멀티 하전 입자빔 장치 document_id 1020160174629

[청구항 1] 하전 입자빔을 방출하는 방출원과, 상기 하전 입자빔을 조명하는 조명 렌즈와, 복수의 제1 개구부가 형성되고, 상기 복수의 제1 개구부 전체가 포함되는 영역에 조명된 상기 하전 입자빔의 조사를 받아, 상기 복수의 제1 개구부를 상기 하전 입자빔의 일부가 각각 통과함으로써 멀티빔을 형성하는 제1 애퍼처 어레이 기판과, 상기 제1 애퍼처 어레이 기판을 격자로서 이용한 오목 렌즈를 구성하는 제1 격자 렌즈와, 복수의 제2 개구부가 형성되고, 상기 복수의 제2 개구부를 상기 멀티빔 중 대응되는 빔의 적어도 일부가 각각 통과하는 제2 애퍼처 어레이 기판과, 상기 제1 애퍼처 어레이 기판과 상기 제2 애퍼처 어레이 기판의 사이이며 상기 멀티빔의 제1 수렴점 위치에 배치되어, 상기 제1 수렴점에서 벗어난 하전 입자의 통과를 제한하는 제1 제한 애퍼처 기판과, 상기 제2 애퍼처 어레이 기판을 통과한 멀티빔 중 적어도 일부의 빔군의 조사를 받는 시료를 재치하는 연속 이동 가능한 스테이지 를 구비하고, 상기 제1 애퍼처 어레이 기판과 상기 제2 애퍼처 어레이 기판의 사이에 발생하는 자계의 부호가 반대이고 또한 동일한 크기의 자계가 계속되는 자계 분포 및 상기 제1 격자 렌즈에 의해 발생하는 전기장 분포에 의해 구성되는 렌즈 작용에 의해, 상기 제1 성형 애퍼처 어레이 기판을 통과한 제1 애퍼처 어레이상이 상기 제2 애퍼처 어레이 기판 상에 형성되는 것을 특징으로 하는 멀티 하전 입자빔 장치 [청구항 2] 제1항에 있어서,상기 제1 제한 애퍼처 부재는 제3 개구부를 가지며,상기 제1 및 제2 전자 렌즈의 사이에 배치되고, 상기 제1 수렴점의 위치를 상기 제1 제한 애퍼처 기판의 상기 제3 개구부의 위치에 맞추는얼라인먼트코일더구비한것을특징으로 하는멀티 하전 입자빔 장치. [청구항 3] 제1항에 있어서,상기제1 및 제2 애퍼처 어레이 기판 사이의 전위 분포가 상기 제1 제한 애퍼처 기판의 높이 위치에 대하여대칭제어되는것을특징으로 하는멀티 하전 입자빔 장치. [청구항 4] 제1항에 있어서,상기제1 및 제2 애퍼처 어레이 기판에 대하여 상기 스테이지측에 배치되며, 상기 멀티빔이 통과하는 복수의 통과홀이 형성되고, 상기 복수의 통과홀을 통과하는 멀티빔의 블랭킹 제어를 행하는 복수의 블랭커가 배치된 기판을 가지는블랭킹애퍼처어레이기구더구비한것을특징으로 하는멀티 하전 입자빔 장치. [청구항 5] 하전 입자빔을 방출하는 방출원과, 상기 하전 입자빔을 조명하는 조명 렌즈와, 복수의 제1 개구부가 형성되고, 상기 복수의 제1 개구부 전체가 포함되는 영역에 조명된 상기 하전 입자빔의 조사를 받아, 상기 복수의 제1 개구부를 상기 하전 입자빔의 일부가 각각 통과함으로써 멀티빔을 형성하는 제1 성형 애퍼처 어레이 기판과, 상기 제1 성형 애퍼처 어레이 기판을 격자로서 이용한 오목 렌즈를 구성하는 제1 격자 렌즈와, 상기 제1 격자 렌즈에 대하여 상기 방출부측과는 반대측에 배치되며, 자계의 부호가 반대이고 또한 동일한 크기로 자화되는 제1 및 제2 전자 렌즈를 가지는 더블릿 렌즈와, 상기 제1 및 제2 전자 렌즈의 사이이며 상기 멀티빔의 제1 수렴점 위치에 배치되어, 상기 제1 수렴점에서 벗어난 하전 입자의 통과를 제한하는 제1 제한 애퍼처 부재와, 상기 더블릿 렌즈를 통과한 멀티빔 중 적어도 일부의 빔군의 조사를 받는 시료를 재치하는 연속 이동 가능한 스테이지 를 구비한 것을 특징으로 하는 멀티 하전 입자빔 장치 [청구항 6] 제5항에 있어서,상기 더블릿 렌즈에 대하여 상기 스테이지측에 배치되며, 복수의 제2 개구부가 형성되고, 상기 복수의 제2 개구부를 상기 멀티빔 중 대응되는 빔의 적어도 일부가 각각 통과하는 제2 성형 애퍼처 어레이 기판과,상기 제2 성형 애퍼처 어레이 기판에 대하여 상기 더블릿 렌즈측에 배치되며, 상기 제2 성형 애퍼처 어레이 기판을 격자로서 이용한 오목 렌즈를 구성하는 제2 격자 렌즈와,상기 제2 성형 애퍼처 어레이 기판을 통과한 멀티빔을 수렴하는 전자 렌즈와,상기 전자 렌즈에 의해 수렴된 멀티빔의 제2 수렴점 위치에 배치되어, 상기 제2 수렴점에서 벗어난 하전 입자의 통과를 제한하는제2제한애퍼처부재더구비한것을특징으로 하는멀티 하전 입자빔 장치. [청구항 7] 제5항에 있어서,상기 더블릿 렌즈에 대하여 상기 스테이지측에 배치되며, 상기 멀티빔이 통과하는 복수의 통과홀이 형성되고, 상기 복수의 통과홀을 통과하는 멀티빔의 블랭킹 제어를 행하는 복수의 블랭커가 하면측에 배치된 기판을 가지는 블랭킹 애퍼처 어레이 기구와,상기 기판에 대하여 상기 더블릿 렌즈측에 배치되며, 상기 기판을 격자로서 이용한 오목 렌즈를 구성하는 제2 격자 렌즈와,상기 블랭킹 애퍼처 어레이 기구를 통과한 멀티빔을 수렴하는 전자 렌즈와,상기 전자 렌즈에 의해 수렴된 멀티빔의 제2 수렴점 위치에 배치되어, 상기 제2 수렴점에서 벗어난 하전 입자의 통과를 제한하는제2제한애퍼처부재더구비한것을특징으로 하는멀티 하전 입자빔 장치. [청구항 8] 제6항에 있어서,상기제1 및 제2 성형 애퍼처 어레이 기판 사이의 전위 분포가 상기 제1 제한 애퍼처 기판의 높이 위치에 대하여대칭제어되는것을특징으로 하는멀티 하전 입자빔 장치. [청구항 9] 제7항에 있어서,상기 제1 성형 애퍼처 어레이 기판과 상기 블랭킹 애퍼처 어레이 기구의 사이의 전위 분포가 상기 제1 제한 애퍼처 기판의 높이 위치에 대하여대칭제어되는것을특징으로 하는멀티 하전 입자빔 장치. [청구항 10] 제5항에 있어서,상기 제1 제한 애퍼처 부재는 제3 개구부를 가지며,상기 제1 및 제2 전자 렌즈의 사이에 배치되고, 상기 제1 수렴점의 위치를 상기 제1 제한 애퍼처 기판의 상기 제3 개구부의 위치에 맞추는얼라인먼트코일더구비한것을특징으로 하는멀티 하전 입자빔 장치.