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특허 지식베이스 가공데이터
CoT 가공 결과 목록 (server2). document_id(=출원번호)를 클릭하면 추론 과정이 팝업으로 열립니다.
| document_id | 제목 | 분류 | 문맥 | 청구항 속성 | 연도 | IPC |
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| 1019950700769 | 매트릭스화된 오디오 신호의 적응 리매트릭싱 | 전기(H섹션) | [청구항 1] 잡음레벨이 신호 진폭레벨에 따라 가변하는 시스템에서의 코딩, 전송 또는, 저장 및 검색을 위하여 4 2 오디오 신호 매트릭스의 오디오 출력 신호들을 적응 리매트릭싱하... | 등록공보 | H04S 3/02 | |
| 1019960021287 | 불휘발성반도체기억장치 | 전기(H섹션) | [청구항 2] 제1항에 있어서,데이타 기록시에, 상기 소스영역(2)을 개방상태로 하는 개방수단과, 데이타 기록시에, 상기 n형 영역(1)을 접지상태로 하는 접지수단더 구비하는불휘발... | 등록공보 | 1996 | H01L 27/115 |
| 1019970700269 | 소형 선형운동 액튜에이터 | 전기(H섹션) | [청구항 2] 제 1 항에 있어서,상기 절연층은 50å내지인것을특징으로 하는선형 액튜에이터. [청구항 3] 제 1 항에 있어서,상기 절연층은 상기 제 1 웨이퍼 표면에 부착된박막구... | 공개공보 | 1995 | H01L 41/08 |
| 1019980050239 | 반도체장치의 커패시터 및 그 제조방법 | 전기(H섹션) | [청구항 1] 기판; 상기 기판 상에 형성된 제1 절연막 상기 제1 절연막에 형성된 상기 기판을 노출시키는 콘택홀 상기 콘택홀에 채워진 도전성 플러그 상기 도전성 플러그 사이의 상... | 공개공보 | 1998 | H01L 27/10 |
| 1020000001338 | 스태틱 랜덤 억세스 메모리 소자 및 그 제조 방법 | 전기(H섹션) | [청구항 2] 제1항에 있어서,상기 다층의 금속층들은 상기 제1 및 제2 연결 라인을 구성하는 제1 금속층, 상기 워드 라인을 구성하는 제2 금속층 및 상기 비트 라인과 제1 및 ... | 공개공보 | H01L 27/11 | |
| 1020030033242 | 스크롤링 유닛 및 이를 채용한 프로젝션 시스템 | 전기(H섹션) | [청구항 1] 입사광을 스크롤시키기 위한 스크롤링 유닛으로서, 상기 입사광을 다수개의 빔으로 나누는 적어도 하나의 렌즈셀이 기둥형의 외주면에 나선형으로 배열되고, 상기 스크롤링 유... | 등록공보 | 2003 | H04N 5/74 |
| 1020030089564 | 하이브리드 스위치 셀 및 이를 이용한 메모리 장치 | 전기(H섹션) | [청구항 2] 제 1항에 있어서,상기 하이브리드 스위치는 상기 불휘발성 강유전체 캐패시터의 상기 일단자와 상기 비트라인 사이에 병렬 연결된 pn 다이오드 스위치와 pnpn다이오드 ... | 공개공보 | 2003 | H01L 27/115 |
| 1020040013313 | 비터비 복호기의 상태 메트릭 메모리의 주소 할당 방법 및이를 이용하는 비터비 디코더 | 전기(H섹션) | [청구항 16] 제15항에 있어서,상기acs부는 병렬로 배치된 복수개의 acs연산유닛들가지는것을특징으로 하는비터비 복호기. [청구항 17] 제16항에 있어서,상기acs 연산 유닛들... | 공개공보 | 2004 | H03M 13/41 |
| 1020040023728 | 어드레스 전극간 캐패시턴스를 낮춘 플라즈마 디스플레이패널 | 전기(H섹션) | [청구항 2] 제1항에 있어서,상기 오목부는 상기 방전 셀의 중앙부위치하는플라즈마 디스플레이 패널. [청구항 3] 제1항에 있어서,드레스 전압이 인가되는 제2 전극에 대향하는 확장... | 공개공보 | 2004 | H01J 17/49 |
| 1020040086779 | 유기박막 트랜지스터를 구비한 유기전계 발광표시장치 및그의 제조방법 | 전기(H섹션) | [청구항 1] 캐패시터영역과 트랜지스터영역을 구비한 기판과 상기 기판중 트랜지스터영역에 형성되고, 게이트전극, 반도체층 및 소오스/드레인 전극을 구비하는 박막 트랜지스터와 상기 기... | 등록공보 | 2004 | H05B 33/00 |
| 1020057018901 | 안테나 전기적 길이 적용 조정용 시스템 및 그 방법 | 전기(H섹션) | [청구항 2] 제 1항에 있어서,송신 라인 신호들을 감지함이 송신 라인 신호 파워 레벨들을 감지함을포함함을특징으로 하는안테나 전기적 길이 적용 조정용 방법 [청구항 3] 제 1항에... | 공개공보 | 2004 | H01Q 9/14 |
| 1020060109128 | 비휘발성 메모리 장치 및 그 제조방법 | 전기(H섹션) | [청구항 2] 제1항에 있어서,상기 전하저장절연막은 터널절연막, 전하저장막 및 블로킹절연막포함하는비휘발성 메모리 장치 [청구항 3] 제2항에 있어서,상기 전하저장막은 실리콘 질화막... | 공개공보 | 2006 | H01L 27/115 |
| 1020070045945 | 나노 임프린트 블랭크 마스크, 나노 임프린트 스탬프 및그의 제조방법 | 전기(H섹션) | [청구항 1] 투명기판 위에 나노 임프린트막, 레지스트막이 순차적으로 형성된 나노 임프린트 리소그래피용 블랭크 마스크에 있어서, 나노 임프린트막의 입도(grain size)가 50... | 공개공보 | 2007 | H01L 21/027 |
| 1020090116943 | 어레이 기판 및 이의 제조방법 | 전기(H섹션) | [청구항 10] 화소영역과 스위칭 영역이 정의된 기판 상의 상기 스위칭 영역에 불순물 폴리실리콘으로서 아일랜드 형태로 형성된 게이트 전극과 상기 게이트 전극 상부에 상기 게이트 전... | 공개공보 | 2009 | H01L 29/786 |
| 1020140030761 | 전자장치 및 그 제조방법 | 전기(H섹션) | [청구항 2] 제1항에 있어서,상기 제1필라전극과 상기 가변저항층 사이 또는 상기 제2필라전극과 상기 가변저항층 사이에 삽입된 선택소자층더 포함하는전자장치. [청구항 3] 제1항에... | 공개공보 | 2014 | H01L 27/115 |
| 1020157008616 | 스케일러블 비디오 코딩을 위한 가중된 예측 모드 | 전기(H섹션) | [청구항 2] 제 1 항에 있어서,상기 프로세서는 또한, 정규화 팩터 (normalization factor) 를 사용하도록 구성되고,상기 정규화 팩터는 상기 가중된 인터-레이어 ... | 공개공보 | 2013 | H04N 19/30 |
| 1019960701584 | 코드분할다중접속시스템어플리케이션용다중속도직렬비터비디코더 | 전기(H섹션) | [청구항 15] 제 1 복수의 소정의 원시 비트 데이터 속도{r i }중 하나로 제공된 원시 비트 데이터가 코드 심볼 데이터를 제공하기 위해 인코딩되고, 상기 코드 심볼 데이터는 ... | 등록공보 | 1994 | H04L 25/02 |
| 1019980706547 | 전기화학 전지의 제조방법 및 제조장치 | 전기(H섹션) | [청구항 13] 제12항에 있어서,상기 애노드 집전체는 그 양면에 애노드 필름을 가지고 있고 캐소드 집전체는 그 양면에캐소드필름있는것을특징으로 하는전기화학 전지. [청구항 14] ... | 공개공보 | 1997 | H01M 10/04 |
| 1019910018657 | 반도체장치 | 전기(H섹션) | [청구항 3] 제1항에 있어서,상기 제2막의 상기 상부면은 상기 필드 산화막의 하부면과 상부면 아래배치된반도체 장치. [청구항 4] 제1항에 있어서,상기 제3막은 cvd에 의해 형... | 공개공보 | 1991 | H01L 21/76 |
| 1020137002674 | 다중-전압 레벨, 다중-동적 회로 구조를 구현하기 위한 장치 및 방법 | 전기(H섹션) | [청구항 2] 제 1 항에 있어서,상기 제 1 키퍼 회로는, 상기 제 1 동적 노드의 디스차지 동안 인에이블되지 않는,장치. [청구항 3] 제 1 항에 있어서,상기 제 2 키퍼 회... | 공개공보 | 2011 | H03K 19/0185 |
1–20번째 행
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