기판 처리 장치, 기판 처리 방법 및 기억 매체 document_id 1020160057060

[청구항 2] 제1항에 있어서,상기 가열 약액 공급 기구는 약액 온도 조절 기구를 가지며, 상기 약액 온도 조절 기구는, 온도 제어된 온도 조절액을 공급하는 온도 조절기와, 상기 제1 노즐에 상기 가열 약액을 공급하기 위한 약액 배관을 둘러싸며, 상기 온도 조절기로부터 공급된 온도 조절액이 공급되는 워터 재킷있는 것인,기판 처리 장치. [청구항 3] 제1항에 있어서,상기 가열 순수 공급 기구는 순수 온도 조절 기구를 가지며, 상기 순수 온도 조절 기구는, 온도 제어된 온도 조절액을 공급하는 온도 조절기와, 상기 제2 노즐에 상기 가열 순수를 공급하기 위한 순수 배관을 둘러싸며, 상기 온도 조절기로부터 공급된 온도 조절액이 공급되는 워터 재킷있는 것인,기판 처리 장치. [청구항 4] 제1항에 있어서,상기 가열 약액 공급 기구는 상기 약액을 저류(貯留)하는 약액 탱크를 가지고,상기 가열 순수 공급 기구는 상기 제2 노즐에 공급되는 순수를 가열하기 위한 순수 온도 조절기를 가지고,상기 탱크의 주위를 둘러싸는 가열 순수 재킷이 마련되고, 상기 순수 온도 조절기에 의해 가열된 순수가 상기 가열 순수 재킷에 공급되어 상기 약액 탱크 내에 저류된 상기 약액을 보온 또는 가열하며, 상기 가열 순수 재킷으로부터 배출된 순수가 상기 순수 온도 조절기복귀되는 것인,기판 처리 장치. [청구항 5] 제4항에 있어서,상기 약액은 약액 성분을 순수로 희석한 것이고,상기 가열 순수 공급 기구는 상기 순수 온도 조절기에 의해 가열된 순수를 상기 제2 노즐에 공급하기 위한 가열 순수 라인을 가지며,상기 가열 순수 라인으로부터 분기하여 상기 가열 순수 라인을 흐르는 가열 순수를 상기 약액을 조합하기 위한 희석액으로서 상기 탱크에 공급하는 제1 분기 라인과, 상기 가열 순수 라인으로부터 분기하여 상기 가열 순수 라인을 흐르는 가열 순수를 상기 가열 순수 재킷에 공급하는 제2 분기 라인이 마련되며, 상기 제2 분기 라인이 가열 순수 라인으로부터 분기하는 위치가, 상기 제1 분기 라인이 가열 순수 라인으로부터 분기하는 위치보다 상류측에 있는 것인,기판 처리 장치. [청구항 6] 제1항에 있어서,상기 기판 유지부는, 상기 기판의 하방에 위치하여 상기 기판에 대면하는 플레이트 부분과, 상기 플레이트 부분의 주연부(周緣部)에 마련되어 상기 기판의 주연부를 유지하는 유지 부분을 가지며, 상기 기판과 상기 플레이트 부분 사이의 공간이 상기 제2 노즐로부터 토출된 상기 가열 순수에 의해 채워진 상태로, 상기 제1 노즐이 상기 기판의 표면에 상기 액적공급하는 것인,기판 처리 장치. [청구항 7] 제1항에 있어서,상기 기판 처리 장치는,상기 기판 유지부를 회전시키는 회전 구동부, 및상기 기판 유지부의 주위를 둘러싸며, 상기 기판 유지부에 의해 유지되어 회전하는 기판으로부터 비산하는 상기 약액을 받아내어 회수하는 컵을 더 포함하고,상기 회수컵은,상단에 근접함에 따서 반경 방향 내측을 향하도록 경사진 상측 부분과, 원통형의 하측 부분을 갖는 상부 컵체(cup body), 및상기 상부 컵체의 상측 부분의 상단보다 외측에 부착하여 상기 상부 컵체의 상기 하측 부분의 외측을 하방으로 통과하는 액체가 상기 하측 부분보다 내측의 하방으로 흘러내리는 것을 가능하게 하는 홈갖는 것인,기판 처리 장치. [청구항 8] 제7항에 있어서,상기 회수컵은 상기 상부 컵체를 내측에 지지하며, 상기 기판 유지부에 대하여 상대적으로 승강 가능한 원통형의 외부 컵체를 더 포함하고,상기 외부 컵체와 상기 상부 컵체의 상기 하측 부분 사이에, 액체가 상기 외부 컵체와 상기 상부 컵체의 하측 부분 사이를 통과하는 것을 가능하게 하는 간극형성되어 있는 것인,기판 처리 장치. [청구항 9] 제8항에 있어서,상기 기판 처리 장치는 처리 챔버(chamber)의 일부를 획정하여 상기 외부 컵체가 상승하였을 때에 상기 외부 컵체의 상단과 접촉하는 칸막이판을 더 포함하고,상기 칸막이판에 부착된 액체는, 상기 외부 컵체와 상기 상부 컵체의 하측 부분 사이의 간극통과하는 것인,기판 처리 장치. [청구항 10] 제1항에 있어서,상기 기판 처리 장치는,처리 챔버의 바닥면을 획정하는 칸막이판,상기 기판 유지부를 회전시키는 회전 구동부,상기 기판 유지부의 주위를 둘러싸며, 상기 기판 유지부에 의해 유지되어 회전하는 기판으로부터 비산하는 상기 약액을 받아내어 회수하는 컵,상기 제1 노즐을 유지하는 노즐 아암, 및상기 노즐 아암을 이동시키는 아암 구동 기구를 더 포함하고,상기 노즐 아암이 대기하는 영역에 있어서의 상기 칸막이판의 높이는, 상기 컵의 주변의 영역에 있어서의 상기 칸막이판의 높이것인,기판 처리 장치. [청구항 11] 제1항에 있어서,상기 기판 처리 장치는,상기 제1 노즐을 유지하는 노즐 아암,상기 노즐 아암을 이동시키는 아암 구동 기구, 및처리 챔버를, 상기 기판 유지부의 상방의 제1 구획과, 상기 제1 구획의 측방에 위치하여 상기 아암 구동 기구를 수용하는 제2 구획으로 칸막이하는 칸막이판,을 더 포함하고,상기 칸막이판에, 상기 노즐 아암의 이동을 허용하는 슬릿형성되어 있는 것인,기판 처리 장치. [청구항 12] 제11항에 있어서,상기 제2 구획을 흡인하기 위한 배기구가 상기 제2 구획의 상부마련되어 있는 것인,기판 처리 장치.