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문서유형doc_id제목출처분야문장 주어목적어관계
특허 A220623010224 안정기 집적회로 특허청 전기전자 이 전류에 의해 필라멘트는 열전자가 잘 방출될 수 있는 상태가 된다. 필라멘트 열전자 hasAttribute 가공데이터
특허 A220623010224 안정기 집적회로 특허청 전기전자 그리고 상기 구동모드는, 형광등의 수명이 다하거나, 형광등에 이상이 생기거나, 회로에 이상이 생기지 않는 한 일정한 주파수로 구동되도록 하는 단계이다. 주파수 구동모드 isUsedFor 가공데이터
특허 A220623010224 안정기 집적회로 특허청 전기전자 이때의 구동 주파수는 형광등의 저항이 무한대일 때의 공진회로의 공진 주파수보다 약간 낮은 주파수로 설정되는 것이 일반적이다. 공진 주파수 공진회로 isCausedBy 가공데이터
특허 A220623010224 안정기 집적회로 특허청 전기전자 이때의 구동 주파수는 형광등의 저항이 무한대일 때의 공진회로의 공진 주파수보다 약간 낮은 주파수로 설정되는 것이 일반적이다. 낮은 주파수 구동 주파수 isUsedFor 가공데이터
특허 A220623010224 안정기 집적회로 특허청 전기전자 이때 공진회로는 마치 커패시터 부하와 유사하게 동작하므로 인덕터의 전류가 출력전압의 위상보다 빠르게 되며, 이에 따라 영전압스위칭이 일어나지 않고 하드 스위칭이 일어나게 된다. 하드 스위칭 공진회로 isCausedBy 가공데이터
특허 A220623010224 안정기 집적회로 특허청 전기전자 하드 스위칭은, 스위칭에 의해 출력이 변화되며, 최대 전압이 인가된 상태에서 스위치가 턴-온 되는 것을 의미한다. 출력 하드 스위칭 isCausedBy 가공데이터
특허 A220623010224 안정기 집적회로 특허청 전기전자 하드 스위칭은, 스위칭에 의해 출력이 변화되며, 최대 전압이 인가된 상태에서 스위치가 턴-온 되는 것을 의미한다. 스위치 하드 스위칭 isUsedFor 가공데이터
특허 A220623010224 안정기 집적회로 특허청 전기전자 이와 같은 데드타임은 일반적으로 안정기 집적회로에 의해 제공이 되어, 일정한 데드타임이 보장되도록 한다. 데드타임 안정기 집적회로 isCausedBy 가공데이터
특허 A220623010230 저압 플라즈마 발생장치 특허청 의약학 일반적으로 플라즈마를 발생시켜 기판을 처리하는 기판처리장치에는 일반적으로 박막증착을 위한 PECVD장치, 증착된 박막을 패터닝하기 위해 식각하는 반응성 이온 식각장치, 스퍼터, 애싱장치 등이 있다. 플라즈마 기판처리장치 isCausedBy 가공데이터
특허 A220623010230 저압 플라즈마 발생장치 특허청 의약학 챔버의 측벽에는 기판출입구가 형성되며, 챔버의 하부에는 잔류가스를 배출하는 배기구가 형성된다. 기판출입구 챔버의 측벽 isPlaceOf 가공데이터
특허 A220623010230 저압 플라즈마 발생장치 특허청 의약학 챔버의 측벽에는 기판출입구가 형성되며, 챔버의 하부에는 잔류가스를 배출하는 배기구가 형성된다. 배기구 잔류가스 hasAttribute 가공데이터
특허 A220623010230 저압 플라즈마 발생장치 특허청 의약학 상기 배기구에는 터보분자펌프가 연결되며, 터보분자펌프는 수십 mTorr 이하의 고진공 영역에서 사용되는 진공펌프로서 선단에 부착된 개폐밸브에 의해 개폐된다. 터보분자펌프 배기구 isPartOf 가공데이터
특허 A220623010230 저압 플라즈마 발생장치 특허청 의약학 상기 배기구에는 터보분자펌프가 연결되며, 터보분자펌프는 수십 mTorr 이하의 고진공 영역에서 사용되는 진공펌프로서 선단에 부착된 개폐밸브에 의해 개폐된다. 배기구 고진공 isUsedFor 가공데이터
특허 A220623010230 저압 플라즈마 발생장치 특허청 의약학 상기 배기구에는 터보분자펌프가 연결되며, 터보분자펌프는 수십 mTorr 이하의 고진공 영역에서 사용되는 진공펌프로서 선단에 부착된 개폐밸브에 의해 개폐된다. 터보분자펌프 진공펌프 isPartOf 가공데이터
특허 A220623010230 저압 플라즈마 발생장치 특허청 의약학 터보분자펌프는 도시된 바와 같이 챔버의 하측부에 결합하는 경우도 있고 챔버의 저면에 결합하는 경우도 있다. 터보분자펌프 챔버의 하측부 isPartOf 가공데이터
특허 A220623010230 저압 플라즈마 발생장치 특허청 의약학 터보분자펌프는 도시된 바와 같이 챔버의 하측부에 결합하는 경우도 있고 챔버의 저면에 결합하는 경우도 있다. 터보분자펌프 챔버의 저면 isPartOf 가공데이터
특허 A220623010230 저압 플라즈마 발생장치 특허청 의약학 정전척은 정전척몸체와 절연판으로 구성된다. 정전척 정전척몸체 isPartOf 가공데이터
특허 A220623010230 저압 플라즈마 발생장치 특허청 의약학 정전척은 정전척몸체와 절연판으로 구성된다. 정전척 절연판 isPartOf 가공데이터
특허 A220623010230 저압 플라즈마 발생장치 특허청 의약학 정전척몸체는 알루미늄 또는 아노다이징 처리된 알루미늄 재질로 제조되며, 기판을 안치하는 역할 뿐만 아니라 통상 13.56MHz의 RF전원에 연결되어 챔버 내부에 RF전기장을 형성시키는 역할도 수행한다. 알루미늄 정전척몸체 isPartOf 가공데이터
특허 A220623010230 저압 플라즈마 발생장치 특허청 의약학 정전척은 이와 같이 RF전원에 연결된 상태이고 챔버는 통상 접지된 상태이므로, 절연부재를 이용하여 정전척을 챔버로부터 절연시킬 필요가 있다. RF전원 정전척 isPartOf 가공데이터
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