문맥 (context)
[청구항 2]
제 1 항에 있어서,상기 중앙부는 상기 주면에 있어서의 이차원적인 중앙에 위치하고, 상기 단부는상기중앙부의주위위치하는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치.
[청구항 3]
제 1 항에 있어서,상기 중앙부는 상기 주면에 있어서의 일차원적인 중앙에 위치하고, 상기 단부는상기중앙부의양측위치하는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치.
[청구항 4]
제 1 항에 있어서,상기 고주파 전력 공급부는, 상기 복수의 보조 안테나의 각각에 대하여 개별적으로 상이한고주파전력을공급가능한것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치.
[청구항 5]
제 1 항에 있어서,상기 주면을 보는 평면시에 있어서 기하학적으로 대칭 형상이고, 상기 복수의 보조 안테나는, 상기 기재의 기하학적인 대칭성에 대응하여대칭배치되어있는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치.
[청구항 6]
제 5 항에 있어서,상기 기재는 직사각형이고, 상기 적어도 1 개의 기준 안테나는 1 개의 기준 안테나이고, 상기 복수의 보조 안테나는 4 개의 보조 안테나이고, 상기 1 개의 기준 안테나는 상기 기재의 상기 주면의 중심 위치에 대향하여 배치되고, 상기 4 개의 보조 안테나의 각각은 상기 기재의 상기 주면의 4 모서리의 각각에 대향하여배치되는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치.
[청구항 7]
제 1 항에 있어서,상기 주면을 보는 평면시에 있어서 서로 직교하는 제 1 방향과 제 2 방향이 규정되고, 상기 복수의 유도 결합형 안테나가 생성하는 복수의 유도 결합 플라즈마의 각각은, 상기 평면시에 있어서 상기 제 1 방향을 지향하고 있고, 상기 복수의 유도 결합형 안테나의 상기 제 1 방향의 배치 간격이, 상기 복수의 유도 결합형 안테나의 상기 제 2 방향의 배치 간격보다 큰 것특징으로 하는플라즈마 처리 장치.
[청구항 8]
제 7 항에 있어서,상기 복수의 유도 결합 플라즈마의 각각은, 상기 평면시에 있어서 상기 제 1 방향을 장축 방향으로 하고 상기 제 2 방향을 단축 방향으로 하는타원형상의등플라즈마밀도선표현되는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치.
[청구항 9]
제 1 항에 있어서,상기 복수의 유도 결합형 안테나 중 서로 인접하는 각 2 개의 안테나의 간격은, 상기 각 2 개의 안테나가 개별적으로 플라즈마를 생성하는 경우의, 인접 방향에 있어서의플라즈마밀도 분포의각각의반값반폭의합이상있는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치.
[청구항 10]
제 9 항에 있어서,2 개의 안테나의 간격은 300 ㎜ 이상 떨어져있는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치.
[청구항 11]
제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 가스 공급부는 상기 기재의 상기 주면에 막을 형성하기 위한가스공급하는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치.
[청구항 12]
제 1 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 가스 공급부는 상기 기재의 상기 주면을 에칭하기 위한가스공급하는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
기재가 직사각형인 플라즈마 처리 장치에서, 기준 안테나와 보조 안테나의 배치 관계는 어떠한가?
추론 과정 (compact_reasoning)
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1과제 해석
task_interpretation기재가 직사각형인 경우, 기준 안테나 1개와 보조 안테나 4개의 구체적인 배치 관계를 파악해야 한다.
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2정보 추출
information_extraction청구항 6에서 기재가 직사각형일 때의 안테나 구성과 배치 위치에 대한 정보를 추출한다.
- 상기 기재는 직사각형이고, 상기 적어도 1 개의 기준 안테나는 1 개의 기준 안테나이고, 상기 복수의 보조 안테나는 4 개의 보조 안테나이고, 상기 1 개의 기준 안테나는 상기 기재의 상기 주면의 중심 위치에 대향하여 배치되고, 상기 4 개의 보조 안테나의 각각은 상기 기재의 상기 주면의 4 모서리의 각각에 대향하여배치되는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치
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3근거 선택
evidence_selection기준 안테나의 위치(중심)와 보조 안테나의 위치(4 모서리)를 명시한 구절을 선택한다.
- 상기 1 개의 기준 안테나는 상기 기재의 상기 주면의 중심 위치에 대향하여 배치되고, 상기 4 개의 보조 안테나의 각각은 상기 기재의 상기 주면의 4 모서리의 각각에 대향하여배치되는것을특징
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4논리 통합
logical_integration기준 안테나는 기재의 중심에 위치하고, 4개의 보조 안테나는 기재의 각 모서리에 위치한다는 관계를 통합한다.
- 상기 1 개의 기준 안테나는 상기 기재의 상기 주면의 중심 위치에 대향하여 배치되고, 상기 4 개의 보조 안테나의 각각은 상기 기재의 상기 주면의 4 모서리의 각각에 대향하여배치되는것을특징
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5결론 도출
conclusion_formulation기준 안테나는 중심에, 보조 안테나들은 4개의 모서리에 각각 대향하여 배치된다는 결론을 도출한다.
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6답변 생성
answer_generation질문에 대해 추출된 배치 관계를 정리하여 최종 답변을 작성한다.
최종 답변 (final_answer)
1 개의 기준 안테나는 기재의 주면 중심 위치에 대향하여 배치되고, 4 개의 보조 안테나는 기재의 주면 4 모서리의 각각에 대향하여 배치된다.
핵심 해석 (core_interpretation)
직사각형 기재를 사용하는 플라즈마 처리 장치에서, 중심에 위치하는 기준 안테나와 각 모서리에 배치되는 보조 안테나를 통해 안테나의 대칭적 배치를 구현한다.