
상기 가스 도입관에 연결되고, 상기 반응 튜브 내에서 상기 가스 도입관으로부터 일방향으로 연장하고 아치 형상으로 상기 반응 튜브의 원주 방향으로 연장하는 가스 분배체; 및
상기 가스 분배체의 내측면에 상기 가스 분배체의 상기 연장 방향을 따라 이격 형성되고 상기 공정 가스를 분사하는 복수 개의 분사구들을 포함하는 가스 인젝터
[청구항 2]
제 1 항에 있어서,상기 가스 분배체는 상기 반응 튜브의 중심으로부터 제1 반경만큼 이격된 아치 형상의 내측부 및 상기 반응 튜브의 중심으로부터 상기 제1 반경보다 큰 제2반경만큼 이격된 아치 형상의 외측부를 포함하고, 상기 내측부 및 상기 외측부는 이들 사이에서상기공정 가스의이동통로형성하는가스 인젝터.
[청구항 3]
제 2 항에 있어서,상기 분사구들은 상기 내측부에 상기 연장 방향을 따라이격형성된가스 인젝터.
[청구항 4]
제 1 항에 있어서,상기 분사구는 원형,타원형또는다각형형상갖는가스 인젝터.
[청구항 5]
제 1 항에 있어서,상기 가스 도입관으로부터 상기 분사구의 위치가 높아질수록상기분사구의크기증가되는가스 인젝터.
[청구항 6]
제 1 항에 있어서,상기 분사구는 상기 가스 도입관으로부터 동일한 높이에서복수개형성된가스 인젝터.
[청구항 7]
제 6 항에 있어서,상기 가스 도입관으로부터 상기 분사구들의 위치가 높아질수록 동일한 높이에서 형성된상기분사구들의개수증가되는가스 인젝터.
[청구항 8]
제 1 항에 있어서,상기 가스 도입관으로부터 상기 분사구들의 위치가 높아질수록상기분사구들사이의거리감소되는가스 인젝터.
[청구항 9]
제 1 항에 있어서,상기 가스 분배체의 상부로갈수록상기가스분배체의가스이동통로의단면적증가하는가스 인젝터.
[청구항 10]
제 1 항에 있어서,상기 분사구는 상기 가스 분배체의 연장 방향에 직교하는 방향으로 상기 반응 튜브의 중심을 향하도록연장형성되는가스 인젝터.
[청구항 11]
수직 방향으로 연장하며 공정 챔버를 정의하는 반응 튜브
상기 반응 튜브 내에 로딩되며, 복수 개의 웨이퍼들을 지지하는 보트; 및
상기 반응 튜브 내에서 공정 가스를 상기 공정 챔버 내로 분사하고, 상기 반응 튜브와 상기 보트 사이에서 상기 반응 튜브의 연장 방향으로 연장하고 상기 보트를 감싸도록 아치 형상으로 상기 반응 튜브의 원주 방향으로 연장하는 적어도 하나의 가스 분배체 및 상기 가스 분배체의 내측면에 상기 연장 방향을 따라 이격 형성되고 상기 공정 가스를 분사하는 복수 개의 분사구들을 포함하는 가스 인젝터를 포함하는 웨이퍼 처리 장치
[청구항 12]
제 11 항에 있어서,상기 가스 분배체는 상기 보트와 상대적으로 인접한 아치 형상의 내측부 및 상기 반응 튜브의 내측면에 상대적으로 인접한 아치 형상의 외측부를 포함하고, 상기 내측부 및 상기 외측부는 이들 사이에서 상기 공정 가스의 이동 통로형성하는웨이퍼 처리 장치.
[청구항 13]
제 11 항에 있어서,상기 가스 분배체의 하단부로부터 상기 분사구의 위치가 높아질수록 상기 분사구의 크기증가되는웨이퍼 처리 장치.
[청구항 14]
제 11 항에 있어서,상기 분사구는 상기 가스 분배체의 하단부로부터 동일한 높이에서 복수 개가형성된웨이퍼 처리 장치.
[청구항 15]
제 14 항에 있어서,상기 가스 분배체의 하단부로부터 상기 분사구들의 위치가 높아질수록 동일한 높이에서 형성된 상기 분사구들의 개수증가되는웨이퍼 처리 장치.
[청구항 16]
제 11 항에 있어서,상기 가스 분배체의 하단부로부터 상기 분사구들의 위치가 높아질수록 상기 분사구들 사이의 거리감소되는웨이퍼 처리 장치.
[청구항 17]
제 11 항에 있어서,상기 가스 분배체의 하부로부터 상부로 갈수록 상기 가스 분배체의 가스 이동 통로의 단면적증가하는웨이퍼 처리 장치.
[청구항 18]
제 11 항에 있어서,상기 가스인젝터는 상기 가스 분배체의 하부에 연결되며 가스 공급원으로부터 상기 공정 가스를 공급하는 가스 도입관더 포함하는웨이퍼 처리 장치.
[청구항 19]
제 11 항에 있어서,상기 가스인젝터는 상기 원주 방향으로 서로 이격 배치된 제1 가스 분배체 및 제2 가스 분배체포함하고,상기 제1 가스 분배체의 호의 길이는 상기 제2 가스 분배체의 호의 길이와 같거나 다른 웨이퍼 처리 장치.
[청구항 20]
제 11 항에 있어서,상기 제1 튜브 내에 배치되며, 상기 공정 챔버의 외주부를 정의하는 내부 튜브더 포함하는웨이퍼 처리 장치.
지시문 (instruction)
주어진 특허 청구항을 읽고 발명의 구성요소와 구성을 파악하여 질문에 답하라. 근거를 종합하여 자연스러운 문장으로 설명하라.
질문 (question)
가스 인젝터의 가스 분배체가 갖는 내측부와 외측부의 구성 및 이들 사이의 기능적 역할은 무엇인가?
추론 과정 (compact_reasoning)
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1과제 해석
task_interpretation가스 분배체의 내측부와 외측부의 구성 및 이들 사이의 기능적 역할을 파악해야 한다.
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2정보 추출
information_extraction청구항 2를 통해 내측부와 외측부의 반경 위치 및 구성 정보를 추출한다.
- 상기 가스 분배체는 상기 반응 튜브의 중심으로부터 제1 반경만큼 이격된 아치 형상의 내측부 및 상기 반응 튜브의 중심으로부터 상기 제1 반경보다 큰 제2반경만큼 이격된 아치 형상의 외측부를 포함
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3근거 선택
evidence_selection내측부와 외측부의 구성과 그 사이의 기능(이동 통로 형성)을 명시한 구절을 선택한다.
- 상기 내측부 및 상기 외측부는 이들 사이에서 상기 공정 가스의 이동통로 형성
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4논리 통합
logical_integration내측부는 제1 반경에, 외측부는 제2 반경에 위치한 아치 형상이며, 이 둘 사이의 공간이 가스 이동 통로 역할을 함을 결합한다.
- 상기 가스 분배체는 상기 반응 튜브의 중심으로부터 제1 반경만큼 이격된 아치 형상의 내측부 및 상기 반응 튜브의 중심으로부터 상기 제1 반경보다 큰 제2반경만큼 이격된 아치 형상의 외측부를 포함하고, 상기 내측부 및 상기 외측부는 이들 사이에서상기공정 가스의이동통로형성
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5결론 도출
conclusion_formulation내측부와 외측부의 구성적 특징과 가스 이동 통로로서의 기능을 정리하여 답변을 도출한다.
- 상기 가스 분배체는 상기 반응 튜브의 중심으로부터 제1 반경만큼 이격된 아치 형상의 내측부 및 상기 반응 튜브의 중심으로부터 상기 제1 반경보다 큰 제2반경만큼 이격된 아치 형상의 외측부를 포함하고, 상기 내측부 및 상기 외측부는 이들 사이에서상기공정 가스의이동통로형성
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6답변 생성
answer_generation질문에 대해 구성과 기능을 명확히 기술하여 최종 답변을 생성한다.
- 상기 가스 분배체는 상기 반응 튜브의 중심으로부터 제1 반경만큼 이격된 아치 형상의 내측부 및 상기 반응 튜브의 중심으로부터 상기 제1 반경보다 큰 제2반경만큼 이격된 아치 형상의 외측부를 포함하며, 상기 내측부 및 상기 외측부는 이들 사이에서 상기 공정 가스의 이동통로를 형성하는 역할을 합니다.
최종 답변 (final_answer)
가스 분배체의 내측부는 반응 튜브의 중심으로부터 제1 반경만큼 이격된 아치 형상이고, 외측부는 반응 튜브의 중심으로부터 제1 반경보다 큰 제2 반경만큼 이격된 아치 형상으로 구성된다. 이들 사이의 기능적 역할은 상기 공정 가스의 이동 통로를 형성하는 것이다.
핵심 해석 (core_interpretation)
가스 분배체를 서로 다른 반경을 갖는 두 개의 아치 형상(내측부 및 외측부)으로 구성하여, 그 사이 공간을 통해 공정 가스가 이동할 수 있는 통로를 제공한다.