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| 문서유형 | doc_id | 제목 | 출처 | 분야 | 문장 | 주어 | 목적어 | 관계 | |
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| 특허 | A220517010484 | 액정표시소자 및 그 제조방법 | 특허청 | 전기전자 | 상기와 같은 액정표시소자를 제조하기 위해서는, 크게 트랜지스터 공정, 컬러필터 공정, 씨일제 형성공정, 스페이서 형성공정, 액정주입 공정 등을 수행하여야 한다. | 트랜지스터 공정 | 컬러필터 공정 | isUsedFor | 가공데이터 |
| 특허 | A220517010484 | 액정표시소자 및 그 제조방법 | 특허청 | 전기전자 | 이때, 상기 컬러필터층의 단차를 보상하고 컬러필터층의 물질이 액정층으로 확산되는 것을 방지하기 위해서, 상기 컬러필터층을 포함한 전면에 오버코트층을 더 형성해준다. | 컬러필터층 | 오버코트층 | isUsedFor | 가공데이터 |
| 특허 | A220517010484 | 액정표시소자 및 그 제조방법 | 특허청 | 전기전자 | 상기 트랜지스터 공정 및 컬러필터 공정을 각각 마친후, 각종 패턴이 구비된 제 1 기판 또는 제 2 기판을 포함한 전면에 액정의 초기배향을 결정하기 위한 배향막을 더 형성하기도 한다. | 전면 | 배향막 | isUsedFor | 가공데이터 |
| 특허 | A220517010484 | 액정표시소자 및 그 제조방법 | 특허청 | 전기전자 | 계속하여, 볼 스페이서가 형성된 제 2기판과 씨일제가 형성된 제 1 기판을 정렬 마크를 기준으로 자동 정렬한 후 대향 합착시키고, 고온 및 고압 하에서 상기 씨일제를 경화시켜 두 기판을 완전히 접착시키는 기판 합착공정을 수행한다. | 볼 스페이서 | 제 2기판 | isUsedFor | 가공데이터 |
| 특허 | A220517010484 | 액정표시소자 및 그 제조방법 | 특허청 | 전기전자 | 도시하지는 않았으나, 완전히 접착된 상기 두 기판을 필요한 크기로 절단하기 위해서 기판 표면에 라인을 형성하는 스크라이브 공정과 상기 라인에 충격을 가하여 접착된 기판을 액정셀 단위로 분리하는 브레이크 공정을 더 수행한다. | 브레이크 공정 | 액정셀 단위 | isUsedFor | 가공데이터 |
| 특허 | A220517010484 | 액정표시소자 및 그 제조방법 | 특허청 | 전기전자 | 이러한 특성을 갖는 액정표시소자는 상부기판인 컬러필터 어레이 기판과 하부기판인 TFT 어레이 기판이 서로 대향되도록 배치되고, 그 사이에 유전 이방성을 갖는 액정이 형성되는 구조를 가지는 것으로, 화소 선택용 어드레스 배선을 통해 수십 만개의 화소에 부가된 박막트랜지스터를 스위칭 동작시켜 해당 화소에 전압을 인가해 주는 방식으로 구동하게 된다. | 하부기판 | TFT 어레이 기판 | isUsedFor | 가공데이터 |
| 특허 | A220517010484 | 액정표시소자 및 그 제조방법 | 특허청 | 전기전자 | 이러한 특성을 갖는 액정표시소자는 상부기판인 컬러필터 어레이 기판과 하부기판인 TFT 어레이 기판이 서로 대향되도록 배치되고, 그 사이에 유전 이방성을 갖는 액정이 형성되는 구조를 가지는 것으로, 화소 선택용 어드레스 배선을 통해 수십 만개의 화소에 부가된 박막트랜지스터를 스위칭 동작시켜 해당 화소에 전압을 인가해 주는 방식으로 구동하게 된다. | 액정 | 유전 이방성 | isUsedFor | 가공데이터 |
| 특허 | A220517010484 | 액정표시소자 및 그 제조방법 | 특허청 | 전기전자 | 이러한 특성을 갖는 액정표시소자는 상부기판인 컬러필터 어레이 기판과 하부기판인 TFT 어레이 기판이 서로 대향되도록 배치되고, 그 사이에 유전 이방성을 갖는 액정이 형성되는 구조를 가지는 것으로, 화소 선택용 어드레스 배선을 통해 수십 만개의 화소에 부가된 박막트랜지스터를 스위칭 동작시켜 해당 화소에 전압을 인가해 주는 방식으로 구동하게 된다. | 박막트랜지스터 | 화소 선택용 어드레스 배선 | isCausedBy | 가공데이터 |
| 특허 | A220517010484 | 액정표시소자 및 그 제조방법 | 특허청 | 전기전자 | 상기와 같은 액정표시소자를 제조하기 위해서는, 크게 트랜지스터 공정, 컬러필터 공정, 씨일제 형성공정, 스페이서 형성공정, 액정주입 공정 등을 수행하여야 한다. | 씨일제 형성공정 | 스페이서 형성공정 | isUsedFor | 가공데이터 |
| 특허 | A220517010487 | 진공 건조용 열경화 장치 및 진공건조 열경화방법 | 특허청 | 의약학 | 액정 표시 장치는 전계를 이용하여 액정의 광투과율을 조절함으로써 화상을 표시하기 위한 장치로서, 이러한 액정 표시 장치는 도 1에 도시된 바와 같이 액정을 사이에 두고 서로 대향하여 합착된 두 개의 유리기판으로 구성되어 있다. | 액정 표시 장치 | 유리기판 | isUsedFor | 가공데이터 |
| 특허 | A220517010487 | 진공 건조용 열경화 장치 및 진공건조 열경화방법 | 특허청 | 의약학 | 한편, 상기와 같은 유리기판의 제조 공정에 있어서, 상기 유리기판에는 도포액 예를 들어 포토레지스트액 등이 도포되어 포토레지스트막이 형성되고, 상기 포토레지스트막 위에 회로 패턴에 대응하는 마스크가 덮여진 상태에서 상기 유리기판은 노광 처리되며, 상기 노광 처리된 상기 유리기판은 소위 포토리소그라피 기술에 의해 현상처리되어 회로 패턴을 형성하게 된다. | 유리기판 | 포토레지스트막 | isUsedFor | 가공데이터 |
| 특허 | A220517010487 | 진공 건조용 열경화 장치 및 진공건조 열경화방법 | 특허청 | 의약학 | 이때, 상기 솔벤트 제거 공정은, 상기 포토레지스트 도포 공정의 수행 중에 포토레지스트에 혼합되어 있는 솔벤트를 제거하기 위한 공정으로서, 상기 포토레지스트 도포 공정이 수행된 유리기판을 진공 건조 장치에서 일정시간 동안 진공 상태로 유지시키는 공정이다. | 솔벤트 제거 공정 | 솔벤트 | isUsedFor | 가공데이터 |
| 특허 | A220517010487 | 진공 건조용 열경화 장치 및 진공건조 열경화방법 | 특허청 | 의약학 | 한편, 상기 솔벤트 제거 공정은 일반적으로 중진공 상태에서 40~50sec 동안 이루어진다. | 솔벤트 제거 공정 | 중진공 상태 | isUsedFor | 가공데이터 |
| 특허 | A220517010487 | 진공 건조용 열경화 장치 및 진공건조 열경화방법 | 특허청 | 의약학 | 즉, 포토레지스트가 도포된 기판은 상기 솔벤트 제거 공정에 의해 주변의 불필요한 포토레지스트가 제거된 후에 상기 열경화 장치로 반입되어 소프트베이크처리가 행하여진다. | 열경화 장치 | 소프트베이크처리 | isUsedFor | 가공데이터 |
| 특허 | A220517010487 | 진공 건조용 열경화 장치 및 진공건조 열경화방법 | 특허청 | 의약학 | 이때, 상기 열경화 공정에서는 소량의 솔벤트가 기화된 후 다시 상기 챔버에 쌓이게 되며, 이러한 솔벤트는 상기 열경화 장치를 부식시키게 된다는 문제점이 있다. | 열경화 공정 | 솔벤트 | isUsedFor | 가공데이터 |
| 특허 | A220517010487 | 진공 건조용 열경화 장치 및 진공건조 열경화방법 | 특허청 | 의약학 | 한편, 상기와 같은 유리기판의 제조 공정에 있어서, 상기 유리기판에는 도포액 예를 들어 포토레지스트액 등이 도포되어 포토레지스트막이 형성되고, 상기 포토레지스트막 위에 회로 패턴에 대응하는 마스크가 덮여진 상태에서 상기 유리기판은 노광 처리되며, 상기 노광 처리된 상기 유리기판은 소위 포토리소그라피 기술에 의해 현상처리되어 회로 패턴을 형성하게 된다. | 유리기판 | 포토리소그라피 기술 | isCausedBy | 가공데이터 |
| 특허 | A220517010488 | 게이트 구동회로 및 이의 리페어방법 | 특허청 | 전기전자 | 이를 위하여 액정표시장치는 화소영역들이 매트릭스 형태로 배열되어진 액정패널과 이 액정패널을 구동하기 위한 구동회로를 구비한다. | 액정패널 | 매트릭스 형태 | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517010488 | 게이트 구동회로 및 이의 리페어방법 | 특허청 | 전기전자 | 상기 액정패널에는 다수개의 게이트 라인들과 다수개의 데이터 라인들이 교차하게 배열되고, 그 게이트 라인들과 데이터 라인들이 수직교차하여 정의되는 영역에 화소영역이 위치하게 된다. | 데이터 라인 | 수직교차 | isUsedFor | 가공데이터 |
| 특허 | A220517010488 | 게이트 구동회로 및 이의 리페어방법 | 특허청 | 전기전자 | 그리고, 상기 화소영역들 각각에 전계를 인가하기 위한 화소전극들과 공통전극이 상기 액정패널에 형성된다. | 화소전극 | 전계 | isUsedFor | 가공데이터 |
| 특허 | A220517010488 | 게이트 구동회로 및 이의 리페어방법 | 특허청 | 전기전자 | 상기 박막트랜지스터는 상기 게이트 라인을 경유하여 게이트단자에 인가되는 스캔펄스에 의해 턴-온되어, 상기 데이터 라인의 데이터 신호가 상기 화소전압에 충전되도록 한다. | 박막트랜지스터 | 스캔펄스 | isCausedBy | 가공데이터 |