플라즈마 처리 장치 document_id 1020160092026

[청구항 1] 플라즈마 처리 장치에 있어서, 기밀(氣密)하게 구성되고, 내부에서 생성된 플라즈마에 의해, 내부에 반입된 피처리 기판에 미리 정해진 처리를 행하는 챔버와, 상기 챔버 내에 마련되고, 상기 피처리 기판을 배치하는 배치대와, 상기 배치대를 둘러싸도록 상기 배치대의 주위에 마련되고, 상기 배치대에 배치된 상기 피처리 기판의 상방의 처리 공간 내의 가스를 배기하는 배기로와, 상기 배기로에 접속되고, 상기 배기로를 통해 상기 처리 공간 내의 가스를 배기하는 배기 장치와, 복수의 관통 구멍을 가지며, 상기 배치대를 둘러싸도록 상기 처리 공간과 상기 배기로 사이에 마련된 배플판과, 상기 배플판보다 상기 처리 공간으로부터 먼 위치의 상기 배기로 내에, 상기 배치대를 둘러싸도록 상기 배치대의 주위에 마련된 정류판 을 구비하고, 상기 정류판은, 상기 배치대의 주위에 있어서, 상기 배기 장치가 접속된 상기 배기로 내의 위치로부터 멀어질수록, 상기 배기로 내의 유로의 단면적이 커지는 개구를 상기 배기로 내에 형성하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 처리 장치 [청구항 2] 제1항에 있어서,상기 정류판은,상기 배치대의 주위에 마련된 상기 배기로의 내벽에 있어서, 상기 배치대에 가까운 측의 상기 배기로의 내벽에 마련되고, 상기 정류판의 외주면과, 상기 배치대로부터 먼 측의 상기 배기로의 내벽 사이의 간극에 의해,상기개구형성되는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 3] 제2항에 있어서,상기 정류판의 형상은 상방에서 본 경우에 환형이며, 내주면이 상기 배기로의 내벽에 접하고, 외주면의 중심이 상기 피처리 기판이 배치되는 상기 배치대의 배치면의 중심보다상기배기장치위치에있는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 4] 제1항에 있어서,상기 정류판은,상기 배치대의 주위에 마련된 상기 배기로의 내벽에 있어서, 상기 배치대로부터 먼 측의 상기 배기로의 내벽에 마련되고, 상기 정류판의 내주면과, 상기 배치대에 가까운 측의 상기 배기로의 내벽 사이의 간극에 의해,상기개구형성되는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 5] 제4항에 있어서,상기 정류판의 형상은 상방에서 본 경우에 환형이며, 외주면이 상기 배기로의 내벽에 접하고, 내주면의 중심이 상기 피처리 기판이 배치되는 상기 배치대의 배치면의 중심보다상기배기장치위치에있는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 6] 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,상기 배플판은,상기 피처리 기판이 배치되는 상기 배치대의 배치면보다 낮은위치마련되는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 7] 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,상기 배플판과 상기 정류판은 상기 정류판의 두께보다 긴 거리 떨어져있는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 8] 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,상기 배플판은,상기 배치대로부터 멀어질수록 위치가 높아지도록,상기배치대의주위마련되어있는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 9] 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,상기 복수의 관통 구멍은,상기 배플판의 면 내에 균등한간격마련되는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치. [청구항 10] 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서,상기 정류판은,상기 배기로 내에단일의상기개구형성하는것을특징으로 하는플라즈마 처리 장치.