동적 전극 플라즈마 시스템 document_id 1020167008752

[청구항 1] 기판을 프로세싱하기 위한 시스템으로서, 그 안에 플라즈마 를 생성하기 위한 플라즈마 챔버 상기 기판을 하우징하기 위한 프로세스 챔버로서, 상기 프로세스 챔버는 상기 플라즈마 챔버에 인접한, 상기 프로세스 챔버; 및 상기 플라즈마 챔버와 기판 사이에 배치된 회전가능 추출 전극으로서, 상기 회전가능 추출 전극은 상기 플라즈마로부터 이온 빔을 추출하도록 구성되고, 추출 전극 축에 대한 회전에 의해 상기 기판의 움직임 없이 상기 기판에 걸쳐 상기 이온 빔을 스캐닝하도록 구성되는, 상기 회전가능 추출 전극을 포함하는, 시스템 [청구항 2] 청구항 1에 있어서,상기 프로세스 챔버는 상기 플라즈마 챔버에 인접한 챔버 벽 표면을 규정(define)하는 챔버 벽을 가지며, 상기 추출 전극 축은 상기 챔버 벽 표면평행한,시스템. [청구항 3] 청구항 1에 있어서,상기 회전가능 추출 전극은, 상기 추출 전극 축에 평행한 긴 치수를 갖는 가늘고 긴 추출 개구포함하는,시스템. [청구항 4] 청구항 1에 있어서,회전가능 기판 스테이지로서:제 1 표면 상에서 상기 기판을 지지하기 위한 기판 플래튼;제 2 표면 상에서 상기 플래튼에 연결된 방사상 부분; 및상기 방사상 부분에 연결된 회전 부재로서, 상기 회전가능 기판 스테이지는 상기 회전 부재의 회전을 통해 상기 기판을 로딩(load) 위치로부터 프로세싱 위치로 움직이도록 구성되는, 상기 회전 부재를 포함하는, 상기 회전 가능 기판 스테이지더 포함하는,시스템. [청구항 5] 청구항 1에 있어서,기판 플래튼, 상기 추출 전극 축에 평행한 피봇(pivot) 축을 갖는 상기 기판 플래튼에 연결된 피봇, 및 상기 피봇에 결합되며 상기 피봇 축에 대하여 상기 기판의 틸팅(tilt)을 생성하도록 구성된 드라이브더 포함하는,시스템. [청구항 6] 청구항 5에 있어서,상기 회전가능 추출 전극의 회전과 상기 기판의 상기 틸팅을 동기화시키기 위한 신호들을 생성하도록 구성된 회전 동기화기를 더 포함하며, 상기 회전가능 추출 전극은 상기 추출 전극 축에 대한 회전 동안 상기 기판의 표면에 대하여 상기 이온 빔의 입사 각도를 변화시키지 않고 상기 기판에 걸쳐상기이온빔스캐닝하도록구성되는,시스템. [청구항 7] 청구항 5에 있어서,상기 회전가능 추출 전극은 상기 추출 전극 축에 평행한 긴 방향을 갖는 가늘고 긴 추출 개구를 포함하고, 상기 시스템은 상기 회전가능 추출 전극에 결합되고 상기 추출 전극 축 상에서 회전하도록 구성된 캠(cam)을 더 포함하며, 상기 추출 개구와 기판 사이의 최근접 거리는 상기 추출 전극 축에 대한 회전 동안일정한,시스템. [청구항 8] 청구항 6에 있어서,상기 이온 빔은 상기 기판의 표면에 대하여 입사 각도들의 범위에 걸쳐 분포된 궤적들을 갖는 이온들을 포함하며, 상기 기판의 상기 표면에 대한 입사 각도들의 상기 범위는 상기 추출 전극 축에 대한 상기 회전 동안변화하지 않는,시스템.