플라즈마 챔버에 대한 전력 그리드 document_id 1020147001178

[청구항 1] 플라즈마 프로세싱 챔버로서, 기판을 수용하기 위한 정전척 상기 챔버의 상단 부분에 접속된 유전체 윈도우로서, 상기 유전체 윈도우의 내부측은 상기 정전척 위에 있는 플라즈마 프로세싱 영역에 대면하고, 상기 유전체 윈도우의 외부측은 상기 플라즈마 프로세싱 영역 외부에 있는, 상기 유전체 윈도우 상기 유전체 윈도우의 외부측 위에 배치된 내부 및 외부 코일들로서, 상기 내부 및 외부 코일들은 제 1 rf 전력 소스에 접속되는, 상기 내부 및 외부 코일들; 및 상기 유전체 윈도우의 외부측과 상기 내부 및 외부 코일들 사이에 배치된 전력공급된 그리드로서, 상기 전력공급된 그리드는, 상기 제 1 rf 전력 소스와는 독립적인 제 2 rf 전력 소스에 접속되는, 상기 전력공급된 그리드를 포함하는, 플라즈마 프로세싱 챔버 [청구항 2] 제 1 항에 있어서,상기 전력공급된 그리드는 개방 영역들에 의해 분리된 복수의 금속 피쳐들정의되는,플라즈마 프로세싱 챔버. [청구항 3] 제 1 항에 있어서,상기 내부 및 외부 코일들에 접속된 제 1 rf 전력 소스는 변환기 커플링된 플라즈마 (tcp) 전력제공하는,플라즈마 프로세싱 챔버. [청구항 4] 제 1 항에 있어서,상기 전력공급된 그리드는 금속 피쳐들을 갖는 기판정의되는,플라즈마 프로세싱 챔버. [청구항 5] 제 4 항에 있어서,상기 전력공급된 그리드의 기판은 상기 유전체 윈도우의 외부측접촉하는,플라즈마 프로세싱 챔버. [청구항 6] 제 1 항에 있어서,상기제 2 rf 전력 소스는 동작하는 경우, 상기 챔버 내의 플라즈마의 로드 (load) 에 매칭하기 위해 주파수에서 조정가능한,플라즈마 프로세싱 챔버. [청구항 7] 제 1 항에 있어서,상기 전력공급된 그리드는 중앙 개구를 갖는 디스크 형상이며,상기 중앙 개구는 금속이고, 도전성인 복수의 스포크 (spoke) 들접속되는,플라즈마 프로세싱 챔버. [청구항 8] 챔버로서, 하우징; 상기 하우징 내에서 웨이퍼를 지지하기 위한 척 유전체 윈도우에 의해 정의된 상기 하우징의 상단 섹션 상기 유전체 윈도우 위에 배치된 전력공급된 그리드 상기 전력공급된 그리드 위에 배치된 tcp 코일들; 및 상기 tcp 코일들과는 독립적으로 상기 전력공급된 그리드에 접속된 rf 전력을 포함하는, 챔버 [청구항 9] 제 8 항에 있어서,상기 전력공급된 그리드는 개방 영역들에 의해 분리된 복수의 도전성 피쳐들포함하는,챔버. [청구항 10] 챔버로서, 상기 챔버에서 웨이퍼를 지지하기 위한 척 유전체 윈도우에 의해 정의된 상기 챔버의 상단 섹션 상기 유전체 윈도우 위에 배치된 전력공급된 그리드 상기 전력공급된 그리드 위에 배치된 tcp 코일들; 및 상기 tcp 코일들과는 독립적으로 상기 전력공급된 그리드에 접속된 rf 전력을 포함하는, 챔버 [청구항 11] 제 10 항에 있어서,상기 전력공급된 그리드는 개방 영역들에 의해 분리된 복수의 도전성 피쳐들포함하는,챔버. [청구항 12] 제 10 항에 있어서,상기 전력공급된 그리드에 접속된 rf 전력은, 상기 tcp 코일들에 접속된 rf 전력분리되는,챔버.