문맥 (context)
[청구항 21]
청구항 20에 있어서,상기 스택의 반도체 다이들은 공통 방향으로 향하는 활성 표면들배향되는반도체 다이 어셈블리.
[청구항 22]
청구항 20에 있어서,상기 스택의 반도체 다이들은 상기 웨이퍼 세그먼트를 향하는 활성 표면들배향되는반도체 다이 어셈블리.
[청구항 23]
청구항 20에 있어서,상기 웨이퍼 세그먼트의 표면 위의 유전체; 및상기 스택의 반도체 다이들의 전도성 관통 비아들의 패턴과 대응하는 패턴이고 상기 웨이퍼 세그먼트에 인접한 상기 스택의 반도체 다이의 전도성 관통 비아들과 열 전도 접촉하는 상기 유전체 위의 복수의 열 전도성 요소들더 포함하는반도체 다이 어셈블리.
[청구항 24]
청구항 20에 있어서,상기 웨이퍼 세그먼트에 인접한 상기 스택의 반도체 다이는 다이 부착 필름 및 유전체 재료 중 하나에 의해 그것고정되는반도체 다이 어셈블리.
[청구항 25]
청구항 20에 있어서,상기 웨이퍼 세그먼트에 인접한 스택의 반도체 다이는 그것에 고정되고 상기 스택의 상기 반도체 다이들은 솔더 본드, 열압축 본드 및 초음파 본드로 구성되는 그룹으로부터 선택된 금속 본드를 사용하여 동작적결합되는반도체 다이 어셈블리.
[청구항 26]
청구항 20에 있어서,상기 베이스 웨이퍼로부터 가장 먼 상기 스택의 상기 반도체 다이의 후면측 상에,전도성 관통 비아들에 대해 적어도 부분적으로 노출된 컨택트들;전도성 관통 비아들에 동작적으로 결합되는 반도체 다이들의 상기 스택을 테스트하는 패드들을 포함하는 재분배 회로부;상기 전도성 관통 비아들에 대해 적어도 부분적으로 노출된 상기 컨택트들 위에서 상기 반도체 다이로부터 연장되고 상기 컨택트들에 동작적으로 결합되는 외부 연결 전도성 요소들; 및상기 패드들 및 외부 연결 전도성 요소들을 노출시킨 패시베이션더 포함하는반도체 다이 어셈블리.
[청구항 27]
청구항 20에 있어서,상기 스택의 반도체 다이들모두는 노운 굿 다이인반도체 다이 어셈블리.
[청구항 28]
청구항 20에 있어서,상기 웨이퍼 세그먼트는 상기 표면에 연장되는 캐비티(cavity)를 더 포함하고; 및상기 웨이퍼 세그먼트에 인접한 상기 스택의 반도체 다이는 상기 캐비티에 적어도 부분적수용되는반도체 다이 어셈블리.
[청구항 29]
청구항 16에 있어서,상기 웨이퍼 세그먼트의 표면은 복수의 리세스들을 포함하고;상기 웨이퍼 세그먼트에 인접한 상기 스택의 반도체 다이의 상기 활성 표면으로부터 연장되는 전도성 요소들은 상기 복수의 리세스들에 적어도 부분적배치되는반도체 다이 어셈블리.
[청구항 30]
청구항 16에 있어서,상기 웨이퍼 세그먼트는 히트 싱크포함하는반도체 다이 어셈블리.
지시문 (instruction)
주어진 특허 청구항을 읽고 발명의 구성요소와 구성을 파악하여 질문에 답하라. 문맥에 제시된 표현을 중심으로 답하라.
질문 (question)
청구항 20을 인용하는 반도체 다이 어셈블리 중, 웨이퍼 세그먼트의 표면 위에 형성된 유전체와 스택의 반도체 다이들의 전도성 관통 비아 패턴이 대응하며, 열 전도 접촉을 수행하는 요소들은 무엇인가?
추론 과정 (compact_reasoning)
-
1과제 해석
task_interpretation청구항 20을 인용하는 반도체 다이 어셈블리에서 유전체와 스택의 전도성 관통 비아 패턴이 대응하며 열 전도 접촉을 수행하는 구성 요소를 찾는 것이다.
-
2정보 추출
information_extraction청구항 23에서 웨이퍼 세그먼트 표면의 유전체, 전도성 관통 비아 패턴과 대응하는 패턴, 그리고 열 전도 접촉을 수행하는 요소에 대한 정보를 추출한다.
- 상기 웨이퍼 세그먼트의 표면 위의 유전체; 및상기 스택의 반도체 다이들의 전도성 관통 비아들의 패턴과 대응하는 패턴이고 상기 웨이퍼 세그먼트에 인접한 상기 스택의 반도체 다이의 전도성 관통 비아들과 열 전도 접촉하는 상기 유전체 위의 복수의 열 전도성 요소들
-
3근거 선택
evidence_selection질문에서 요구하는 '열 전도 접촉을 수행하는 요소'에 직접적으로 대응하는 구절을 선택한다.
- 상기 유전체 위의 복수의 열 전도성 요소들
-
4논리 통합
logical_integration유전체는 비아 패턴과 대응하는 패턴을 가지며, 그 유전체 위에 위치하여 비아들과 열 전도 접촉을 수행하는 주체는 '복수의 열 전도성 요소들'임을 확인한다.
- 상기 유전체 위의 복수의 열 전도성 요소들
-
5결론 도출
conclusion_formulation질문에 대한 답변으로 '상기 유전체 위의 복수의 열 전도성 요소들'을 도출한다.
- 상기 유전체 위의 복수의 열 전도성 요소들
-
6답변 생성
answer_generation추출된 정보를 바탕으로 최종 답변을 작성한다.
- 상기 유전체 위의 복수의 열 전도성 요소들
최종 답변 (final_answer)
상기 유전체 위의 복수의 열 전도성 요소들
핵심 해석 (core_interpretation)
반도체 다이 어셈블리에서 웨이퍼 세그먼트의 유전체 층 위에 배치되어 스택의 전도성 관통 비아와 열적으로 연결되는 열 전도성 요소의 구성을 정의한다.