기판 처리 방법 기판 처리 장치 및 컴퓨터 판독 가능한 기록 매체 document_id 1020170018163

[청구항 12] 제11항에 있어서,상기 피처리 기판의 표면 중 주연 영역에 에너지선을 조사하도록 구성된 조사부를 더 구비하고,상기 제어부는,상기 제7 처리의 후에 상기 조사부를 제어하여, 상기 피처리 기판의 표면 중 주연 영역에 위치하는 상기 도포막을 상기 피처리 기판의 주연 전체 주위에 걸쳐 소정의 노광 폭으로 노광하는 주연 노광 처리를 더 실행하고,상기 주연 노광 처리에 있어서, 상기 노광 폭을 상기 제5 처리에서 산출된상기휨량기초하여결정하는,기판 처리 장치. [청구항 13] 제11항 또는 제12항에 있어서,상기 피처리 기판에 관한 정보를 기억하는 기억부를 더 구비하고,상기 제어부는,상기 제7 처리의 후에 상기 도포막을 가열하는 제8 처리와,상기 제8 처리의 후에, 상기 피처리 기판의 주연 전체 주위에 걸쳐 상기 피처리 기판의 단부면을 카메라에 의해 촬상하는 제9 처리와,상기 제9 처리에서 얻어진 촬상 화상을 화상 처리하여, 상기 피처리 기판의 단부면의 형상 데이터를 상기 피처리 기판의 주연 전체 주위에 걸쳐 취득하는 제10 처리와,상기 제2 처리에서 취득된 형상 데이터와 상기 제10 처리에서 취득된 형상 데이터에 기초하여 상기 피처리 기판의 휨량을 산출하는 제11 처리와,상기 제11 처리에서 산출된 상기 휨량이 소정의 임계값보다도 큰 경우, 상기 피처리 기판을, 노광 처리를 행하지 않는 피처리 기판으로서 상기 기억부에 기억시키는 기억 처리더 실행하는,기판 처리 장치. [청구항 14] 제11항에 있어서,상기 피처리 기판의 표면 중 주연 영역에 에너지선을 조사하도록 구성된 조사부를 더 구비하고,상기 제어부는,상기 제7 처리의 후에 상기 도포막을 가열하는 제8 처리와,상기 제8 처리의 후에, 상기 피처리 기판의 주연 전체 주위에 걸쳐 상기 피처리 기판의 단부면을 카메라에 의해 촬상하는 제9 처리와,상기 제9 처리에서 얻어진 촬상 화상을 화상 처리하여, 상기 피처리 기판의 단부면의 형상 데이터를 상기 피처리 기판의 주연 전체 주위에 걸쳐 취득하는 제10 처리와,상기 제2 처리에서 취득된 형상 데이터와 상기 제10 처리에서 취득된 형상 데이터에 기초하여 상기 피처리 기판의 휨량을 산출하는 제11 처리와,상기 제9 처리의 후에 상기 조사부를 제어하여, 상기 피처리 기판의 표면 중 주연 영역에 위치하는 상기 도포막을 상기 피처리 기판의 주연 전체 주위에 걸쳐 소정의 노광 폭으로 노광하는 주연 노광 처리를 더 실행하고,상기 주연 노광 처리에 있어서, 상기 노광 폭을 상기 제5 처리에서 산출된상기휨량기초하여결정하는,기판 처리 장치. [청구항 15] 제14항에 있어서,상기 피처리 기판에 관한 정보를 기억하는 기억부를 더 구비하고,상기 제어부는, 상기 제11 처리에서 산출된 상기 휨량이 소정의 임계값보다도 큰 경우, 상기 피처리 기판에 대하여 노광 처리를 행하지 않는 피처리 기판으로 해서 상기 기억부에 기억시키는 기억 처리더 실행하는,기판 처리 장치. [청구항 17] 제16항에 있어서,상기 피처리 기판을 가열하게 구성된 가열부를 더 구비하고,상기 제어부는,상기 제6 처리의 후에 상기 가열부를 제어하여, 상기 도포막을 가열하는 제7 처리를 더 실행하고,상기 제3 내지 제5 처리를 상기 제7 처리의 후실행하는,기판 처리 장치. [청구항 18] 제17항에 있어서,상기 피처리 기판에 관한 정보를 기억하는 기억부를 더 구비하고, 상기 제어부는, 상기 제5 처리에서 산출된 상기 휨량이 소정의 임계값보다도 큰 경우, 상기 피처리 기판에 대하여 노광 처리를 행하지 않는 피처리 기판으로서 상기 기억부에 기억시키는 기억 처리더 실행하는,기판 처리 장치. [청구항 19] 제11항, 제12항, 제14항, 및 제15항 중 어느 한 항에 있어서,상기 피처리 기판을 보유 지지하여 회전시키도록 구성된 제2 회전 보유 지지부를 더 구비하고,상기 제어부는, 상기 제3 처리에 있어서 상기 제2 회전 보유 지지부를 제어하여, 상기 피처리 기판을 회전시키면서 상기 피처리 기판의 주연 전체 주위에 걸쳐 상기 피처리 기판의 단부면을 상기 적어도 하나의 카메라에 의해 촬상하고, 상기 제1 회전 보유 지지부 중 상기 피처리 기판을 보유 지지하는 부분의 사이즈는, 상기 제2 회전 보유 지지부 중 상기 피처리 기판을 보유 지지하는 부분의 사이즈동일한,기판 처리 장치. [청구항 20] 제16항 내지 제18항 중 어느 한 항에 있어서,상기 피처리 기판을 보유 지지하여 회전시키도록 구성된 제1 및 제2 회전 보유 지지부를 더 구비하고,상기 제어부는,상기 제3 처리에 있어서 상기 제1 회전 보유 지지부를 제어하여, 상기 피처리 기판을 회전시키면서 상기 피처리 기판의 주연 전체 주위에 걸쳐 상기 피처리 기판의 단부면을 상기 적어도 하나의 카메라에 의해 촬상하고,상기 주연 노광 처리에 있어서 상기 제2 회전 보유 지지부를 제어하여, 상기 피처리 기판을 회전시키면서 상기 피처리 기판의 표면 중 주연 영역에 위치하는 상기 도포막을 상기 피처리 기판의 주연 전체 주위에 걸쳐 소정의 노광 폭으로 노광하고,상기 제1 회전 보유 지지부 중 상기 피처리 기판을 보유 지지하는 부분의 사이즈는, 상기 제2 회전 보유 지지부 중 상기 피처리 기판을 보유 지지하는 부분의 사이즈동일한,기판 처리 장치. [청구항 21] 제13항에 있어서,상기 제3 처리에 있어서 상기 피처리 기판의 촬상이 행해지는 처리실과, 상기 제10 처리에 있어서 상기 피처리 기판의 촬상이 행해지는 처리실상이한,기판 처리 장치. [청구항 22] 제11항, 제12항, 제14항 내지 제18항 중 어느 한 항에 있어서,상기 피처리 기판을 보유 지지하여 회전시키도록 구성된 제2 회전 보유 지지부와,상기 제2 회전 보유 지지부의 회전축에 대하여 경사짐과 함께, 상기 제2 회전 보유 지지부에 보유 지지된 상기 피처리 기판의 단부면과 이면의 주연 영역에 대향하는 반사면을 갖는 미러 부재를 더 구비하고,상기 적어도 하나의 카메라 중 하나의 카메라는, 상기 제2 회전 보유 지지부에 보유 지지된 상기 피처리 기판의 표면 주연 영역으로부터의 제1 광과, 상기 제2 회전 보유 지지부에 보유 지지된 상기 피처리 기판의 단부면으로부터의 제2 광이 상기 미러 부재의 상기 반사면에서 반사된 반사광이 모두 렌즈를 통해 입력되는 촬상 소자갖는,기판 처리 장치. [청구항 23] 제11항, 제12항, 제14항 내지 제18항 중 어느 한 항에 있어서,상기 기준 기판은 평탄하며,상기 제어부는, 상기 제2 처리에 있어서, 상기 기준 기판의 단부면의 중앙을 통과하는 제1 프로파일선의 데이터를 상기 기준 기판의 단부면의 형상 데이터로서 취득하고,상기 제4 처리에 있어서, 상기 피처리 기판의 단부면의 중앙을 통과하는 제2 프로파일선의 데이터를 상기 피처리 기판의 단부면의 형상 데이터로서 취득하고,상기 제5 처리에 있어서, 제1 프로파일선의 데이터와 상기 제2 프로파일선의 데이터에 기초하여 상기 피처리 기판의 상기 휨량산출하는,기판 처리 장치. [청구항 24] 제11항, 제12항, 제14항 내지 제18항 중 어느 한 항에 있어서,상기 제어부는,상기 피처리 기판의 표면 중 주연 영역을 상기 적어도 하나의 카메라에 의해 촬상하는 주연 표면의 촬상 처리와,상기 제4 처리에서 촬상된 촬상 화상을 화상 처리하여 상기 피처리 기판의 표면 중 주연 영역 단부면의 상태를 검사함과 함께, 상기 주연 표면의 촬상 처리에 의해 촬상된 촬상 화상을 화상 처리하여 상기 피처리 기판의 표면 중 주연 영역의 상태를 검사하는 검사 처리더 실행하는,기판 처리 장치.