문맥 (context)
[청구항 1]
고에너지 전자빔을 생성하기 위한 복수의 전자가속기; 및
진공 타겟 챔버, 타겟 및 복수의 입력 연결장치를 포함하는 공통 타겟유닛을 구비하고,
상기 복수의 전자가속기는 상기 복수의 입력 연결장치와 각각 연결되는 것을 특징으로 하는 평탄화 x선 방사선장을 생성하는 장치
[청구항 2]
제1항에 있어서,상기 복수의 입력 연결장치는 상기 진공 타겟 챔버의 일측에 장착되고, 상기 타겟은 상기 진공 타겟 챔버의 상기 복수의 입력 연결장치와 대향하는 타측에 장착되며,상기 복수의 입력 연결장치의 축선은 둘씩 서로 예정된 협각을 이루도록 한 점에서 교차하는 것을 특징으로 하는 평탄화 x선 방사선장생성하는장치.
[청구항 3]
제2항에 있어서,상기 복수의 입력 연결장치의 축선이 둘씩 서로 이루는 예정된 협각은 동일한 것을 특징으로 하는 평탄화 x선 방사선장생성하는장치.
[청구항 4]
제2항에 있어서,상기 복수의 입력 연결장치의 축선이 둘씩 서로 이루는 예정된 협각은 동일하지 않은 것을 특징으로 하는 평탄화 x선 방사선장생성하는장치.
[청구항 5]
제1항 내지 제4항 중의 어느 한 항에 있어서,평면구조이고, 상기 복수의 입력 연결장치에서 상기 진공 타겟 챔버로 진입한 전자빔은 상기 타겟의 진공측 평면 상의 한 점에서 교차하는 것을 특징으로 하는 평탄화 x선 방사선장생성하는장치.
[청구항 6]
제1항 내지 제4항 중의 어느 한 항에 있어서,구면구조이고, 상기 복수의 입력 연결장치에서 상기 진공 타겟 챔버로 진입한 전자빔은 상기 구면의 구심에서 교차하는 것을 특징으로 하는 평탄화 x선 방사선장생성하는장치.
[청구항 7]
제1항 내지 제4항 중의 어느 한 항에 있어서,구조이고, 상기 복수의 입력 연결장치에서 상기 진공 타겟 챔버로 진입한 전자빔은 수직으로 타겟 평면에 입사되는 것을 특징으로 하는 평탄화 x선 방사선장생성하는장치.
[청구항 8]
제1항 내지 제4항 중의 어느 한 항에 있어서,상기 공통타겟유닛은 상기 진공 타겟 챔버의 외부에 장착되어 상기 타겟의 한 면을 감싸고, 내부는 파이프 또는 캐비티로 마련되어 냉각제가 내부에서 순환 유동될 수 있도록 함으로써 상기 타겟을 냉각하는 냉각장치; 상기 냉각장치에 연결되어 저온 항온의 냉각제를 상기 냉각장치로 이송하며, 상기 냉각장치에서 흘러나온 고온 냉각제의 온도를 설정값으로 낮추는 냉동 시스템을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 평탄화 x선 방사선장생성하는장치.
[청구항 9]
제1항 내지 제4항 중의 어느 한 항에 있어서,상기 공통타겟유닛은 상기 공통 타겟유닛의 측벽에 장착되고, 상기 진공 타겟 챔버와 진공 밀봉되도록 연결되어 상기 진공 타겟 챔버가 작동 과정에서 고진공 상태를 유지하도록 하는 진공 시스템을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 평탄화 x선 방사선장생성하는장치.
[청구항 10]
제1항 내지 제4항 중의 어느 한 항에 있어서,상기 공통타겟유닛은 상기 입력 연결장치의 외부에 장착되는 복수의 집속장치; 상기 집속장치와 연결되어 상기 집속장치의 작동 상태를 제어하는 집속 제어장치를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 평탄화 x선 방사선장생성하는장치.
[청구항 11]
제1항 내지 제4항 중의 어느 한 항에 있어서,상기 복수의 전자가속기는 동일한 구조로 마련되고, 상기 전자가속기는 전자 선형 가속기이며,상기 전자가속기는 전자방출유닛, 전자가속유닛, 출력 연결장치, 마이크로웨이브 전송 장치, 마이크로웨이브 전력원, 전원 및 제어시스템으로 구성되고,상기 전자가속유닛의 일단은 상기 전자방출유닛에 연결되고, 타단은 상기 출력 연결장치에 연결되며, 상기 전원 및 제어시스템은 상기 전자방출유닛 및 상기 마이크로웨이브 전력원에 각각 연결되고, 상기 마이크로웨이브 전력원은 상기 마이크로웨이브 전송 장치를 통해 상기 전자가속유닛에 연결되고, 상기 전원 및 제어시스템은 상급 전원 및 제어시스템에 연결되며,상기 출력 연결장치와 상기 공통 타겟유닛의 상기 입력 연결장치는 서로 연결되는 것을 특징으로 하는 평탄화 x선 방사선장생성하는장치.
[청구항 12]
제1항 내지 제4항 중의 어느 한 항에 있어서,상기 복수의 전자가속기는 동일한 구조로 마련되고, 상기 전자가속기는 전자 선형 가속기이며,상기 복수의 전자가속기는 동일한 전원 및 제어시스템, 마이크로웨이브 전력원, 마이크로웨이브 전력 분배 장치를 구비하고,상기 복수의 전자가속기 각각은 전자방출유닛, 전자가속유닛, 출력 연결장치, 마이크로웨이브 전송장치를 더 포함하며,상기 전자가속유닛의 일단은 상기 전자방출유닛의 일단에 연결되고, 타단은 상기 출력 연결장치에 연결되며, 상기 전자방출유닛은 상기 전원 및 제어시스템에 연결되고, 상기 마이크로웨이브 전송장치는 상기 전자가속유닛에 연결되며,상기 출력 연결장치는 상기 공통 타겟유닛의 상기 출력 연결장치에 연결되는 것을 특징으로 하는 평탄화 x선 방사선장생성하는장치.
[청구항 13]
제1항 내지 제4항 중의 어느 한 항에 있어서,상기 복수의 전자가속기의 에너지는 동일한 것을 특징으로 하는 평탄화 x선 방사선장생성하는장치.
[청구항 14]
제1항 내지 제4항 중의 어느 한 항에 있어서,상기 복수의 전자가속기의 에너지는 동일하지 않은 것을 특징으로 하는 평탄화 x선 방사선장생성하는장치.
[청구항 15]
제1항 내지 제4항 중의 어느 한 항에 있어서,상기 복수의 전자가속기는 동일한 평면 내에 있는 것을 특징으로 하는 평탄화 x선 방사선장생성하는장치.
[청구항 16]
제1항 내지 제4항 중의 어느 한 항에 있어서,상기 복수의 전자가속기는 동일한 평면 내에 있지 않는 있는 것을 특징으로 하는 평탄화 x선 방사선장생성하는장치.
지시문 (instruction)
본문의 내용을 파악하고 이를 바탕으로 질문에 답하라.
질문 (question)
평탄화 X선 방사선장 생성 장치에서 진공 타겟 챔버의 구조가 평면구조인 경우, 입력 연결장치를 통해 진입한 전자빔은 타겟의 어느 지점에서 교차하는가?
추론 과정 (compact_reasoning)
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1과제 해석
task_interpretation진공 타겟 챔버가 평면구조일 때, 입력 연결장치를 통해 진입한 전자빔이 타겟의 어느 지점에서 교차하는지 찾는 것이다.
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2정보 추출
information_extraction청구항 5에서 진공 타겟 챔버가 평면구조인 경우에 대한 기술적 특징을 추출한다.
- 평면구조이고, 상기 복수의 입력 연결장치에서 상기 진공 타겟 챔버로 진입한 전자빔은 상기 타겟의 진공측 평면 상의 한 점에서 교차하는 것을 특징으로 하는
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3근거 선택
evidence_selection질문 조건인 '평면구조'와 '전자빔의 교차 지점'을 명시한 구절을 선택한다.
- 상기 타겟의 진공측 평면 상의 한 점에서 교차하는
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4논리 통합
logical_integration청구항 5의 내용을 종합하면, 챔버가 평면구조일 때 전자빔은 타겟의 진공측 평면 상의 한 점에서 교차함을 알 수 있다.
- 상기 타겟의 진공측 평면 상의 한 점에서 교차하는
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5결론 도출
conclusion_formulation전자빔이 교차하는 지점은 '타겟의 진공측 평면 상의 한 점'이다.
- 상기 타겟의 진공측 평면 상의 한 점에서 교차하는
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6답변 생성
answer_generation추출된 정보를 바탕으로 질문에 대한 직접적인 답변을 생성한다.
- 상기 타겟의 진공측 평면 상의 한 점에서 교차하는
최종 답변 (final_answer)
상기 타겟의 진공측 평면 상의 한 점
핵심 해석 (core_interpretation)
진공 타겟 챔버의 구조(평면, 구면 등)에 따라 입력 연결장치를 통해 진입하는 전자빔의 교차 지점이 결정됨을 나타낸다.