기상식각 및 세정을 위한 플라즈마 장치 document_id 1020150061781

[청구항 2] 제1항에 있어서,상기 플라즈마 유도 어셈블리는 복수 개의 용량 결합 전극을 포함한 용량 결합 전극 어셈블리 또는 무선 주파수 안테나인 것을 특징으로 하는 기상식각 및 세정위한플라즈마 처리 장치. [청구항 3] 제2항에 있어서,상기 플라즈마 유도 어셈블리는 상기 직접 플라즈마 발생 영역의 중심 영역으로 플라즈마를 유도하는 센터 플라즈마 유도 어셈블리; 및 상기 직접 플라즈마 발생 영역의 주변 영역으로 플라즈마를 유도하는 에지 플라즈마 유도 어셈블리를 포함하는 것을 특징으로 하는 기상식각 및 세정위한플라즈마 처리 장치. [청구항 4] 제3항에 있어서,상기 센터 플라즈마 유도 어셈블리와 상기 에지 플라즈마 유도 어셈블리는 동일한 플라즈마 소스이거나 다른 플라즈마 소스인 것을 특징으로 하는 기상식각 및 세정위한플라즈마 처리 장치. [청구항 5] 제1항에 있어서,상기 듀얼 가스 분배 배플은 상기 플라즈마의 분배를 위해 관통 형성된 복수 개의 관통홀; 상기 듀얼 가스 분배 배플 내에 형성된 기화가스 공급로를 통해 공급된 기화가스를 상기 기판 처리 영역의 중심영역으로 분사하기 위한 하나 이상의 센터 기화가스 분사홀;상기 듀얼 가스 분배 배플 내에 형성된 기화가스 공급로를 통해 공급된 기화가스를 상기 기판 처리 영역의 주변영역으로 분사하기 위한 하나 이상의 에지 기화가스 분사홀을 포함하는 것을 특징으로 하는 기상식각 및 세정위한플라즈마 처리 장치. [청구항 6] 제1항에 있어서,상기 듀얼 가스 분배 배플은 열선을 포함하는 것을 특징으로 하는 기상식각 및 세정위한플라즈마 장치. [청구항 7] 제1항에 있어서,상기 기화 가스는 기화된 h2o 인 것을 특징으로 하는 기상식각 및 세정위한플라즈마 장치. [청구항 8] 제1항에 있어서,상기 듀얼 가스 분배 배플은 상기 플라즈마의 분배를 위해 관통 형성된 복수 개의 관통홀; 상기 듀얼 가스 분배 배플 내의 기화가스 공급로에 연결된 센터 주입구와 에지 주입구를 통해 공급된 기화가스를 상기 기판 처리 영역의 중심영역과 주변영역으로 분사하기 위한 복수 개의 공통 기화가스 분사홀을 포함하고, 상기 센터 주입구와 에지 주입구를 통해 상기 기화가스의 공급 압력을 조절하여 기화가스를 공급하는 것을 특징으로 하는 기상식각 및 세정위한플라즈마 장치. [청구항 9] 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서,상기 플라즈마 장치는 상기 반응기 몸체 내부로 공정가스를 공급하기 위한 하나 이상의 가스 주입구를 포함하는 것을 특징으로 하는 기상식각 및 세정위한플라즈마 처리 장치. [청구항 10] 제9항에 있어서,상기 플라즈마 장치는 공정가스가 유입되는 가스 주입구와 대향되도록 설치되어 공정가스를 상기 직접 플라즈마 발생 영역 내에서 확산시키기 위한 디퓨저 플레이트를 포함하는 것을 특징으로 하는 기상식각 및 세정위한플라즈마 장치. [청구항 11] 제1항에 있어서,상기 플라즈마 장치는 상기 피처리 기판이 안착되는 상면에 유전층을 갖는 몸체부;상기 몸체부 내에 구비되어 전압을 인가받아 구동되는 하나 이상의 전극부;및안착되는 상기 피처리 기판과 접하도록 상기 몸체부에 형성되는 하나 이상의 하이브리드 라인을 포함하는 기판 지지대를 포함하며,상기 전극부를 구동하여 상기 피처리 기판을 상기 몸체부에 고정하거나 상기 하이브리드 라인을 통해 공기를 흡입하여 상기 피처리 기판을 상기 몸체부에 고정하는 것을 특징으로 하는 기상식각 및 세정위한플라즈마 장치. [청구항 12] 제11항에 있어서,상기 유전층에 복수 개의 상기 하이브리드 라인이 연결되어 형성된 냉매 순환 패스를 포함하며, 상기 전극부를 구동하여 상기 피처리 기판이 고정될 때 상기 하이브리드 라인 및 상기 냉매 순환 패스를 통해 상기 피처리 기판 냉각용 냉매를 순환시키는 것을 특징으로 하는 기상식각 및 세정위한플라즈마 장치.