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| 문서유형 | doc_id | 제목 | 출처 | 분야 | 문장 | 주어 | 목적어 | 관계 | |
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| 특허 | A220517004009 | 쉬프트 레지스터 | 특허청 | 전기전자 | 게이트 드라이버는 순차적인 스캔 신호를 발생하기 위하여 쉬프트 레지스터를 포함한다. | 게이트 드라이버 | 쉬프트 레지스터 | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517004009 | 쉬프트 레지스터 | 특허청 | 전기전자 | 구동 회로는 게이트 라인을 구동하는 게이트 드라이버와, 데이터 라인을 구동하는 데이터 드라이버를 구비한다. | 구동 회로 | 데이터 드라이버 | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517004054 | 결함 탐지 방법 | 특허청 | 의약학 | 통상적인 공정중의 모니터링 기술은 "검사 및 검토" 과정이라는 두 단계를 채용한다. | 모니터링 기술 | 검사 | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517004054 | 결함 탐지 방법 | 특허청 | 의약학 | 통상적인 공정중의 모니터링 기술은 "검사 및 검토" 과정이라는 두 단계를 채용한다. | 모니터링 기술 | 검토 | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517004054 | 결함 탐지 방법 | 특허청 | 의약학 | 제 1 단계 중에, 웨이퍼 표면을 빠른 속도와 상대적으로 낮은 해상도로 검사한다. | 웨이퍼 표면 | 낮은 해상도 | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517004054 | 결함 탐지 방법 | 특허청 | 의약학 | 제 1 단계의 목적은 결함이 나타날 확률이 높은 웨이퍼상의 의심 위치를 보여주는 결함 맵을 생성하는 것이다. | 웨이퍼상의 의심 위치 | 결함 맵 | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517004054 | 결함 탐지 방법 | 특허청 | 의약학 | 제 1 단계의 목적은 결함이 나타날 확률이 높은 웨이퍼상의 의심 위치를 보여주는 결함 맵을 생성하는 것이다. | 결함 | 확률 | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517004054 | 결함 탐지 방법 | 특허청 | 의약학 | 제 2 단계 중에, 의심 위치를 보다 철저히 분석한다. | 의심 위치 | 분석 | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517004054 | 결함 탐지 방법 | 특허청 | 의약학 | 양 단계들은 동일한 장치에 의해 실시될 수도 있으나, 필수적인 것은 아니다. | 단계 | 동일한 장치 | isCausedBy | 가공데이터 |
| 특허 | A220517004054 | 결함 탐지 방법 | 특허청 | 의약학 | 두 단계 검사 기구는 하나의 탐지기 또는 다수의 탐지기들을 가질 수 있다. | 검사 기구 | 탐지기 | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517004055 | 메니스커스, 진공, ＩＰＡ증기, 건조 매니폴드를 이용한 기판처리시스템 | 특허청 | 의약학 | 반도체칩 제조공정에서 웨이퍼 표면에 원치 않는 잔류물을 남기게 되는 제조작업을 실시하는 경우 웨이퍼를 세정하고 건조할 필요가 있다는 것은 잘 알려져 있다. | 반도체칩 제조공정 | 웨이퍼 | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517004055 | 메니스커스, 진공, ＩＰＡ증기, 건조 매니폴드를 이용한 기판처리시스템 | 특허청 | 의약학 | 이런 제조작업의 예로는 플라즈마 에칭 및 화학기계적 폴리싱이 포함된다. | 플라즈마 에칭 | 화학기계적 폴리싱 | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517004055 | 메니스커스, 진공, ＩＰＡ증기, 건조 매니폴드를 이용한 기판처리시스템 | 특허청 | 의약학 | CMP에 있어서, 웨이퍼는 홀더 내에 놓여져서 웨이퍼의 표면이 홀더에 의해 회전하는 컨베이어벨트에 대하여 밀어진다. | 웨이퍼 | 홀더 | isCausedBy | 가공데이터 |
| 특허 | A220517004055 | 메니스커스, 진공, ＩＰＡ증기, 건조 매니폴드를 이용한 기판처리시스템 | 특허청 | 의약학 | 이 컨베이어벨트는 폴리싱을 위한 화학약품 및 연마제로 구성된 슬러리를 사용한다. | 컨베이어벨트 | 슬러리 | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517004055 | 메니스커스, 진공, ＩＰＡ증기, 건조 매니폴드를 이용한 기판처리시스템 | 특허청 | 의약학 | 그러나 불행하게도 이 공정은 웨이퍼의 표면에 슬러리 입자 및 잔류물을 축적시키게 된다. | 공정 | 웨이퍼의 표면 | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517004055 | 메니스커스, 진공, ＩＰＡ증기, 건조 매니폴드를 이용한 기판처리시스템 | 특허청 | 의약학 | 웨이퍼에 원치 않는 잔류물질 및 입자가 남는다면 이 것들은 특히 웨이퍼 표면의 스크래치 및 금속화특징간의 부적절한 상호작용 등의 결함을 일으킬 수 있다. | 잔류물질 | 부적절한 상호작용 | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517004055 | 메니스커스, 진공, ＩＰＡ증기, 건조 매니폴드를 이용한 기판처리시스템 | 특허청 | 의약학 | 경우에 따라서, 이런 결함들은 웨이퍼 상의 장치가 동작하지 못하게 할 수도 있다. | 결함 | 웨이퍼 상의 장치 | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517004055 | 메니스커스, 진공, ＩＰＡ증기, 건조 매니폴드를 이용한 기판처리시스템 | 특허청 | 의약학 | 따라서, 동작불능의 장치를 갖는 웨이퍼를 폐기하는데 필요한 부당한 비용을 줄이기 위해서는 원치 않는 잔류물을 남기게 되는 제조작업 후에 웨이퍼를 적절히 그리고 효율적으로 세정할 필요가 있다. | 웨이퍼 | 세정 | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517004055 | 메니스커스, 진공, ＩＰＡ증기, 건조 매니폴드를 이용한 기판처리시스템 | 특허청 | 의약학 | 따라서, 동작불능의 장치를 갖는 웨이퍼를 폐기하는데 필요한 부당한 비용을 줄이기 위해서는 원치 않는 잔류물을 남기게 되는 제조작업 후에 웨이퍼를 적절히 그리고 효율적으로 세정할 필요가 있다. | 동작불능의 장치 | 부당한 비용 | isToBe | 가공데이터 |
| 특허 | A220517004055 | 메니스커스, 진공, ＩＰＡ증기, 건조 매니폴드를 이용한 기판처리시스템 | 특허청 | 의약학 | 웨이퍼를 습식세정한 후, 물이나 세정 유체 잔류물이 웨이퍼 상에 남는 것을 방지하기 위해 웨이퍼를 효율적으로 건조시켜야 한다. | 습식세정 | 건조 | isToBe | 가공데이터 |