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고른 가스분배와 높은 입력임피던스의 상압 플라즈마헤드 document_id 1020150143023

출원번호
1020150143023
분류
전기(H섹션)
문맥 (context)
[청구항 2] 제 1 항에 있어서,상기 헤드상부블록(10)의 상단 중앙에 외부 가스를 유입하는 상기 상부블럭가스분배구(102)를 형성하고, 상기 상부블럭가스분배구(102)의 하부에 형성된 상부가스분배유동로(107a, 107b)와 각각 일치할 수 있도록 상기 상부블럭가스분배구(102)의 바닥에 수직으로 2개의 수직유동로(104a,104b)를 형성하며,상기 상부블럭가스분배구(102)에서 유입된 가스가 상기 수직유동로(104a,104b)를 통과하여 상기 헤드상부블럭(10)의 몸체 길이방향으로 형성된상기상부가스분배유동로유동되는것을특징으로 하는상압 플라즈마헤드. [청구항 3] 제 2 항에 있어서,상기 상부가스분배유동로(107a,107b)의 길이 방향으로 바닥 하단을 수직으로 관통하는 상부가스분배구멍열(108a,108b)을 형성하고,상기 상부가스분배유동로(107a,107b) 내의 가스압력을 일정하게 유지하여 상기 상부가스분배구멍열(108a,108b)의 모든 구멍에서가스의1차분배하는것을특징으로 하는상압 플라즈마헤드. [청구항 4] 제 2 항에 있어서,상기 헤드상부블록(10)의 하부에 만들어진 4개의 홈에 기밀줄오링(141)을 삽입하고, 상기 제1헤드하부블럭(20) 및 제2헤드하부블럭(30)에 제2가스분배유동로(201,301)의 공간을 형성하고,상기 상부가스분배구멍열(108a,108b)에서 배기된 가스가상기제2가스분배유동로확산되도록하는것을특징으로 하는상압 플라즈마헤드. [청구항 5] 제 4 항에 있어서,상기 제2가스분배유동로(201,301)의 측벽에 길이 방향으로 제2가스분배구멍열(202,302)을 형성하고,상기 제2가스분배구멍열(202,302)은 유입된 가스가 상기 제2가스분배유동로(201,301)에서 외부로 나아가는 흐름을 방해함으로써, 상기 제2가스분배유동로(201,301)의 내부와 외부에 생긴 압력차로 인하여 상기 제2가스분배구멍열(202,302)의 모든 구멍에서가스의2차분배하는것을특징으로 하는상압 플라즈마헤드. [청구항 6] 제 5 항에 있어서,상기 헤드상부블록(10)의 좌우측 상부가스면분포턱(120a,120b)의 면과 상기 헤드하부블럭들(20,30)의 측면이 맞닿아서 생긴 좁고 긴 틈의 가스면분포유동통로(203,303)가 형성되고,상기 제2가스분배구멍열(202,302)에서 분배되어 배기된 가스가 상기 가스면분포유동통로(203,303)를 통과하면서 고르게 분포되어 전극유전체관(40) 및 전극도전체(50)로 구성된플라즈마전극진입하도록하는것을특징으로 하는상압 플라즈마헤드. [청구항 7] 제 6 항에 있어서,상기 수직유동로(104a,104b), 상기 상부가스분배유동로(107a,107b), 상기 상부가스분배구멍열(108a,108b), 상기 제1헤드하부블럭(20), 상기 제2헤드하부블럭(30), 상기 제2가스분배유동로(201,301), 상기 제2가스분배구멍열(108a,108b) 및 상기 가스면분포유동통로(203,303)를 상기 플라즈마전극(40,50)의 중심으로대칭적배치하는것을특징으로 하는상압 플라즈마헤드. [청구항 8] 제 1 항에 있어서,상기 헤드상부블럭(10)의 내벽에 삽입된 상기 전극유전체관(40)내에 삽입되는 상기 전극도전체(50)를 길이 방향으로 상단 일부를 제거하고, 상기 전극유전체관(40) 내측과 상기 전극도전체(50)의 상단에 일정 간격으로 이격된 공극을 형성하여, 상기 헤드상부블럭(10)의 내벽과 상기 전극도전체(50)사이에 임피던스를 높이고 상기 전극도전체(50)의 하단에 고주파 전류밀도를 상단보다 높일 수있는것을특징으로 하는상압 플라즈마헤드. [청구항 9] 제 1 항에 있어서,상기 헤드상부블럭(10)의 내벽 상단 일부를 길이 방향으로 제거하고, 상기 전극도전체(50)를 삽입한 상기 전극유전체관(40)의 외벽과 상기 헤드상부블럭(10)의 내벽 상단 사이에 일정 간격으로 이격된 공극을 만들어, 상기 헤드상부블럭(10)의 내벽과 상기 전극도전체(50)사이에 임피던스를 높이고 전극도전체(50)의 하단에 고주파 전류밀도를 상단보다 높일 수있는것을특징으로 하는상압 플라즈마헤드. [청구항 10] 제 1 항에 있어서,상기 전극유전체관(40)이 삽입되는 상기 헤드상부블럭(10)의 내벽 상단 일부에 길이 방향으로 여러 개의 홈(slot) 모양으로 형성하고, 상기 전극도전체(50)를 삽입한 상기 전극유전체관(40)의 외벽과 상기 헤드상부블럭(10)의 내벽 상단 사이에 일정 간격으로 이격된 공극을 만들어, 상기 전극유전체관(40)을 흔들리지 않도록 고정하고, 상기 헤드상부블럭(10)의 내벽과 상기 전극도전체(50)사이에 임피던스를 높이고 전극도전체(50)의 하단에 고주파 전류밀도를 상단보다 높일 수있는것을특징으로 하는상압 플라즈마헤드. [청구항 11] 제 1 항에 있어서,상기 전극유전체관(40)이 삽입되는 상기 헤드상부블럭(10)의 내벽 상단 일부 및 상기 전극도전체(50)의 상단 일부를 길이 방향으로 여러 개의 홈(slot) 모양으로 형성하고, 상기 전극도전체(50)를 삽입한 상기 전극유전체관(40)의 외벽과 상기 헤드상부블럭(10)의 내벽 상단 사이에 일정 간격으로 이격된 공극을 만들어, 상기 전극유전체관(40)을 흔들리지 않도록 고정하고, 상기 헤드상부블럭(10)의 내벽과 상기 전극도전체(50)사이에 임피던스를 높이고 전극도전체(50)의 하단에 고주파 전류밀도를 상단보다 높일 수있는것을특징으로 하는상압 플라즈마헤드. [청구항 12] 제 1 항에 있어서,상기 헤드상부블럭(10)의 좌측면에 외부로 관통된 2개의 상기 냉각매체주입구(112a,112b)를 단순측면블럭(70)으로 막고, 상기 헤드상부블럭(10)의 우측면에 외부로 노출된 냉각매체연결통로(113)를 전극측면블럭(71)으로 막아서, 냉각매체를 냉각매체주입구(110a)에 주입하면 상기 냉각매체동선(113a, 113b)을 따라서 흐른후냉각매체유출구배출되는것을특징으로 하는상압 플라즈마헤드. [청구항 13] 제 12 항에 있어서,상기 냉각구멍라인(112a,112b)을 원형구멍 내경을 따라 일정 간격과 높이의 돌기로 형성하여, 냉각매체와 상기 냉각구멍라인(112a,112b)과의 접촉면적을 높여열교환의효율높이는것을특징으로 하는상압 플라즈마헤드. [청구항 14] 제 1 항에 있어서,개의 헤드상부블럭(10a,10b)을 붙여서 확보된 상단면적(119a,119b)의 중앙에 가스유입구(811)가 하나인 가스매니폴드(81)를 부착하고, 좌측단면에는 전극측면블럭(71a,71b) 및 전극인입도전체바(60a,60b)를 각각 부착하고, 우측단면에는 듀얼측면블럭(72)을 부착하고, 우측 상단면적(119a, 119b)에는 냉각매체유입구(90a1)및냉각매체유출구부착되는것을특징으로 하는상압 플라즈마헤드. [청구항 15] 제 1 항에 있어서,개의 헤드상부블럭(10a,10b)을 붙여서 확보된 상단면적(119a,119b)의 중앙에 가스유입구(811)가 하나인 가스매니폴드(81)를 부착하고, 좌측단면에는 듀얼측면블럭(72)부착하고, 우측단면에는 전극측면블럭(71a, 71b) 및 전극인입도전체바(60a, 60b)를 각각 부착하고, 우측 상단면적(119a, 119b)에는 냉각매체유입구(90a1)및냉각매체유출구부착되는것을특징으로 하는상압 플라즈마헤드. [청구항 16] 제 1 항에 있어서,개의 헤드상부블럭(10a, 10b)을 붙여서 확보된 상단면적(119a, 119b) 중앙에 가스유입구(821a, 821b)가 두 개인 듀얼가스매니폴드(82)를 부착하고, 일측 헤드상부블럭(10a)에는 좌측단면에 단순측면블럭(70a)이, 좌측 상단면적(119a, 119b)에는 냉각매체입구(90a1) 및 냉각매체출구(90b1)가, 우측단면에는 전극측면블럭(71a) 및 전극인입도전체바(60a,)가 각각 부착되고, 타측 헤드상부블럭(10b)에는 좌측단면에 전극측면블럭(71b) 및 전극인입도전체바(60b)가, 우측단면에 단순측면블럭(70b)이, 우측 상단면적(119a, 119b)에는 냉각매체입구(90a2)및냉각매체출구각각부착되는것을특징으로 하는상압 플라즈마헤드. [청구항 17] 제 1 항에 있어서,상기 플라즈마헤드의 상단(130)과, 상기 제1헤드하부블럭(20) 및 제2헤드하부블럭(30)의 측면에, 임피던스 정합기 및 승압기를 실장할 육면체 하우징의 고정이 가능하도록 하는하우징고정탭형성하는것을특징으로 하는상압 플라즈마헤드. [청구항 18] 제 14 항, 제 15 항, 제 16 항중 어느 한 항에 있어서,개의 상기 헤드상부블럭(10a,10b)을 붙인 플라즈마헤드의 상단면적(119a,119b)과, 상기 플라즈마 헤드들에 각각 부착되는 제1헤드하부블럭 및 제2헤드하부블럭의 측면에, 임피던스 정합기 및 승압기를 실장할 육면체 하우징의 고정이 가능하도록 하는하우징고정탭형성하는것을특징으로 하는상압 플라즈마헤드.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
상압 플라즈마헤드에서 제2가스분배구멍열(202, 302)을 통해 가스가 2차 분배될 때, 내부와 외부의 압력차를 이용하기 위해 제2가스분배유동로(201, 301)의 측벽에 형성된 구조적 특징과 그에 따른 가스 흐름의 특성은 무엇인가?
추론 과정 (compact_reasoning)
  1. 1과제 해석task_interpretation

    제2가스분배유동로의 측벽에 형성된 구조적 특징과 그로 인한 가스 흐름의 특성을 파악해야 한다.

  2. 2정보 추출information_extraction

    청구항 5에서 제2가스분배유동로(201, 301)의 측벽에 제2가스분배구멍열(202, 302)이 형성되어 있음을 확인한다.

    • 상기 제2가스분배유동로(201,301)의 측벽에 길이 방향으로 제2가스분배구멍열(202,302)을 형성하고
  3. 3근거 선택evidence_selection

    구조적 특징인 '제2가스분배구멍열'과 가스 흐름 특성인 '유입된 가스의 외부 흐름 방해 및 압력차를 통한 2차 분배'에 관한 구절을 선택한다.

    • 상기 제2가스분배구멍열(202,302)은 유입된 가스가 상기 제2가스분배유동로(201,301)에서 외부로 나아가는 흐름을 방해함으로써, 상기 제2가스분배유동로(201,301)의 내부와 외부에 생긴 압력차로 인하여 상기 제2가스분배구멍열(202,302)의 모든 구멍에서가스의2차분배하는것을특징으로 하는
  4. 4논리 통합logical_integration

    제2가스분배구멍열이 가스의 외부 유출을 방해하여 내부와 외부 사이에 압력차를 발생시키고, 이 압력차를 이용해 모든 구멍에서 가스가 고르게 2차 분배되는 인과관계를 도출한다.

  5. 5결론 도출conclusion_formulation

    구조적 특징은 측벽에 형성된 제2가스분배구멍열이며, 가스 흐름 특성은 가스의 외부 흐름을 방해하여 발생한 압력차를 통해 모든 구멍에서 가스가 2차 분배되는 것이다.

  6. 6답변 생성answer_generation

    질문에 대해 구조와 특성을 명확히 구분하여 답변을 작성한다.

최종 답변 (final_answer)
제2가스분배유동로(201, 301)의 측벽에는 길이 방향으로 제2가스분배구멍열(202, 302)이 형성되어 있다. 이 구조적 특징은 유입된 가스가 제2가스분배유동로에서 외부로 나아가는 흐름을 방해하여 내부와 외부 사이에 압력차를 발생시키며, 이 압력차를 통해 제2가스분배구멍열의 모든 구멍에서 가스가 2차 분배되도록 하는 특성을 가진다.
핵심 해석 (core_interpretation)
제2가스분배유동로 측벽의 구멍열을 통해 가스의 외부 유출을 제어함으로써 내부 압력을 유지하고, 이를 통해 가스가 모든 구멍에서 균일하게 2차 분배되도록 하는 기술이다.