기판처리장치 및 기판처리방법 document_id 1020150167155

[청구항 1] 기판을 대략 수평 자세로 유지하여 회전시키는 기판유지수단과, 상기 기판유지수단의 주위를 둘러싸는 컵과, 상기 기판유지수단에 유지된 기판에 처리액을 토출하는 토출헤드를 선단(先端)에 구비한 노즐아암과, 상기 기판유지수단에 유지된 기판의 위쪽의 처리위치와 상기 컵보다 외측의 대기위치 사이로 상기 토출헤드가 이동하도록 상기 노즐아암을 선회시키는 선회구동부와, 상기 노즐아암 중, 적어도 상기 토출헤드가 상기 처리위치로 이동하였을 때에 상기 기판유지수단에 유지된 기판에 대향하는 부위를 세정하는 아암세정수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 기판처리장치 [청구항 2] 제1항에 있어서,상기 선회구동부는 상기 컵보다 외측에 설치되어 상기 노즐아암의 기단(基端)에 연결되고,상기 아암세정수단은 상기 토출헤드가 상기 대기위치에 위치하고 있을 때 상기 노즐아암에 세정액을 분출하는샤워노즐포함하는것을특징으로 하는기판처리장치. [청구항 3] 제2항에 있어서,상기 노즐아암을 승강시키는 승강구동부를 더 구비하고,상기 샤워노즐은 상기 컵보다 외측에 고정 설치되어 세정액을 비스듬하게 아래쪽으로 향하여 분출하고,상기 승강구동부는 상기 샤워노즐로부터 분출되는 세정액의 흐름을 상기 노즐아암이 횡단하도록상기노즐아암승강시키는것을특징으로 하는기판처리장치. [청구항 4] 제3항에 있어서,상기 샤워노즐은 상기 기판유지수단으로부터 멀어지는 방향으로세정액분출하는것을특징으로 하는기판처리장치. [청구항 5] 제2항에 있어서,상기 노즐아암 중, 적어도 상기 샤워노즐로부터 분출된 세정액이 부착된 부위에 건조용 가스를 분사하여 건조시키는가스분출부더구비하는것을특징으로 하는기판처리장치. [청구항 6] 제5항에 있어서,상기 가스분출부는 상기 토출헤드가 상기 대기위치에 위치하고 있을 때 상기 노즐아암의 선단측으로부터 건조용 가스를 분사하는위치설치되는것을특징으로 하는기판처리장치. [청구항 7] 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,상기 선회구동부에는, 상기 노즐아암이 수평 방향을 따라 서로 평행하게복수개접속되는것을특징으로 하는기판처리장치. [청구항 8] 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서,상기 노즐아암에는, 상기 토출헤드로부터 토출되는 처리액에 기체를 혼합하는 기체토출부가상기토출헤드의측방부설되는것을특징으로 하는기판처리장치.