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가변 반경 듀얼 마그네트론 document_id 1020157026525

출원번호
1020157026525
분류
화학(C섹션)
문맥 (context)
[청구항 2] 제 1 항에 있어서,상기 제 1 트랙은 상기 중심 축을 향해 안쪽으로 나선형따르는듀얼 마그네트론. [청구항 3] 제 1 항에 있어서,상기 피봇 아암이 상기 제 1 위치에 있는 동안, 상기 제 2 마그네트론은 상기 제1 마그네트론의 임의의 선형 부분보다도 상기 중심 축않은듀얼 마그네트론. [청구항 4] 제 1 항에 있어서,상기 피봇 아암이 상기 제 1 위치에 있는 동안 상기 제 1 및 제 2 마그네트론들이 90°도 내지 270°의 상기 중심 축을 중심으로방위각범위에걸쳐확장하는,듀얼 마그네트론. [청구항 6] 제 1 항에 있어서,상기제 1 및 제 3 자기 폴들은 각각 상기 제 1 자기 극성의 복수의 제 1 자석들을 포함하며, 상기 제 2 및 제 4 자기 폴들은 각각 상기 제 2 자기 극성의 복수의 제 2 자석들을 포함하고, 그리고 상기 회전 부재 및 상기 피봇 아암은 강자성 부재를 포함하고, 그리고상기 제 1 및 제 2 자석들 사이의 자기 요크들로서 작용하는 상기 회전 플레이트 및 상기 피봇 아암에 제 1 및 제 2 자석을 포획하는 복수 강자성 폴면들더 포함하는,듀얼 마그네트론. [청구항 7] 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 중심 축을 중심으로 배열된 진공 챔버;스퍼터 증착될 기판을 지지하기 위한 상기 진공 챔버 내의 페데스탈;타겟 표면을 포함하며 상기 페데스탈에 대향하여 상기 진공 챔버에 밀봉되는 타겟 어셈블리 - 상기 제 1 항의 상기 듀얼 마그네트론은 상기 페데스탈에 대향하는 상기 타겟 어셈블리의 측면 상에 위치됨 -;상기 중심 축을 따라 연장되고 제 1 항의 듀얼 마그네트론을 지지하는 회전 샤프트; 및전기적 타깃 조립체에 연결된 rf 전원 공급 장치더 포함하는,스퍼터링 챔버. [청구항 9] 제 8 항에 있어서,상기 아암의 제 2 위치에서, 상기 제 2 개방-루프 트랙의 단부는 상기 아암의 제 1 위치보다 상기 제 1 개방-루프 트랙의 단부멀리 이격되는듀얼 마그네트론. [청구항 10] 제 8 항에 있어서,상기 아암은 상기 회전 부재 상에 회전가능하게 장착되며 상기 회전 부재 상의 피봇 축을 중심피봇되는,듀얼 마그네트론. [청구항 11] 제 10 항에 있어서,상기 제 2 마그네트론이상기아암의피봇팅단부와상기아암의자유단사이길이에걸쳐연장되는듀얼 마그네트론. [청구항 12] 제 8 항에 있어서,원심력이 상기 중심 축을 중심으로 상기 회전 부재의 회전에 따라 변화되어서적어도 부분적으로 상기 아암이 상기 제 1 및 제 2 반경 위치들 사이이동되게 하는,듀얼 마그네트론. [청구항 13] 제 8 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 중심 축을 중심으로 배열된 진공 챔버;스퍼터 증착될 기판을 지지하기 위한 상기 진공 챔버 내의 페데스탈;타겟 표면을 포함하며 상기 페데스탈에 대향하여 상기 진공 챔버에 밀봉되는 타겟 어셈블리 - 상기 제 8 항의 상기 듀얼 마그네트론은 상기 페데스탈에 대향하는 상기 타겟 어셈블리의 측에 위치됨 -;상기 중심 축을 따라 연장하며 상기 회전 부재에 고정된 회전 샤프트; 및타깃 조립체에 전기적으로 연결된 rf 전원 공급 장치더 포함하는스퍼터링 챔버.
질문 (question)
None
추론 과정 (compact_reasoning)
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최종 답변 (final_answer)
None