방사선 소스, 계측 장치, 리소그래피 시스템 및 디바이스 제조 방법 document_id 1020167018014

[청구항 2] 제1항에 있어서,상기 컨테이너는 상기 플라즈마 방출 방사선의 적어도 일부를 상기 컨테이너 내측으로부터 상기 컨테이너 외측으로 투과시키도록 동작할 수 있는 아울렛 방사선 투과 요소더 포함하는,방사선 소스 장치. [청구항 3] 제2항에 있어서,상기 아울렛 방사선 투과 요소는 평행 평면 플레이트포함하는,방사선 소스 장치. [청구항 4] 제2항 또는 제3항에 있어서,상기 아울렛 방사선 투과 요소는 상기 플라즈마위치되는,방사선 소스 장치. [청구항 6] 제5항에 있어서,상기인렛 방사선 투과 요소와 상기 아울렛 방사선 투과 요소 중의 하나 이상이 상기 플라즈마위치되는,방사선 소스 장치. [청구항 8] 제7항에 있어서,상기 플라즈마의 중앙은, 상기 컨테이너의 가장 근접한 벽부보다 상기 아울렛 방사선 투과 요소 및/또는 상기 인렛 방사선 투과 요소로부터 적어도 3배, 바람직하게는6배더떨어져있는,방사선 소스. [청구항 9] 제7항 또는 제8항에 있어서,상기 컨테이너는,상기 드라이빙 방사선이 통과하는 인렛 체적부;플라즈마 방출 방사선이 통과하는 아울렛 체적부; 및상기 플라즈마를 둘러싸는 플라즈마 주변 체적부를 규정하며,상기 방사선 소스의 광학축에 수직한 평면에서의 상기 인렛 체적부 및/또는 상기 아울렛 체적부의 평균 단면적이, 상기 방사선 소스의 광학축수직한평면에서의 상기 플라즈마 주변 체적부의 평균 단면적보다 큰, 방사선 소스. [청구항 10] 제5항 내지 제9항 중 어느 한 항에 있어서,상기 컨테이너는 상기 플라즈마 방출 방사선이 출력 방사선으로서 상기 컨테이너를 빠져나오기 전에 상기 플라즈마 방출 방사선으로부터 10-400nm의 파장을 갖는 방사선을 실질적으로 제거하도록동작할수있는,방사선 소스 장치. [청구항 11] 제5항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,상기인렛 방사선 투과 요소와 상기 아울렛 방사선 투과 요소 둘 모두가 평행 평면 플레이트포함하는,방사선 소스 장치. [청구항 12] 제2항 내지 제11항 중 어느 한 항에 있어서,상기 아울렛 방사선 투과 요소는, 상기 플라즈마 방출 방사선이 출력 방사선으로서 상기 컨테이너를 빠져나오기 전에 상기 플라즈마 방출 방사선으로부터 10-400nm의 파장을 갖는 방사선 및/또는 상기 플라즈마 방출 방사선으로부터 700-1000nm의 파장을 갖는 방사선을 실질적으로 제거하도록동작할수있는,방사선 소스 장치. [청구항 13] 제12항에 있어서,상기 아울렛 방사선 투과 요소는, 상기 플라즈마 방출 방사선으로부터 10-400nm의 파장을 갖는 방사선 및/또는 상기 플라즈마 방출 방사선으로부터 700-1000nm의 파장을 갖는 방사선을 실질적으로 반사하거나 및/또는 흡수하기 위한 코팅포함하는,방사선 소스 장치. [청구항 14] 제13항에 있어서,상기 코팅은 상기 플라즈마와 대면하는 상기 방사선 투과 요소의 면상에 있는,방사선 소스 장치. [청구항 15] 제12항 내지 제14항 중 어느 한 항에 있어서,상기 아울렛 방사선 투과 요소는, 상기 플라즈마 방출 방사선으로부터 10-400nm의 파장을 갖는 방사선 및/또는 상기 플라즈마 방출 방사선으로부터 700-1000nm의 파장을 갖는 방사선을 흡수하는 재료포함하는,방사선 소스 장치. [청구항 16] 제12항 내지 제15항 중 어느 한 항에 있어서,상기 코팅이 tio2를 포함하거나, 또는 상기 재료도핑되는,방사선 소스 장치. [청구항 17] 제1항 내지 제16항 중 어느 한 항에 있어서,작동에 앞서 상기 플라즈마를 점화하는데 사용하기 위해, 상기 플라즈마가 형성되는 플라즈마 형성 지점(plasma forming location)의 상호 반대쪽 측면 상에 위치된 2개 이상의 전극더 포함하는,방사선 소스 장치. [청구항 18] 제1항 내지 제17항 중 어느 한 항에 있어서,상기 컨테이너의 내부 표면 상의 적어도 일부가 상기 플라즈마 유기방사선에 대해적어도 부분적으로 반사성인, 방사선 소스 장치. [청구항 19] 제1항 내지 제18항 중 어느 한 항에 있어서,상기 컨테이너를 축을 중심으로 회전시키기 위한 로테이터더 포함하는,방사선 소스 장치. [청구항 20] 제19항에 있어서,상기 로테이터는 상기 컨테이너를 분당 100회를 넘는회전수회전시키도록구성되는,방사선 소스 장치. [청구항 21] 제19항 또는 제20항에 있어서,상기 로테이터는 상기 컨테이너가 실질적으로 대칭을 이루는 축을 중심으로 상기 컨테이너회전시키기 위한 것인,방사선 소스 장치. [청구항 22] 제21항에 있어서,상기 컨테이너가 회전하는 축에 실질적으로 평행한 방향으로 상기 드라이빙 방사선이 상기 컨테이너에 진입하거나 및/또는 상기 출력 방사선이상기컨테이너빠져나오는,방사선 소스 장치. [청구항 23] 제1항 내지 제22항 중 어느 한 항에 있어서,상기 드라이빙 방사선을 발생하고, 상기 드라이빙 방사선을 상기 컨테이너 내의 플라즈마 형성 지점 상에 포커싱되는 적어도 하나의 빔이 되게 형성하는 드라이빙 시스템; 및출력 방사선을 집광하고, 상기 출력 방사선을 적어도 하나의 방사선 빔이 되게 형성하는 집광 광학 시스템더 포함하는,방사선 소스 장치. [청구항 24] 제23항에 있어서,상기 드라이빙 시스템은 상기 방사선 빔을 발생하기 위한 하나 이상의 레이저포함하는,방사선 소스 장치. [청구항 25] 제23항 또는 제24항에 있어서,상기 드라이빙 방사선은 주성분으로(predominantly) 제1 대역의 파장, 예컨대 적외 파장을 가지며, 상기 플라즈마 방출 방사선은 주성분으로 상기 제1 대역과는 상이한 제2 대역의 파장, 예컨대 가시 및/또는 자외 방사선갖는,방사선 소스 장치.