반도체 제조 공정 중 발생하는 부산물 포집장치 document_id 1020160036892

[청구항 2] 청구항 1에 있어서,상기 상부 수평 브라켓과 하부 수평 브라켓은,사각 판체을 갖고 복수의 부산물 수직방향 관통공이 정해진 천공율을 갖게 천공한 것을 특징으로 하는 반도체 제조 공정 중발생하는부산물 포집장치. [청구항 3] 청구항 1에 있어서,상기 내부 포집 타워는,복수의 부산물 수평방향 관통공이 정해진 천공율을 갖게 천공된 복수의 종 방향 및 횡 방향 수직판을 상호 90도 방향으로 교차되게 격자 형태로 조립한 것을 특징으로 하는 반도체 제조 공정 중발생하는부산물 포집장치. [청구항 4] 청구항 2에 있어서,상기 상부 수평 브라켓 또는 하부 수평 브라켓 중어느 한 브라켓 또는 모든 브라켓은,복수의 스페이서를 통해 적어도 2층 이상 복층으로 설치한 것을 포함함을 특징으로 하는 반도체 제조 공정 중발생하는부산물 포집장치. [청구항 5] 청구항 4에 있어서,상기 상부 수평 브라켓의 저면에서 수직방향으로는 내부 포집 타워의 격자형 공간부로 각각 끼워져 상기 상부 수평 브라켓이 유동되는 것을 방지하는 복수의 유동 방지구를 더 설치한 것을 특징으로 하는 반도체 제조 공정 중발생하는부산물 포집장치. [청구항 6] 청구항 5에 있어서,상기 유동 방지구는,상기 내부 포집 타워의 종 방향 및 횡 방향 수직판들 사이에 형성된 격자형 공간부로 삽입 설치되는 공간부 삽입용 수직봉과;상기 공간부 삽입용 수직봉의 저단부 및 중간부에 각각 설치된 상태에서 상기 내부 포집 타워의 종 방향 및 횡 방향 수직판에 의해 형성된 격자형 공간부에 꽉 차게 끼워지는 복수의 유동 방지판;으로 구성한 것을 특징으로 하는 반도체 제조 공정 중발생하는부산물 포집장치. [청구항 7] 청구항 2에 있어서,상기 상부 수평 브라켓에 천공되는 복수의 부산물 수직방향 관통공은,지름이 1~10㎜를 갖도록 천공하되, 전체 면적 대비 3~7%의 공극율을 갖게 천공한 것을 특징으로 하는 반도체 제조 공정 중발생하는부산물 포집장치. [청구항 8] 청구항 3에 있어서,상기 내부 포집 타워의 종 방향 및 횡 방향 수직판들에 각각 천공되는 복수의 부산물 수평방향 관통공은,지름이 10~20㎜를 갖도록 천공하되, 전체 면적 대비 35~40의 공극율을 갖게 천공한 것을 특징으로 하는 반도체 제조 공정 중발생하는부산물 포집장치. [청구항 9] 청구항 2에 있어서,상기 하부 수평 브라켓에 천공되는 부산물 수직방향 관통공은,지름이 5~20㎜를 갖도록 천공하되, 전체 면적 대비 15~35%의 공극율을 갖게 천공한 것을 특징으로 하는 반도체 제조 공정 중발생하는부산물 포집장치. [청구항 10] 청구항 4에 있어서,또는 2층 이상 복층으로 설치되는 상기 하부 수평 브라켓 중 최하단에 위치하는 하부 수평 브라켓은,상기 하우징 하판의 가스 배출구와 근접되는 위치 일부에는 포집된 부산물의 외부 배출을 방지하기 위해 부산물 수직방향 관통공을 천공시키지 않아, 상기 최하단에 위치하는 하부 수평 브라켓에 천공되는 부산물 수직방향 관통공의 천공율이 하부 수평 브라켓의 전체 면적 대비 15~25%를 갖도록 한 것을 특징으로 하는 반도체 제조 공정 중발생하는부산물 포집장치. [청구항 11] 청구항 1에 있어서,상기 하우징의 상판 저면에는 배기가스로 인한 부식을 방기하기 위해 세라믹 또는 인코넬 소재로 성형하되, 복수의 방열핀을 수직방향에 대해 방사형으로 배치한 형태를 갖고 상기 상판의 가스 유입구를 통해 유입되는 배기가스를 화학적으로 변화시키는데 필요한 에너지를 공급하기 위해 가열시켜 줌과 동시에 상기 상부 수평 브라켓 상면과 하우징 내부 공간에 고르게 분배시켜 주는 히터 플레이트를 더 설치하고, 상기 하우징의 상판 일측에는 상기 히터 플레이트에 전원전압을 공급시켜 주는 히터 전원공급부를 더 설치한 것을 특징으로 하는 반도체 제조 공정 중발생하는부산물 포집장치. [청구항 12] 청구항 1에 있어서,상기 하우징은 직사각 함체 형태로 성형하고, 상기 가스 유입구 및 가스 배출구는 상기 상판 및 하판의 일측으로 치우치게 비대칭 위치에 형성하여 배기가스가 하우징 내부에서 일측으로 편심되게 흐르도록 한 것을 특징으로 하는 반도체 제조 공정 중발생하는부산물 포집장치. [청구항 13] 청구항 1에 있어서,상기 상부 수평 브라켓과 내부 포집 타워 및 하부 수평 브라켓은 하우징의 내부에서 배기가스의 흐름방향에 대해 어느 일측으로 편심되게 설치한 것을 특징으로 하는 반도체 제조 공정 중발생하는부산물 포집장치. [청구항 14] 청구항 1에 있어서,상기 하우징의 상판 내부에는 상판이 히터 플레이트에서 발생되는 열에 의해 과열되는 것을 방지하여 하우징 상면과 상판 저면 사이에 설치되는 실링 또는 가스켓의 손상을 방지함과 동시에 상판의 저면에도 부산물 파우더가 포집될 수 있도록 냉각수가 흐르는 냉각 파이프를 매설하고, 상기 상판의 상면에는 냉각 파이프의 양단부와 각각 연결되는 냉각수 유입구 및 냉각수 배출구를 설치한 것을 특징으로 하는 반도체 제조 공정 중발생하는부산물 포집장치. [청구항 15] 청구항 1에 있어서,상기 하우징의 내벽에서 수직방향으로 정해진 높이를 두고 하우징 내부를 통과하는 배기가스가 와류되도록 하는 복수의 와류 발생판을 더 설치한 것을 특징으로 하는 반도체 제조 공정 중발생하는부산물 포집장치. [청구항 16] 청구항 15에 있어서,상기 와류 발생판은,측단면이 "-", "", "", "", "" 형상 중 어느 한 형상을 갖게 성형한 것을 특징으로 하는 반도체 제조 공정 중발생하는부산물 포집장치. [청구항 17] 청구항 1에 있어서,상기 하우징의 상판 전,후부 또는 양측에는 손잡이를 더 설치한 것을 특징으로 하는 반도체 제조 공정 중발생하는부산물 포집장치.