기판 처리 장치 document_id 1020150050835

[청구항 2] 제 1 항에 있어서,상기 공정 챔버 내부를 배기하는 배기 모듈을 더 포함하되,상기 배기 모듈은상기 챔버 바디의 바닥면에 형성되는 배기구들 각각에 연결되는 서브 배기 라인들;유동 버퍼 공간을 갖고, 상기 서브 배기 라인들이 연결되는 배기 버퍼탱크; 및상기 배기 버퍼탱크 저면 중앙에 연결되는 메인 배기 라인포함하는기판 처리 장치. [청구항 3] 제 2 항에 있어서,상기 배기구는 입구측(inlet)은 넓고 출구측(outlet)은 좁아지는 깔대기 형상갖는기판 처리 장치. [청구항 4] 제 1 항에 있어서,상기 챔버 리드에 설치되고, 상기 플라스마 생성부에서 생성된 플라스마를 상기 배플로 안내하기 위해 상기 플라즈마 생성부의 반응기와 연결되는 좁은 제1단부와 넓은 제2단부를 갖는 역깔때기(inverted funnel) 형상의 포커스 어댑터를 더 포함하되; 상기 제1단부은 상기 반응기보다 넓은 직경갖는기판 처리 장치. [청구항 5] 제 4 항에 있어서,상기 반응기는 반응관;상기 반응관의 일단에 형성되고, 상기 챔버 리드와 결합되는 제1 리브; 및 상기 제1 리브 내측에 형성되고 상기 반응관과 일직선상으로 연장되어 형성되는 제2리브를 포함하고, 상기 제1리브와 상기 제2리브 사이에는 상기 제1단부가 끼워지는 공간제공하는기판 처리 장치. [청구항 6] 제 4 항에 있어서,상기 포커스 어댑터는상기 제2단부로부터 수직하게 연장된 측면 단부를 더 포함하고,상기 챔버 리드는 상기 챔버 리드의 저면에 장착되어 상기 포커스 어댑커의 상기 측면 단부를 지지하는 서포터 블록들더 포함하는기판 처리 장치. [청구항 7] 제 6 항에 있어서,상기 측면 단부는일측면으로 돌출되어 형성되는 포커스 어댑터 얼라인부를 더 포함하고,상기 챔버 리드는 내측면에 상기 포커스 어댑터 얼라인부가 위치되는 얼라인 홈더 포함하는기판 처리 장치. [청구항 8] 제 1 항에 있어서,상기 공정 챔버는상기 챔버 리드와 상기 챔버 바디간의 정렬을 위한 얼라인키더 포함하는기판 처리 장치. [청구항 9] 제 8 항에 있어서,상기 얼라인키는 상기 챔버 리드와 접촉되는 상기 챔버 바디의 테두리 일측 및 상기 챔버 바디와 접촉되는 상기 챔버 리드의 테두리 일측각각 구비되는기판 처리 장치. [청구항 10] 제 2 항에 있어서,상기 공정 챔버는 상기 챔버 리드와 상기 챔버 바디 간의 국부 접지를 위해 상기 챔버 리드와 접촉되는 상기 챔버 바디의 테두리 상면에 소정 간격 이격되어 설치되는 국부 접지용 가스켓더 포함하는기판 처리 장치. [청구항 11] 제 10 항에 있어서,상기 국부 접지용 가스켓은 z자형의 단면 형상을 갖고전기전도도가지는재질로 이루어지는기판 처리 장치. [청구항 12] 제 4 항에 있어서,상기 배플은상기 분사홀들이 형성된 분사판; 및상기 분사판의 둘레에 위치되며, 상기 공정 챔버에 고정되는 고정판을 포함하되;상기 고정판은 링 형상으로 제공되고, 체결홀들이 형성되며, 상기 체결홀들을 통해 삽입되는 체결부재를 통해 상기 챔버 바디의 가장자리 상면고정되는기판 처리 장치. [청구항 13] 제 12 항에 있어서,상기 배플은상기 고정판의 상면을 따라 돌출되어 형성되는 링형상의 배플 리브를 더 포함하고, 상기 배플 리브는 상기 포커스 어댑터와 상기 챔버 리드 사이에 형성된홈에끼워지는기판 처리 장치. [청구항 14] 제 4 항에 있어서,상기 배플은상기 분사홀들이 형성된 분사판; 및상기 분사판의 둘레에 위치되며, 상기 공정 챔버에 고정되는 고정판을 포함하되;상기 고정판은 링 형상으로 제공되고, 체결홀들이 형성되며, 상기 체결홀들을 통해 삽입되는 체결부재를 통해 상기 챔버 리드의 가장자리 저면고정되는기판 처리 장치. [청구항 15] 제 14 항에 있어서,상기 챔버 리드는 가장자리를 따라 나사홀들이 관통되어 형성되고,상기 체결부재는 상기 나사홀을 통해 상기 고정판의 상기 체결홀들체결되는기판 처리 장치. [청구항 16] 제 14 항에 있어서,상기 포커스 어댑터는상기 제2단부로부터 수직하게 연장된 측면 단부더 포함하는기판 처리 장치. [청구항 17] 제 16 항에 있어서,상기 측면 단부는 상기 제2단부와 인접한 상면으로부터 돌출 형성된 얼라인돌기더 포함하는기판 처리 장치. [청구항 18] 제 17 항에 있어서,상기 챔버 리드는 상기 얼라인 돌기가 삽입되는 얼라인 홈더 포함하는기판 처리 장치. [청구항 19] 제 16 항에 있어서,상기 배플은 상기 고정판의 상면에 상기 포커스 어댑터를 지지하도록 링 형상으로 형성된 제1지지홈을 더 포함하며,상기 측면 단부의 하부 지지단은상기제1지지홈안착되어지지되는기판 처리 장치. [청구항 20] 제 19 항에 있어서,상기 제1지지홈은 상기 고정판의 상면으로부터 돌출되어 형성된 2개의 리브 사이형성되는기판 처리 장치. [청구항 21] 제 12 항에 있어서,상기 챔버 바디의 내부를 둘러싸도록 제공되는 환형의 라이너 부재를 더 포함하되;상기 라이너 부재는상기 챔버 바디의 상면에 고정되는 상부 플랜지;상기 상부 플랜지로부터 연장되고 상기 챔버 바디의 내측면을 덮는 수직 라이너부; 및상기 수직 라이너부로부터 수평하게 연장되고 단부는 상기 서셉터의 외측면에 지지되는수평라이너부를포함하는기판 처리 장치. [청구항 22] 제 21 항에 있어서,상기 수평 라이너부는공정 과정에서 생성된 잔류 가스와 반응 부산물이 배기되는 배기홀들갖는기판 처리 장치. [청구항 24] 제 23 항에 있어서,상기 포커스 어댑터는상기 제2단부로부터 수직하게 연장된 측면 단부를 더 포함하고,상기 챔버 리드는 상기 챔버 리드의 저면에 장착되어 상기 포커스 어댑커의 상기 측면 단부를 지지하는 서포터 블록들더 포함하는기판 처리 장치. [청구항 25] 제 24 항에 있어서,상기 공정 챔버는 상기 챔버 리드와 상기 챔버 바디 간의 국부 접지를 위해 상기 챔버 리드와 접촉되는 상기 챔버 바디의 테두리 상면에 소정 간격 이격되어 설치되는 z자형의 단면 형상을 갖는 국부 접지용 가스켓더 포함하는기판 처리 장치. [청구항 26] 제 24 항에 있어서,상기 챔버 바디의 내부를 둘러싸도록 제공되는 환형의 라이너 부재를 더 포함하되;상기 라이너 부재는상기 챔버 바디의 내측면을 덮는 수직 라이너부; 및상기 수직 라이너부로부터 수평하게 연장되고 단부는 상기 서셉터의 외측면에 지지되는 수평 라이너부를 포함하며, 상기 수평 라이너부는공정 과정에서 생성된 잔류 가스와 반응 부산물이 배기되는 배기홀들갖는기판 처리 장치.