가공 특허 1020167026671

출원번호: 1020167026671
분류: 전기(H섹션)

문맥 (context)

[청구항 20] 기판상에 패턴이 만들어질 재료를 담고 있는 매트릭스로 기판을 코팅하도록 구성된 코팅 머신 재료를 패턴 내에 완전히 신터링하지 않고 기판으로 재료의 접착이 패턴을 따라 발생하도록 펄스 에너지 비임이 패턴의 위치에 충돌하도록 향하게 함에 의해 한 패턴을 매트릭스 내에 고정시키도록 구성된 기록 머신 고정된 패턴 바깥 기판에 남아있는 매트릭스를 제거하도록 구성된 매트릭스 제거 머신; 그리고 매트릭스를 제거한 뒤에, 패턴 내 재료를 신터링하도록 구성된 신터링 머신을 포함하는 제조 시스템 [청구항 21] 제20 항에 있어서,패턴으로 만들어질 상기 재료가나노입자포함함을특징으로 하는제조 시스템. [청구항 22] 제 21항에 있어서,나노입자 내 재료가 전기 전도성이며, 펄스 에너지 비임이 패턴을 고정시킨 후 트레이스 저항이 매트릭스를 제거한 후 패턴 내 재료의 완전한 신터링에 의해 달성될 최종 저항보다 10배 이상 이도록 선택된 에너지 플루엔스 및 반복률을 갖는방사선펄스포함함을특징으로 하는제조 시스템. [청구항 23] 제 20항에 있어서,기록 머신이 에너지 비임의 펄스 시퀀스를 향하게 하도록 구성되어기판상의위치내위치각각충돌하게특징으로 하는제조 시스템. [청구항 24] 제 20항에 있어서,펄스 에너지 비임이 1mhz 이상의 펄스 반복률특징으로 하는제조 시스템. [청구항 25] 제 24항에 있어서,펄스 반복률이 10mhz 이상특징으로 하는제조 시스템. [청구항 26] 제 20항에 있어서,매트릭스가 패턴이 만들어질 재료에 추가하여 유기 화합물을 포함하며, 펄스 에너지 비임을 향하게 하는 것이 재료를 패턴 내에 완전히 신터링하지 않고 매트릭스로부터 유기 화합물의 증발을 발생시키기 위해 선택된 펄스마다 플루엔스를 갖는에너지비임의펄스시퀀스포함함을특징으로 하는제조 시스템. [청구항 27] 제 26항에 있어서,패턴을 고정하는 데 적용된 펄스마다 플루엔스가 선택되어서 재료가 충분히 다공성으로 유지되고 유기 화합물의 증발로 인한 재료의 제거 또는 박리 없이 재료 내 구멍을 통하여유기화합물증발하도록특징으로 하는제조시스템. [청구항 28] 제 20항 내지 27항 중 어느 한 항에 있어서,신터링 머신이 재료의 신터링이 기판상에 고정된 패턴에 벌크 신터링 처리를 적용하도록구성됨을특징으로 하는제조 시스템. [청구항 29] 제 20항 내지 27항 중 어느 한 항에 있어서,신터링 머신이 기판상에 고정된 패턴을 신터링하기 위해 펄스 에너지 비임의 추가 펄스들 적용하도록구성됨을특징으로 하는제조 시스템. [청구항 30] 제 20항 내지 27항 중 어느 한 항에 있어서,코팅된 기판을 조사(irradiating)하기 전에 기판상의 매트릭스를 건조시키도록 구성된건조머신포함함을특징으로 하는제조 시스템. [청구항 31] 제 20항 내지 27항 중 어느 한 항에 있어서,매트릭스 제거 머신이 솔벤트를 가하여 고정된 패턴 바깥에 기판에 남아 있는 매트릭스를 제거하도록구성됨을특징으로 하는제조 시스템. [청구항 32] 기판상에 패턴이 만들어질 재료를 담고 있는 매트릭스로 기판을 코팅하도록 구성된 코팅 머신; 그리고 재료를 기판에 고정시키고 재료를 포인트에서 신터링하기에 충분한 플루엔스로 램프된 일시적인 프로필(ramped temporal profile)이 코팅된 기판상의 포인트에 충돌하도록 하는 펄스를 포함하는 펄스 에너지 비임을 향하게(direct) 하도록 구성된 기록 머신을 포함하는 제조 시스템 [청구항 33] 제 32항에 있어서,매트릭스가 기판에 고정된 재료에 추가하여 유기 화합물을 포함하며, 그리고 램프된 일시적인 프로필 그리고 플루엔스가 유기 화합물의 증발로 인해 재료의 제거 또는 박리가 일어나도록 하지 않고 재료를 신터링하기 전에, 매트릭스로부터유기 화합물의증발선택됨을특징으로 하는제조 시스템. [청구항 34] 제 32항에 있어서,재료가 나노입자를 포함하며, 재료를 신터링함이 포인트에서 나노입자의 퓨젼특징으로 하는제조 시스템. [청구항 35] 제 32항에 있어서,펄스가 20ns 이하의 지속시간특징으로 하는제조 시스템. [청구항 36] 제 32항 내지 35항 중 어느 한 항에 있어서,기록 머신이 코팅된 기판상에 패턴을 만드는 포인트 시퀀스에 펄스가 충돌하도록 향하게 함에 의해 기판상에 재료의 패턴을 생성하도록구성됨을특징으로 하는제조 시스템. [청구항 37] 제 36항에 있어서,시퀀스 포인트가 서로 겹쳐지지 않음을특징으로 하는제조 시스템. [청구항 38] 제 36항에 있어서,패턴의 위치 바깥에 기판에 남아있는 매트릭스를 제거하도록 구성된매트릭스제거머신포함함을특징으로 하는제조 시스템.

지시문 (instruction)

주어진 본문을 읽고 관련 정보를 분석하여 질문에 답하라.

질문 (question)

전기 전도성을 갖는 나노입자를 포함하는 재료를 사용하는 제조 시스템에서, 패턴을 고정시킨 후의 트레이스 저항이 매트릭스 제거 후 패턴 내 재료의 완전한 신터링에 의해 달성될 최종 저항보다 10배 이상이 되도록 하기 위해 선택되어야 하는 방사선 펄스의 조건은 무엇인가?

추론 과정 (compact_reasoning)

1과제 해석task_interpretation

전기 전도성 나노입자 재료를 사용하는 시스템에서, 패턴 고정 후의 저항이 최종 신터링 후 저항보다 10배 이상이 되도록 하는 방사선 펄스의 조건을 찾는 것이다.
2정보 추출information_extraction

청구항 22에서 나노입자 내 재료가 전기 전도성인 경우와 저항 조건(10배 이상)에 대한 언급을 추출한다.
- 나노입자 내 재료가 전기 전도성이며, 펄스 에너지 비임이 패턴을 고정시킨 후 트레이스 저항이 매트릭스를 제거한 후 패턴 내 재료의 완전한 신터링에 의해 달성될 최종 저항보다 10배 이상 이도록 선택된 에너지 플루엔스 및 반복률을 갖는방사선펄스포함함을특징으로 하는제조 시스템
3근거 선택evidence_selection

질문에서 요구하는 '10배 이상'의 저항 조건을 만족시키기 위해 선택되어야 하는 펄스의 구체적 파라미터를 식별한다.
- 에너지 플루엔스 및 반복률을 갖는방사선펄스포함함을특징으로 하는제조 시스템
4논리 통합logical_integration

청구항 22에 따르면, 트레이스 저항이 최종 저항보다 10배 이상이 되도록 하기 위해서는 방사선 펄스의 에너지 플루엔스와 반복률이 특정 조건으로 선택되어야 한다.
- 트레이스 저항이 매트릭스를 제거한 후 패턴 내 재료의 완전한 신터링에 의해 달성될 최종 저항보다 10배 이상 이도록 선택된 에너지 플루엔스 및 반복률을 갖는방사선펄스
5결론 도출conclusion_formulation

질문에 대한 답변으로 에너지 플루엔스와 반복률을 도출한다.
6답변 생성answer_generation

최종 답변을 작성한다.

최종 답변 (final_answer)

에너지 플루엔스 및 반복률

핵심 해석 (core_interpretation)

전기 전도성 나노입자 패턴의 고정 단계에서 트레이스 저항을 제어하기 위해 방사선 펄스의 에너지 플루엔스와 반복률을 조절하여, 최종 신터링 후의 저항과 특정 비율(10배 이상)을 갖도록 하는 기술적 조건에 관한 것이다.