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하전 입자 리소그래피 시스템 및 빔 생성기 document_id 1020147035221

출원번호
1020147035221
분류
전기(H섹션)
문맥 (context)
[청구항 2] 제 1 항에 있어서,상기 하나또는 그 초과의 개구들은 하나 또는 그 초과의 펌프들(220)의 부분이고, 상기 하나 또는 그 초과의 펌프들은 상기 고전압 차폐 어레인지먼트와 상기 냉각 어레인지먼트 사이위치되는,하전 입자 리소그래피 시스템. [청구항 3] 제 2 항에 있어서,상기 하나또는 그 초과의 펌프들은 게터 펌프들 또는 승화 펌프들인,하전 입자 리소그래피 시스템. [청구항 4] 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 하전 입자 소스는 제 1 진공 챔버(102)에 위치되고 상기 시준기 시스템, 상기 고전압 차폐 어레인지먼트, 상기 냉각 어레인지먼트 및 상기 펌핑 시스템의 상기 개구들은 제 2 진공 챔버위치되는,하전 입자 리소그래피 시스템. [청구항 5] 제 4 항에 있어서,상기 애퍼처 어레이는 상기 제 2 진공 챔버 내에, 상기 시준기 시스템 아래위치되는,하전 입자 리소그래피 시스템. [청구항 6] 제 4 항 또는 제 5 항에 있어서,상기 제 1 진공 챔버는 상기 제 2 진공 챔버 내위치되는,하전 입자 리소그래피 시스템. [청구항 7] 제 4 항 또는 제 5 항에 있어서,상기 제 1 진공 챔버 및 상기 제 2 진공 챔버는 제 3 진공 챔버 내위치되는,하전 입자 리소그래피 시스템. [청구항 8] 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 고전압 차폐어레인지먼트는 와이어 메시 구조포함하는,하전 입자 리소그래피 시스템. [청구항 9] 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 냉각어레인지먼트를 자기 차폐 어레인지먼트둘러싸는,하전 입자 리소그래피 시스템. [청구항 10] 제 9 항에 있어서,상기 자기 차폐어레인지먼트는, 뮤 메탈로 이루어진 하나 또는 그 초과의 플레이트들포함하는,하전 입자 리소그래피 시스템. [청구항 11] 제 9 항 또는 제 10 항에 있어서,상기 시준기 시스템은 500ev를 초과하는 전압을 수용하는 데에 적절한 하나 또는 그 초과의 렌즈 구조들(5b;5d)을 포함하고, 상기 생성기는 상기 전압을 상기 하나 또는 그 초과의 렌즈 구조들에 제공하는 와이어들더 포함하는,하전 입자 리소그래피 시스템. [청구항 12] 제 11 항에 있어서,상기 자기 차폐어레인지먼트 내부의 상기 와이어들일직선인,하전 입자 리소그래피 시스템. [청구항 13] 제 1 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 시준기 시스템은 3개의 전극들(5a, 5b, 5c)로 이루어진 아인젤 렌즈포함하는,하전 입자 리소그래피 시스템. [청구항 14] 제 13 항에 있어서,상기 아인젤 렌즈 아래에 있는 애퍼처 어레이를 더 포함하고,상기 펌핑 시스템의 상기 하나 또는 그 초과의 개구들이 상기 아인젤 렌즈와 상기 애퍼처 어레이 사이위치되는,하전 입자 리소그래피 시스템. [청구항 15] 제 13 항 또는 제 14 항에 있어서,상기 시준기 시스템은 공동이 내부에 있는 본체를 포함하고,상기 공동은 상기 공동의 상기 표면이 상기 아인젤 렌즈의 외측 전극들로서 역할을 하는 방식으로 구조화되고,상기 아인젤 렌즈의 상기 중심 전극(5b)은 상기 중심 전극을 상기 공동의 상기 표면과 연결시키는 3개 또는 그 초과의 스프링 엘리먼트들(320)에 의해 상기 공동 내부의 위치유지되는,하전 입자 리소그래피 시스템. [청구항 16] 제 15 항에 있어서,상기 시준기 시스템은 수차 보정을 위해 상기 공동 내에 추가 전극(5d)을 포함하고, 상기 추가 전극은 상기 추가 전극을 상기 공동의 상기 표면과 연결시키는 3개 또는 그 초과의 스프링 엘리먼트들(320)에 의해 상기 공동 내부의 위치유지되는,하전 입자 리소그래피 시스템. [청구항 18] 제 17 항에 있어서,상기 하나또는 그 초과의 개구들은 하나 또는 그 초과의 펌프들(220)의 부분이고, 상기 하나 또는 그 초과의 펌프들은 상기 고전압 차폐 어레인지먼트와 상기 냉각 어레인지먼트 사이위치되는,하전 입자 빔 생성기. [청구항 19] 제 18 항에 있어서,상기 하나또는 그 초과의 펌프들은 게터 펌프들 또는 승화 펌프들인,하전 입자 빔 생성기. [청구항 20] 제 17 항 내지 제 19 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 하전 입자 빔으로부터 복수의 빔릿들을 형성하기 위한 애퍼처 어레이더 포함하는,하전 입자 빔 생성기. [청구항 21] 제 17 항 내지 제 20 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 고전압 차폐어레인지먼트는 와이어 메시 구조포함하는,하전 입자 빔 생성기. [청구항 22] 제 17 항 내지 제 21 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 냉각어레인지먼트를 자기 차폐 어레인지먼트둘러싸는,하전 입자 빔 생성기. [청구항 23] 제 22 항에 있어서,상기 자기 차폐어레인지먼트는, 뮤 메탈로 이루어진 하나 또는 그 초과의 플레이트들포함하는,하전 입자 빔 생성기. [청구항 24] 제 22 항 또는 제 23 항에 있어서,상기 시준기 시스템은 500ev를 초과하는 전압을 수용하는 데에 적절한 하나 또는 그 초과의 렌즈 구조들(5b;5d)을 포함하고, 상기 생성기는 상기 전압을 상기 하나 또는 그 초과의 렌즈 구조들에 제공하는 와이어들더 포함하는,하전 입자 빔 생성기. [청구항 25] 제 24 항에 있어서,상기 자기 차폐어레인지먼트 내부의 상기 와이어들일직선인,하전 입자 빔 생성기. [청구항 26] 제 17 항 내지 제 25 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 시준기 시스템은 3개의 전극들(5a, 5b, 5c)로 이루어진 아인젤 렌즈포함하는,하전 입자 빔 생성기. [청구항 27] 제 26 항에 있어서,상기 아인젤 렌즈 아래에 있는 애퍼처 어레이를 더 포함하고,상기 펌핑 시스템의 상기 하나 또는 그 초과의 개구들이 상기 아인젤 렌즈와 상기 애퍼처 어레이 사이위치되는,하전 입자 빔 생성기. [청구항 28] 제 26 항 또는 제 27 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 시준기 시스템은 공동이 내부에 있는 본체를 포함하고,상기 공동은 상기 공동의 상기 표면이 상기 아인젤 렌즈의 외측 전극들(5a, 5c)로서 역할을 하는 방식으로 구조화되고,상기 아인젤 렌즈의 상기 중심 전극(5b)은 상기 중심 전극을 상기 공동의 상기 표면과 연결시키는 3개 또는 그 초과의 스프링 엘리먼트들(320)에 의해 상기 공동 내부의 위치유지되는,하전 입자 빔 생성기. [청구항 29] 제 28 항에 있어서,상기 시준기 시스템은 수차 보정을 위해 상기 공동 내에 추가 전극(5d)을 포함하고, 상기 추가 전극은 상기 추가 전극을 상기 공동의 상기 표면과 연결시키는 3개 또는 그 초과의 스프링 엘리먼트들(320)에 의해 상기 공동 내부의 위치유지되는,하전 입자 빔 생성기.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
하전 입자 리소그래피 시스템에서 시준기 시스템의 아인젤 렌즈 중심 전극(5b)이 공동 내부에서 위치를 유지할 수 있도록 하는 구성 요소는 무엇인가?
추론 과정 (compact_reasoning)
  1. 1과제 해석task_interpretation

    하전 입자 리소그래피 시스템의 시준기 시스템 내 아인젤 렌즈 중심 전극(5b)이 공동 내부에서 위치를 유지하게 하는 구성 요소를 찾는 것이다.

  2. 2정보 추출information_extraction

    청구항 15 및 28에서 아인젤 렌즈의 중심 전극(5b)과 공동의 표면, 그리고 위치 유지에 관한 설명을 추출한다.

    • 상기 아인젤 렌즈의 상기 중심 전극(5b)은 상기 중심 전극을 상기 공동의 상기 표면과 연결시키는 3개 또는 그 초과의 스프링 엘리먼트들(320)에 의해 상기 공동 내부의 위치유지되는,하전 입자 빔 생성기
  3. 3근거 선택evidence_selection

    중심 전극(5b)을 공동 표면과 연결하여 위치를 유지시키는 구체적인 구성 요소인 '3개 또는 그 초과의 스프링 엘리먼트들(320)'을 선택한다.

    • 상기 아인젤 렌즈의 상기 중심 전극(5b)은 상기 중심 전극을 상기 공동의 상기 표면과 연결시키는 3개 또는 그 초과의 스프링 엘리먼트들(320)에 의해 상기 공동 내부의 위치유지되는
  4. 4논리 통합logical_integration

    청구항 문맥에 따르면, 중심 전극(5b)은 스프링 엘리먼트들(320)에 의해 공동의 표면과 연결됨으로써 공동 내부에서 위치가 유지된다.

    • 상기 아인젤 렌즈의 상기 중심 전극(5b)은 상기 중심 전극을 상기 공동의 상기 표면과 연결시키는 3개 또는 그 초과의 스프링 엘리먼트들(320)에 의해 상기 공동 내부의 위치유지되는
  5. 5결론 도출conclusion_formulation

    질문에 대한 직접적인 답변으로 '3개 또는 그 초과의 스프링 엘리먼트들(320)'을 도출한다.

  6. 6답변 생성answer_generation

    추출된 정보를 바탕으로 최종 답변을 작성한다.

최종 답변 (final_answer)
3개 또는 그 초과의 스프링 엘리먼트들(320)
핵심 해석 (core_interpretation)
아인젤 렌즈의 중심 전극을 스프링 엘리먼트를 통해 공동의 표면과 연결함으로써, 공동 내부에서 전극의 물리적 위치를 안정적으로 유지하는 구조를 제공한다.