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기판 처리 장치 document_id 1020167026038

출원번호
1020167026038
분류
전기(H섹션)
문맥 (context)
[청구항 1] 기판을 처리하는 기판 처리 장치로서, 하부 개구를 갖고, 상기 하부 개구의 상방에 덮개 내부 공간을 형성하는 챔버 덮개부와, 본체 내부 공간을 형성함과 함께, 상기 챔버 덮개부와 함께 챔버를 형성하는 챔버 본체와, 상기 본체 내부 공간에 있어서 수평 상태에서 기판을 유지하는 기판 유지부와, 상기 기판의 상면에 처리액을 공급하는 처리액 공급부와, 상기 덮개 내부 공간에 배치되어 상기 기판의 상기 상면에 대향하고, 상기 하부 개구를 폐색 가능한 차폐판과, 상기 챔버 내에 있어서, 상기 차폐판이 상기 챔버 덮개부의 상기 하부 개구로부터 상방으로 이간된 상태에서, 상기 차폐판보다 상방으로부터 상기 덮개 내부 공간에 가스를 공급함으로써, 상기 덮개 내부 공간의 기압을 상기 본체 내부 공간의 기압보다 높게 하고, 상기 덮개 내부 공간의 상기 가스를, 상기 차폐판과 상기 챔버 덮개부 사이의 간극으로부터 상기 하부 개구를 통하여 상기 본체 내부 공간으로 송출하는 가스 공급부와, 상기 본체 내부 공간에 있어서 상기 기판보다 하방에 형성되고, 상기 덮개 내부 공간으로부터 유입된 상기 가스를 흡인하여 상기 챔버 밖으로 배출하는 배출 포트를 구비하는, 기판 처리 장치 [청구항 2] 제 1 항에 있어서,상기 차폐판의 하면의 중앙부에 가스 분출구가 형성되고,상기 가스 공급부에 의해, 상기 가스 분출구를 통하여 상기 차폐판의 상기 하면과 상기 기판의 상기 상면 사이의 공간에도 상기 가스공급되는,기판 처리 장치. [청구항 3] 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 차폐판의 하면의 중앙부에 처리액 토출구가 형성되고,상기 처리액 공급부에 의해, 상기 처리액 토출구를 통하여 상기 기판의 상기 상면에 처리액공급되는,기판 처리 장치. [청구항 4] 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,상기 처리액 공급부가, 처리액을 토출하는 토출 헤드와,수평 방향으로 연장되는 부재이고, 자유 단부에 상기 토출 헤드가 고정되고, 고정 단부가 상기 덮개 내부 공간에 있어서 상기 챔버 덮개부에 장착되는 헤드 지지부를 구비하고,상기 기판 처리 장치가, 상기 고정 단부를 중심으로 하여 상기 토출 헤드를 상기 헤드 지지부와 함께 회전하는 헤드 회전 기구를 추가로 구비하고,상기 기판 상에 처리액이 공급될 때에는, 상기 헤드 회전 기구에 의해 상기 토출 헤드가 회전되어 상기 차폐판과 상기 하부 개구 사이에 배치되고, 상기 토출 헤드로부터 상기 하부 개구를 통하여 상기 기판의 상기 상면에 처리액토출되는,기판 처리 장치. [청구항 5] 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 차폐판을 상기 덮개 내부 공간에 있어서 상기 챔버 덮개부에 대해 상기 상하 방향으로 상대적으로 이동시키는 차폐판 이동 기구를 추가로 구비하고,상기 챔버가 형성되기보다 전에, 상기 차폐판이 상기 챔버 덮개부의 상기 하부 개구에 중첩된 상태에서, 상기 가스 공급부에 의해 상기 덮개 내부 공간에 상기 가스가 공급되어 상기 덮개 내부 공간에 상기 가스충전되는,기판 처리 장치. [청구항 6] 제 5 항에 있어서,상기 챔버 덮개부가,상하를 반전시킨 컵상의 덮개 본체부와,상기 덮개 본체부의 하단부로부터 직경 방향 내방으로 확장됨과 함께 중앙부에 상기 하부 개구가 형성된 환상의 덮개 바닥면부를 구비하고,상기 하부 개구에 중첩된 상기 차폐판의 하면이, 상기 하부 개구의 주위의 전체 둘레에 걸쳐 상기 덮개 바닥면부의 상면에 접함으로써 상기 하부 개구폐색하는,기판 처리 장치. [청구항 7] 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 기판을 상기 기판 유지부와 함께 상기 챔버에 대해 상기 상하 방향으로 상대적으로 이동시키는 기판 이동 기구와,상기 상하 방향을 향하는 중심축을 중심으로 하여 상기 기판을 상기 기판 유지부와 함께 회전시키는 기판 회전 기구를 추가로 구비하고,상기 기판에 대한 처리액의 공급 종료 후에, 상기 기판 이동 기구에 의해 상기 기판이 상기 본체 내부 공간으로부터 상기 덮개 내부 공간으로 이동되고,상기 덮개 내부 공간에 있어서 상기 기판이 상기 기판 회전 기구에 의해 회전할 때, 상기 차폐판이 상기 기판에 근접한 위치에서 상기 중심축을 중심회전하는,기판 처리 장치. [청구항 8] 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 챔버 본체가, 상기 챔버 덮개부의 하방에서 상기 기판 유지부의 직경 방향 외측으로 전체 둘레에 걸쳐 위치하는 컵부를 구비하고,상기 컵부의 하방에 상기 배출 포트형성되는,기판 처리 장치.
지시문 (instruction)
주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.
질문 (question)
기판 처리 장치에서 가스 공급부가 덮개 내부 공간에 가스를 공급할 때, 덮개 내부 공간의 기압과 본체 내부 공간의 기압 사이에는 어떠한 관계가 형성되며, 공급된 가스는 어떤 경로를 통해 본체 내부 공간으로 전달되는가?
추론 과정 (compact_reasoning)
  1. 1과제 해석task_interpretation

    가스 공급 시 덮개 내부 공간과 본체 내부 공간의 기압 관계 및 가스의 이동 경로를 파악해야 한다.

  2. 2정보 추출information_extraction

    청구항 1에서 가스 공급부가 덮개 내부 공간의 기압을 본체 내부 공간보다 높게 하고, 가스를 특정 경로로 송출한다는 내용을 추출한다.

    • 상기 덮개 내부 공간의 기압을 상기 본체 내부 공간의 기압보다 높게 하고, 상기 덮개 내부 공간의 상기 가스를, 상기 차폐판과 상기 챔버 덮개부 사이의 간극으로부터 상기 하부 개구를 통하여 상기 본체 내부 공간으로 송출하는 가스 공급부
  3. 3근거 선택evidence_selection

    기압 관계(덮개 내부 > 본체 내부)와 가스 경로(차폐판과 덮개부 사이 간극 -> 하부 개구 -> 본체 내부)를 명시한 구절을 선택한다.

    • 상기 덮개 내부 공간의 기압을 상기 본체 내부 공간의 기압보다 높게 하고, 상기 덮개 내부 공간의 상기 가스를, 상기 차폐판과 상기 챔버 덮개부 사이의 간극으로부터 상기 하부 개구를 통하여 상기 본체 내부 공간으로 송출하는 가스 공급부
  4. 4논리 통합logical_integration

    가스 공급부가 덮개 내부에 가스를 공급하면 기압 차가 발생하여, 고압인 덮개 내부에서 저압인 본체 내부로 가스가 밀려 나가는 인과 관계를 도출한다.

  5. 5결론 도출conclusion_formulation

    덮개 내부 공간의 기압이 본체 내부 공간의 기압보다 높은 관계가 형성되며, 가스는 차폐판과 챔버 덮개부 사이의 간극을 통해 하부 개구를 거쳐 본체 내부로 전달된다.

    • 상기 덮개 내부 공간의 기압을 상기 본체 내부 공간의 기압보다 높게 하고, 상기 덮개 내부 공간의 상기 가스를, 상기 차폐판과 상기 챔버 덮개부 사이의 간극으로부터 상기 하부 개구를 통하여 상기 본체 내부 공간으로 송출하는 가스 공급부
  6. 6답변 생성answer_generation

    질문에 대해 기압 관계와 가스 경로를 명확히 기술하여 답변을 생성한다.

최종 답변 (final_answer)
가스 공급 시 덮개 내부 공간의 기압은 본체 내부 공간의 기압보다 높게 형성된다. 공급된 가스는 차폐판과 챔버 덮개부 사이의 간극으로부터 하부 개구를 통하여 본체 내부 공간으로 전달된다.
핵심 해석 (core_interpretation)
가스 공급부를 통해 덮개 내부 공간을 본체 내부 공간보다 고압 상태로 유지함으로써, 가스가 차폐판과 덮개부 사이의 간극 및 하부 개구를 통해 본체 내부로 흐르도록 유도하는 기술이다.