듀얼 패스 스캐닝 document_id 1020177018911

[청구항 2] 제 1 항에 있어서,복수의 전송 채널들을 포함하는 전송 시스템을 포함하고, 각 전송 채널은 빔렛들의 대응하는 그룹에 대한 데이터를 전송하기 위한 것인,패턴 데이터에 따라 웨이퍼노출시키기 위한하전 입자 리소그래피 시스템. [청구항 3] 제 1 항에 있어서,상기 빔렛들은 복수의 그룹들에 배치되고, 각 전송 채널은 빔렛들의 그룹들 중 하나에 대한 빔렛 제어 데이터를 전송하기 위한 것인,패턴 데이터에 따라 웨이퍼노출시키기 위한하전 입자 리소그래피 시스템. [청구항 4] 제 1 항에 있어서,상기 웨이퍼의 제 1 부분을 노출시키기 위해 할당된 빔렛들의 제 1 서브세트에 대한 제 1 빔렛 제어 데이터를 발생시키기 위해 상기 중간 데이터를 프로세싱 하기에 충분한 제 1 수의 추가 프로세싱 유닛들을 더 포함하는,패턴 데이터에 따라 웨이퍼노출시키기 위한하전 입자 리소그래피 시스템. [청구항 5] 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 전송 채널들의 서브세트에 상기 추가 프로세싱 유닛을 접속하기 위한 크로스-접속 스위치를 더 포함하는,패턴 데이터에 따라 웨이퍼노출시키기 위한하전 입자 리소그래피 시스템. [청구항 6] 제 5 항에 있어서,상기 하전 입자 리소그래피 시스템은 상기 웨이퍼의 제 1 부분을 노출시키기 위한 빔렛들의 제 1 서브세트 및 상기 웨이퍼의 제 2 부분을 노출시키기 위한 빔렛들의 제 2 서브세트를 할당하고;상기 크로스-접속 스위치는 상기 웨이퍼의 제 1 부분의 스캔을 위해 상기 빔렛들의 제 1 서브세트에 대응하는 상기 전송 채널들의 제 1 서브세트에 상기 추가 프로세싱 유닛을 접속시키고, 그리고 상기 웨이퍼의 제 2 부분의 스캔을 위해 상기 빔렛들의 제 2 서브세트에 대응하는 상기 전송 채널들의 제 2 서브세트에 상기 추가 프로세싱 유닛을 접속시키는,패턴 데이터에 따라 웨이퍼노출시키기 위한하전 입자 리소그래피 시스템. [청구항 7] 제 1 항, 제 2 항 또는 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 빔렛들은 복수의 그룹들에 배치되고, 상기 추가 프로세싱 유닛은 빔렛들의 임의의 하나의 그룹에 대한 빔렛 제어 데이터를 발생시키도록 구성되고, 각 전송 채널은 상기 빔렛들의 그룹들 중 하나에 대한 빔렛 제어 데이터를 전송하기 위해 전용되는,패턴 데이터에 따라 웨이퍼노출시키기 위한하전 입자 리소그래피 시스템. [청구항 8] 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,제 1 수의 추가 프로세싱 유닛들은 제 1 빔렛 제어 데이터를 발생시키기 위한 상기 중간 데이터를 프로세싱하고 그리고 제 2 빔렛 제어 데이터를 발생시키기 위한 상기 중간 데이터를 프로세싱하기에 충분하지만, 상기 제 1 빔렛 제어 데이터 및 상기 제 2 빔렛 제어 데이터 모두를 동시에 발생시키기 위해 상기 중간 데이터를 프로세싱하기에는 충분하지 않은,패턴 데이터에 따라 웨이퍼노출시키기 위한하전 입자 리소그래피 시스템. [청구항 9] 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 리소그래피 시스템은 상기 웨이퍼의 제 1 부분이 상기 패턴 데이터의 제 1 부분을 따라 노출되고 이후에 상기 웨이퍼의 제 2 부분이 상기 패턴 데이터의 제 2 부분을 따라 노출되는 듀얼-패스 스캔으로 상기 웨이퍼를 노출시키기 위해 적응되고,상기 추가 프로세싱 유닛은 메모리를 포함하고, 상기 메모리는 상기 패턴 데이터의 제 1 부분을 저장하기 위한 제 1 메모리 부분 및 상기 패턴 데이터의 제 2 부분을 저장하기 위한 제 2 메모리 부분으로 분할되고, 그리고웨이퍼들의 현재 뱃치(batch)의 웨이퍼의 제 2 부분의 노출 동안 웨이퍼들의 다음 배치의 웨이퍼에 대한 상기 패턴 데이터의 다음 부분이 상기 제 1 메모리 부분으로 로딩되는, 패턴 데이터에 따라 웨이퍼노출시키기 위한하전 입자 리소그래피 시스템. [청구항 10] 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 패턴 데이터는 벡터 패턴 데이터를 포함하고, 상기 빔렛 제어 데이터는 패턴 시스템 스트리밍 포맷인 데이터를 포함하는,패턴 데이터에 따라 웨이퍼노출시키기 위한하전 입자 리소그래피 시스템. [청구항 11] 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 추가 프로세싱 유닛은 상기 중간 데이터를 벡터 패턴 데이터 포맷으로부터 2-레벨 패턴 데이터 포맷으로 변환하고 그리고 상기 2-레벨 패턴 데이터 포맷인 상기 패턴 데이터를 상기 빔렛 블랭커 어레이로 스트리밍하도록 배치되는,패턴 데이터에 따라 웨이퍼노출시키기 위한하전 입자 리소그래피 시스템. [청구항 12] 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 추가 프로세싱 유닛은:빔렛 포지션에서의 변경들; 기계적 포지션 에러들; 상기 데이터 경로에서의 지연 에러들; 블랭커 타이머 오프셋; 빔렛 블랭커 어레이 홀 포지션에서의 변경들; 및 디플렉션 세기에서의 변경들 중 적어도 하나에 대해 보상하기 위해 상기 빔렛 제어 데이터에 대해 정정 조정들을 하도록 배치되는,패턴 데이터에 따라 웨이퍼노출시키기 위한하전 입자 리소그래피 시스템. [청구항 13] 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 오프라인 프로세싱은 평탄화 동작, 근접 정정 동작, 레지스트 가열 정정 동작, 및 스마트 바운더리들의 드로잉(drawing) 동작 중 적어도 하나를 더 포함하는,패턴 데이터에 따라 웨이퍼노출시키기 위한하전 입자 리소그래피 시스템. [청구항 14] 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,상기 실시간 프로세싱은 서브-픽셀 시프트 동작 및 도스(dose) 정정 동작 중 적어도 하나를 더 포함하는,패턴 데이터에 따라 웨이퍼노출시키기 위한하전 입자 리소그래피 시스템.