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| 문서유형 | doc_id | 제목 | 출처 | 분야 | 문장 | 주어 | 목적어 | 관계 | |
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| 특허 | A220623011924 | 패키지 내의 파트들 사이의 관계를 유지하기 위한 방법 및장치 | 특허청 | 의약학 | 이 일반적인 프레임워크 및 포맷 이외에, 리치 패키지 포맷(reach package format)으로 알려진 특정 포맷이 일반적인 프레임워크를 이용하여 정의된다. | 리치 패키지 포맷 | 프레임워크 | isPartOf | 가공데이터 |
| 특허 | A220623011928 | 무안경식 디스플레이를 위한 시차 이미지의 특정한 정렬시스템 및 방법 | 특허청 | 전기전자 | 특히, 망막 불일치는 뇌에 의해 제공되는 시차 정보(prallax information)(즉, 위치, 운동 방향, 또는 다른 관찰위치에 의해 야기된 물체의 다른 시각적 특징에서의 명백한 변화)가 된다. | 망막 불일치 | 시차 정보 | isA | 가공데이터 |
| 특허 | A220623011928 | 무안경식 디스플레이를 위한 시차 이미지의 특정한 정렬시스템 및 방법 | 특허청 | 전기전자 | 입체경(stereoscopes), 편광, 애너글리픽(anaglyphic), 펄프리치(Pulfrich), 및 셔터링(schuttering) 기술을 포함하는 입체영상 기술은 시청자가, 예를 들어, 안경과 같은 특수 시청장치를 써야하는 것을 필요로 한다. | 입체경 | 입체영상 기술 | isPartOf | 가공데이터 |
| 특허 | A220623011928 | 무안경식 디스플레이를 위한 시차 이미지의 특정한 정렬시스템 및 방법 | 특허청 | 전기전자 | 입체경(stereoscopes), 편광, 애너글리픽(anaglyphic), 펄프리치(Pulfrich), 및 셔터링(schuttering) 기술을 포함하는 입체영상 기술은 시청자가, 예를 들어, 안경과 같은 특수 시청장치를 써야하는 것을 필요로 한다. | 편광 | 입체영상 기술 | isPartOf | 가공데이터 |
| 특허 | A220623011928 | 무안경식 디스플레이를 위한 시차 이미지의 특정한 정렬시스템 및 방법 | 특허청 | 전기전자 | 입체경(stereoscopes), 편광, 애너글리픽(anaglyphic), 펄프리치(Pulfrich), 및 셔터링(schuttering) 기술을 포함하는 입체영상 기술은 시청자가, 예를 들어, 안경과 같은 특수 시청장치를 써야하는 것을 필요로 한다. | 애너글리픽 | 입체영상 기술 | isPartOf | 가공데이터 |
| 특허 | A220623011928 | 무안경식 디스플레이를 위한 시차 이미지의 특정한 정렬시스템 및 방법 | 특허청 | 전기전자 | 입체경(stereoscopes), 편광, 애너글리픽(anaglyphic), 펄프리치(Pulfrich), 및 셔터링(schuttering) 기술을 포함하는 입체영상 기술은 시청자가, 예를 들어, 안경과 같은 특수 시청장치를 써야하는 것을 필요로 한다. | 펄프리치 | 입체영상 기술 | isPartOf | 가공데이터 |
| 특허 | A220623011928 | 무안경식 디스플레이를 위한 시차 이미지의 특정한 정렬시스템 및 방법 | 특허청 | 전기전자 | 입체경(stereoscopes), 편광, 애너글리픽(anaglyphic), 펄프리치(Pulfrich), 및 셔터링(schuttering) 기술을 포함하는 입체영상 기술은 시청자가, 예를 들어, 안경과 같은 특수 시청장치를 써야하는 것을 필요로 한다. | 셔터링 | 입체영상 기술 | isPartOf | 가공데이터 |
| 특허 | A220623011928 | 무안경식 디스플레이를 위한 시차 이미지의 특정한 정렬시스템 및 방법 | 특허청 | 전기전자 | 홀로그래피(holography), 렌티큘러 스크린(lenticular screen), 및 시차 장벽(parallax barriers)등과 같은 무안경 디스플레이 기술은 특수 안경을 사용하지 않고도 3차원 착시를 갖는 이미지를 만들지만, 이들 방법은 일반적으로 특수 스크린의 사용을 필요로 한다. | 홀로그래피 | 무안경 디스플레이 기술 | isPartOf | 가공데이터 |
| 특허 | A220623011928 | 무안경식 디스플레이를 위한 시차 이미지의 특정한 정렬시스템 및 방법 | 특허청 | 전기전자 | 홀로그래피(holography), 렌티큘러 스크린(lenticular screen), 및 시차 장벽(parallax barriers)등과 같은 무안경 디스플레이 기술은 특수 안경을 사용하지 않고도 3차원 착시를 갖는 이미지를 만들지만, 이들 방법은 일반적으로 특수 스크린의 사용을 필요로 한다. | 렌티큘러 스크린 | 무안경 디스플레이 기술 | isPartOf | 가공데이터 |
| 특허 | A220623011928 | 무안경식 디스플레이를 위한 시차 이미지의 특정한 정렬시스템 및 방법 | 특허청 | 전기전자 | 홀로그래피(holography), 렌티큘러 스크린(lenticular screen), 및 시차 장벽(parallax barriers)등과 같은 무안경 디스플레이 기술은 특수 안경을 사용하지 않고도 3차원 착시를 갖는 이미지를 만들지만, 이들 방법은 일반적으로 특수 스크린의 사용을 필요로 한다. | 시차 장벽 | 무안경 디스플레이 기술 | isPartOf | 가공데이터 |
| 특허 | A220623011928 | 무안경식 디스플레이를 위한 시차 이미지의 특정한 정렬시스템 및 방법 | 특허청 | 전기전자 | 각 눈으로부터의 2차원 망막 이미지들은 광 신경을 따라 뇌의 시각피질(visual cortex)로 전송되고, 상기 시각피질에서 상기 장면의 인식된 3차원 모델을 형성하도록, 입체시(stereopsis)로서 알려진 처리로, 이미지들이 조합된다. | 3차원 모델 | 입체시 | isCausedBy | 가공데이터 |
| 특허 | A220623011928 | 무안경식 디스플레이를 위한 시차 이미지의 특정한 정렬시스템 및 방법 | 특허청 | 전기전자 | 단안의 큐는 상대 크기, 선형 원근법, 개입(interposition), 및 명암과 같은 요소들을 포함한다. | 단안의 큐 | 상대 크기 | isPartOf | 가공데이터 |
| 특허 | A220623011928 | 무안경식 디스플레이를 위한 시차 이미지의 특정한 정렬시스템 및 방법 | 특허청 | 전기전자 | 단안의 큐는 상대 크기, 선형 원근법, 개입(interposition), 및 명암과 같은 요소들을 포함한다. | 단안의 큐 | 선형 원근법 | isPartOf | 가공데이터 |
| 특허 | A220623011928 | 무안경식 디스플레이를 위한 시차 이미지의 특정한 정렬시스템 및 방법 | 특허청 | 전기전자 | 단안의 큐는 상대 크기, 선형 원근법, 개입(interposition), 및 명암과 같은 요소들을 포함한다. | 단안의 큐 | 명암 | isPartOf | 가공데이터 |
| 특허 | A220623011928 | 무안경식 디스플레이를 위한 시차 이미지의 특정한 정렬시스템 및 방법 | 특허청 | 전기전자 | 양안의 큐는 망막 불일치(retina disparity), 원근 조절(accommodation), 수렴 및 정통한 큐(예를 들어, 주제와의 친밀함)를 포함한다. | 양안의 큐 | 망막 불일치 | isPartOf | 가공데이터 |
| 특허 | A220623011928 | 무안경식 디스플레이를 위한 시차 이미지의 특정한 정렬시스템 및 방법 | 특허청 | 전기전자 | 양안의 큐는 망막 불일치(retina disparity), 원근 조절(accommodation), 수렴 및 정통한 큐(예를 들어, 주제와의 친밀함)를 포함한다. | 양안의 큐 | 원근 조절 | isPartOf | 가공데이터 |
| 특허 | A220623011938 | ＣＵ2Ｓ의 ＭＯＣＶＤ 형성 | 특허청 | 전기전자 | 반도체 공정이라 함은 웨이퍼 표면 내부 및 위에 반도체 디바이스를 형성하는데 사용되는 제조 공정을 일컫는다. | 웨이퍼 | 반도체 공정 | isUsedFor | 가공데이터 |
| 특허 | A220623011938 | ＣＵ2Ｓ의 ＭＯＣＶＤ 형성 | 특허청 | 전기전자 | 반도체 공정이라 함은 웨이퍼 표면 내부 및 위에 반도체 디바이스를 형성하는데 사용되는 제조 공정을 일컫는다. | 반도체 디바이스 | 반도체 공정 | isCausedBy | 가공데이터 |
| 특허 | A220623011938 | ＣＵ2Ｓ의 ＭＯＣＶＤ 형성 | 특허청 | 전기전자 | 반도체 가공은 디바이스들을 제어하고, 그리고 형성하는 다수의 단계 및/또는 공정을 포함하며, 여기서 이용되는 기본적인 공정은 성막(layering), 도핑(doping), 열처리, 그리고 패턴화(patterning)를 포함한다. | 성막 | 반도체 가공 | isPartOf | 가공데이터 |
| 특허 | A220623011938 | ＣＵ2Ｓ의 ＭＯＣＶＤ 형성 | 특허청 | 전기전자 | 반도체 가공은 디바이스들을 제어하고, 그리고 형성하는 다수의 단계 및/또는 공정을 포함하며, 여기서 이용되는 기본적인 공정은 성막(layering), 도핑(doping), 열처리, 그리고 패턴화(patterning)를 포함한다. | 도핑 | 반도체 가공 | isPartOf | 가공데이터 |